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    • 1. 发明公开
    • Steuerbares Leistungs-Halbleiterbauelement
    • 可控功率半导体组件。
    • EP0283588A2
    • 1988-09-28
    • EP87119302.5
    • 1987-12-29
    • BBC Brown Boveri AG
    • Jaecklin, André, Dr.Roggwiller, Peter, Dr.Veitz, RudolfVlasak, Thomas
    • H01L29/60H01L29/10H01L29/74H01L29/36
    • H01L29/42308H01L29/0657H01L29/36H01L29/42304H01L29/744H01L2924/10157
    • Bei einem steuerbaren Leistungs-Halbleiterbauelement, welches aus einer Mehrzahl nebeneinander angeordneter, parallelge­schalteter Einzelelemente besteht, deren Steuerkontakte mit einem gemeinsamen Steueranschluss in Verbindung stehen, werden unterschiedliche Leitungswiderstände zwischen Steueranschluss und Steuerkontakten kompensiert, um eine gleichmässige Be­lastung aller Einzelelemente zu erreichen.
      Bevorzugt wird bei einem GTO-Thyristor die Kompensation über eine Einstellung des Gategraben-Widerstands (RG) in der p-Basis (3) zwischen Gatekontakt (5) und n-Emitter (2) erreicht. Zu diesem Zweck kann man den elektrisch wirksamen Gateabstand (X g ) beispielsweise durch eine genügend dicke Isolationsschicht (6) oder eine entsprechende Metallisierungs-Atzmaske verändern - Die p-Basis (3) kann auch unterschiedlich dick ausgebildet werden oder ein unterschiedliches Dotierungsprofil mittels stärker dotierter Zusatzschichten (7) aufweisen.
    • 在一个可控功率半导体元件,其由多个相邻设置的,并联连接的单独的元件的,所述控制触点连接到共同的控制端子,所述控制端子和控制触点之间的不同线路电阻被补偿,以实现所有的单个元件的均匀加载。 在栅极触点之间的p型基极(3)补偿栅极沟槽电阻器(RG)的设置优选地由(5)和n型发射极(2),用于一个GTO可控硅来实现。 用于此目的的可以是电有效栅极间距(XG),例如通过足够厚的绝缘层(6)或改变相应的金属化的蚀刻掩模的P - 型基极(3)也不同厚度形成,或者不同的掺杂分布装置更重掺杂的附加层 (7)。