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81. 发明公开

EP1199739A3 A device and method for suppressing space charge induced abberations in charged-particle projection lithography systems 有权
标题翻译：在Ladungsträgerteilchenstrahl光刻系统的设备和方法消除空间电荷引起的错误
公开(公告)号：EP1199739A3
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：EP01308857.0
申请日：2001-10-18
申请人： eLith LLC , Agere Systems Guardian Corporation
发明人： Katsap, Victor , Liddle, James A. , Mkrtchyan, Masis , Stanton, Stuart T.
IPC分类号： H01J37/24 , H01J37/153 , H01J37/317
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/065 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J2237/0656 , Y10S977/881 , Y10S977/887
摘要： An electron beam lithographic apparatus has an electron gun (22) providing a beam of accelerated electrons, a mask stage adapted to hold a mask in a path of the beam of accelerated electrons, and a workpiece stage adapted to hold a workpiece in a path of electrons that have traversed the mask. The electron gun (22) has a cathode (42) having an electron emission surface (52), an anode (46) adapted to be connected to a high-voltage power supply (56) to provide an electric field between the cathode and the anode to accelerate electrons emitted from the cathode toward the anode, and a current-density-profile control grid (44) disposed between the anode and the cathode. The current-density-profile control grid is configured to provide an electron gun that produces an electron beam having a non-uniform current density profile (90). A method of producing a micro-device includes generating a beam of charged particles having a non-uniform charged-particle current density, illuminating a mask with the beam of charged particles, and exposing a workpiece with charged particles from the beam of charged particles.

82. 发明公开

EP1720193A1 Anordnung für die Regelung der Elektronenstrahlleistung einer Elektronenstrahlkanone 有权转让
标题翻译： Anordnungfürdie Regelung der Elektronenstrahlleungung einer Elektronenstrahlkanone
公开(公告)号：EP1720193A1
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：EP06004324.7
申请日：2006-03-03
申请人： Applied Films GmbH & Co. KG , ALD Vacuum Technologies GmbH
发明人： Klemm, Günter , Thiede, Andreas , Schneider, Hans-Jürgen
IPC分类号： H01J37/24
CPC分类号： H01J37/242
摘要： Die Erfindung betrifft eine Anordnung für die Regelung der Elektronenstrahlleistung einer Elektronenstrahlkanone, die eine Filamentkathode (1), eine Blockkathode (2) und eine Anode (3) aufweist. Zwischen der Filamentkathode (1) und der Blockkathode (2) liegt eine erste Spannung an, während zwischen der Blockkathode (2) und der Anode (3) eine zweite Spannung anliegt. Mit Hilfe einer ersten Regelstrecke (8, 7) wird die Filamentkathode (1) auf einen konstanten Stromwert geregelt, der eine Filamenttemperatur besitzt, welche für eine maximale Strahlleistung der Blockkathode (2) ausreicht. Eine zweite Regelstrecke (17, 13, 12), die einen Blockleistungsregler (13) enthält, der mit der Differenz zwischen Blockleistungs-Istwert und Blockleistungs-Sollwert beaufschlagt ist, regelt die Spannung zwischen der Filamentkathode (1) und der Blockkathode (2).
摘要翻译：该装置具有长丝阴极（1），块阴极（2）和阳极（3）。控制器（8）调节阴极（1）的电流并将电流保持在恒定值，其中阴极中的恒定电流产生对于块状阴极的最大束电子输出足够的温度。另一个控制器（17）包含块功率控制器（13），该块功率控制器被提供实际值和块功率的参考值之间的差值。控制器（17）调节阴极之间的电压。在阴极之间提供电压，并且在块状阴极和阳极之间提供另一电压。

83. 发明授权

EP0627121B1 CHARGED PARTICLE GENERATION 失效
标题翻译：生产带电粒子
公开(公告)号：EP0627121B1
公开(公告)日：1998-04-22
申请号：EP94900227.3
申请日：1993-11-19
申请人： THE WELDING INSTITUTE
发明人： SANDERSON, Allan
IPC分类号： H01J37/24 , H02H9/02
CPC分类号： H01J37/243 , H01J2237/2485 , H01J2237/3104 , H02H9/028
摘要： Apparatus for generating a stream of charged particles, for example for use in an electron beam welding device. The apparatus includes a charged particle source (5) such as a filament and a target (6). The charged particle source (5) is connected in series with a resonant electrical circuit and the target is connected in parallel with the circuit. The source and target (5, 6) are relatively juxtaposed such that under working conditions, when the circuit is in resonance, electric current passing through the source (5) causes emission of first charged particles and the potential difference between the source (5) and the target (6) accelerates the first charged particles towards the target.

