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    • 7. 发明公开
    • Handhabungsvorrichtung sowie Spritzgussanlage
    • 装卸装置和注塑厂
    • EP2343177A3
    • 2013-10-30
    • EP10006764.4
    • 2010-06-30
    • Waldorf Technik GmbH & Co. KG
    • Fuhrmann, Ralf
    • B29C45/42
    • B29C45/42
    • Die Erfindung betrifft eine Handhabungsvorrichtung (1), insbesondere zum Einsatz in einer Spritzgussanlage zum Entformen mindestens eines Spritzgussteils aus einer Spritzgussform, mit einem Antriebsaggregat (2) zum Verschwenken von Funktionsmitteln (19) um eine X-Achse, wobei die Funktionsmittel (19) zusätzlich entlang einer winklig, insbesondere rechtwinklig, zur X-Achse verlaufenden Achse translatorisch verstellbar sind, und mit an einem Träger (8) gehaltenen Umwandlungsmitteln (9) zum Umwandeln einer Drehbewegung in die translatorische Verstellbewegung der Funktionsmittel (19). Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass mit dem Antriebsaggregat (2) eine Antriebswelle (3) antreibbar ist, deren Drehbewegung von den Umwandlungsmitteln (9) in die translatorische Verstellbewegung der Funktionsmittel (19) umwandelbar ist, und dass der Antriebswelle (3) eine erste Kupplung (11) zugeordnet ist, mit der der Träger (8) der Umwandlungsmittel (9) zum rotatorischen Antreiben der Funktionsmittel (19) um die X-Achse drehfest mit der Antriebswelle (3) koppelbar ist.
    • 8. 发明公开
    • Handhabungsvorrichtung sowie Spritzgussanlage
    • EP2343177A2
    • 2011-07-13
    • EP10006764.4
    • 2010-06-30
    • Waldorf Technik GmbH & Co. KG
    • Fuhrmann, Ralf
    • B29C45/42
    • B29C45/42
    • Die Erfindung betrifft eine Handhabungsvorrichtung (1), insbesondere zum Einsatz in einer Spritzgussanlage zum Entformen mindestens eines Spritzgussteils aus einer Spritzgussform, mit einem Antriebsaggregat (2) zum Verschwenken von Funktionsmitteln (19) um eine X-Achse, wobei die Funktionsmittel (19) zusätzlich entlang einer winklig, insbesondere rechtwinklig, zur X-Achse verlaufenden Achse translatorisch verstellbar sind, und mit an einem Träger (8) gehaltenen Umwandlungsmitteln (9) zum Umwandeln einer Drehbewegung in die translatorische Verstellbewegung der Funktionsmittel (19). Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass mit dem Antriebsaggregat (2) eine Antriebswelle (3) antreibbar ist, deren Drehbewegung von den Umwandlungsmitteln (9) in die translatorische Verstellbewegung der Funktionsmittel (19) umwandelbar ist, und dass der Antriebswelle (3) eine erste Kupplung (11) zugeordnet ist, mit der der Träger (8) der Umwandlungsmittel (9) zum rotatorischen Antreiben der Funktionsmittel (19) um die X-Achse drehfest mit der Antriebswelle (3) koppelbar ist.
    • 处理装置(1)具有用于围绕x轴枢转功能单元的驱动单元(2)。 驱动轴由驱动单元驱动,转换单元的旋转运动在功能单元的平移调节运动中转换。
    • 10. 发明公开
    • Zuführeinrichtung für flache Substrate, Spritzgussvorrichtung und Verfahren zum Zuführen von flachen Substraten
    • 喂养平板基板,注射成型装置和方法的装置用于将平面基底
    • EP1987937A1
    • 2008-11-05
    • EP08007627.6
    • 2008-04-18
    • Waldorf Technik GmbH & Co. KG
    • Fuhrmann, Ralf
    • B29C45/14B65H3/44
    • B29C45/14008B29C2045/14918B65H3/44B65H2555/31B65H2701/192
    • Die Erfindung betrifft eine Zuführeinrichtung(20) für flache Substrate wie Etiketten oder dgl., insbesondere zum Zuführen von flachen Substraten (25) in eine Spritzgussvorrichtung, mit einer ein oberes Magazin (24) für gestapelte flache Substrate (25) sowie eine obere Ablageposition (26) aufweisenden oberen Arbeitsebene (22) und mit einer ein unteres Magazin (27) für gestapelte Substrate (25) sowie eine untere Ablageposition (28) aufweisenden unteren Arbeitsebene (23) und mit einer ein Entnahmemittel (29) aufweisenden Handhabungseinrichtung (30) zum Entnehmen von Substraten (25) aus dem oberen und dem unteren Magazin (24, 27). Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass mit der Handhabungseinrichtung (30) sowohl ein aus dem oberen als auch ein aus dem unteren Magazin (24, 27) entnommenes Substrat (25) alternativ in der oberen oder in der unteren Ablageposition (26, 28) ablegbar ist. Ferner betrifft die Erfindung eine Spritzgussvorrichtung sowie ein Zuführverfahren.
    • 供应设备(20)具有上部贮库(24),用于堆叠的平坦的基板(25),并且在上部存放位置(26),其具有上工作电平(22)。 较低的贮库(27)被提供用于堆叠衬底,并且具有更低的工作电平(23)的下部存放位置(28)。 甲处理单元(30)被提供,其具有用于从所述上和下仓库取衬底提取单元(29)。 处理单元拍摄基板无论从上下贮库,并且在上部存放位置或在下部存放位置可选地放下。 因此独立claimsoft包括用于供给平面基底的方法。