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    • 9. 发明公开
    • Verfahren zur Herstellung von weitgehend HBr-freiem HCI-Gas und weitgehend HBr-freier wässriger HCI-Lösung
    • 一种用于制备主要的HBr - 自由HCl气体和基本上无的HBr-HCl水溶液处理
    • EP1318101A2
    • 2003-06-11
    • EP02027545.9
    • 2002-12-09
    • BASF AKTIENGESELLSCHAFT
    • Schläfer, Dieter, Dr.Guth, JosefSchlimper, Hans-Ulrich, Dr.
    • C01B7/07
    • C01B7/0731
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von weitgehend HBr-freiem HCl-Gas sowie weitgehend HBr-freier wäßriger HCl-Lösung, das folgende Schritte aufweist:

      a) Bereitstellen von HBr-haltigem HCl-Gas;
      b) Leiten des HBr-haltigen HCl-Gases durch an HCl gesättigte wäßrige HCl-Lösung;
      c) Abtrennen von HBr-haltiger an HCl gesättigter wäßriger HCl-Lösung;
      d) gegebenenfalls Leiten des in Schritt b) erhaltenen weitgehend HBr-freien HCl-Gases in Wasser zur Gewinnung von weitgehend HBr-freier wäßriger HCl-Lösung;
      wobei gegebenenfalls in Schritt d) erzeugte weitgehend HBr-freie wäßrige HCl-Lösung in Schritt b) des Verfahrens geführt wird.
      Durch das erfindungsgemäße Verfahren lässt sich in kostengünstiger Weise und im technischen Maßstab hochreine wäßrige HCl-Lösung für die Anwendung in der Halbleiterindustrie herstellen. Das durch die Schritte a) bis c) erhaltene gereinigte HCl-Gas lässt sich jedoch auch für beliebige andere Zwecke einsetzen. Gegenstand der Erfindung ist ebenfalls eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
    • 基本上无氢溴化氯化氢气体或wässrige溶液的制备包括:<?>(I),从而导致包括HBr气体通过盐酸饱和wässrigeHCl溶液; (ⅱ)分离出HBr的含饱和wässrigeHCl溶液; 所以和任选(ⅲ)将获得入水中以回收wässrige饱和溶液的HCl气体,任选地与再循环到步骤(i)中。 一种独立claimsoft因此包括用于所述方法包括装置:<?>(A)用于清洗用HCl饱和的wässrige溶液中的HCl气体板式塔; (B)液滴分离器; (c)产生的纯水的装置; 和(D)到吸收塔用于引入获得塔(A)和分离器(B)到净化水,从而产生游离的HBr盐酸wässrige溶液纯化的HCl气体。