84. 发明公开

EP0750332A3 Verfahren zur Regelung des Emissionsstromes einer Elektronenquelle und Elektronenquelle mit einer Regelung des Emissionsstromes 失效
标题翻译：用于调节电子源和电子源的具有发射电流的一个控制发射电流方法
公开(公告)号：EP0750332A3
公开(公告)日：1998-04-15
申请号：EP96108482.9
申请日：1996-05-28
申请人： Carl Zeiss
发明人： Härle, Rainer
IPC分类号： H01J37/24
CPC分类号： H01J37/243
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regelung des Emissionsstromes einer Elektronenquelle und eine entsprechend geregelte Elektronenquelle. Dafür ist im Hochspannungskreis zwischen der Kathode (1) und der Steuerelektrode (2) eine Parallelschaltung aus Widerständen (6) und Feldeffekt-Transistoren (7) vorgesehen, wobei die Versorgungsspannung für die Feldeffekt-Transistoren (7) durch Spannungsteilung der über den Widerständen (6) abfallenden Spannung erzeugt wird. Die Messung des Emissionsstromes erfolgt auf Niederspannungspotential und ein aus dem Meßsignal gewonnenes Steuersignal wird optisch über eine Lichtleitfaser oder einen Lichtwellenleiter an den Regelkreis im Hochspannungsteil übertragen. Die Emissionsstromregelung kommt ohne zusätzliche Spannungsversorgungen auf Hochspannungspotential aus. Zusätzliche Isoliertransformatoren sind deshalb nicht erforderlich.
摘要翻译：该方法在调控的高电压电势的电子源（1,2,3）的发射电流。对于发射电流的测量信号在低电压电势产生。在低电压电势所产生的调节信号被光学馈送到高电压电势调节器装置。调节信号优选地经由光纤中或上光波导供给到调节器。经调节的电子源具有向电子发射阴极（1），控制电极（2）的阳极（3）和一个高电压源（4）阳极（3）和阴极（1）之间。在高电压源（4）的高电压电路的电子调节器电路（6,7）控制所述电子流。低电压电位电路（5）测量的电子流和基因率的控制信号。后者是光学馈送到调节电路。

85. 发明授权

EP0434370B1 Field emission electron device 失效
标题翻译：装置与发射的电子
公开(公告)号：EP0434370B1
公开(公告)日：1996-06-12
申请号：EP90313855.0
申请日：1990-12-18
申请人： HITACHI, LTD.
发明人： Murakosji, Hisaya , Ichihashi, Mikio , Isakozawa, Shigeto , Sato, Yuji
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/24
CPC分类号： H01J37/243 , H01J37/073

86. 发明公开

EP0465597A4 RASTER SCAN CONTROL SYSTEM FOR A CHARGED-PARTICLE BEAM 失效
标题翻译：一种充电颗粒光束的扫描扫描控制系统
公开(公告)号：EP0465597A4
公开(公告)日：1993-01-07
申请号：EP90906574
申请日：1990-03-30
申请人： LOMA LINDA UNIVERSITY MEDICAL CENTER
发明人： YOUNG, PHILLIP, E. , MC COLL, DAVID, B.
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/093 , G21K5/00 , G21K5/04 , H01J37/147 , H01J37/24 , H05H7/00 , H01J23/087 , H01J23/10
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G21K1/093 , H01J37/24
摘要： A raster scan control system (18) for use with a charged-particle beam delivery system (20) provides precise control of large currents driving an inductive load. The beam delivery system includes a nozzle through which a charged-particle beam (24), such as a proton beam, passes prior to being directed to a target (32). The nozzle includes both fast and slow sweep scan electromagnets (204, 208) that cooperate to generate a sweeping magnetic field that steers the beam along a desired raster scan pattern at the target. The electromagnets are driven by large currents (213, 215) from the raster scan control system. The raster scan control system includes both fast and slow power amplifiers (212, 214) for delivering the desired large currents to the fast and slow electromagnets, respectively; monitoring means (206, 210) for monitoring the magnetic fields; sensing means (212, 230) for sensing the large currents; feedback means for maintaining the magnetic fields and large current at desired levels; out of tolerance means for automatically causing the servo power amplifiers to steer the beam away from the target area in the event the error signal becomes excessive; a programmable raster generator (80) for providing the fast and slow power amplifiers with a raster scan signal (216, 218) that defines the desired raster pattern; and a power supply (74) for delivering the requisite power to the power amplifiers and other components.

87. 发明公开

EP0301256A3 Vorrichtung zur Modulation der Intensität eines Korpuskularstrahls 失效
标题翻译：调整一个公司的强度的设备
公开(公告)号：EP0301256A3
公开(公告)日：1990-01-31
申请号：EP88110311.3
申请日：1988-06-28
申请人： ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH , ADVANTEST CORPORATION
发明人： Winkler, Dieter, Dipl.-Ing.
IPC分类号： H01J37/24 , G01R31/28
CPC分类号： H01J37/045
摘要： Die Vorrichtung zum Pulsen eines Elektronenstrahls besteht im wesentlichen aus zwei von einer Synchronisiereinheit (CL) angesteuerten Pulsgeneratoren (BG1, BG2), einem elektronischen Laufzeitglied (LG) zur Verzögerung des von der Synchronisiereinheit (CL) erzeugten Triggersignals und zwei in der elektronenoptischen Säule des Elektronenstrahlmeßgerätes üblicherweise zwischen der Elektronenquelle (Q) und der ersten Kondensorlinse angeordneten Austastkondensatoren (AS1, AS2), die man mit Signalen (S1, S2) unterschiedlicher Frequenz (f₁, f₂) derart belegt, das pro Periode (T) des zu messenden Signals (U) jeweils nur ein Elektronenpuls die Bausteinoberfläche erreicht. Die Phasenlage der Elektronenpulse wird mit Hilfe des steuerbaren Laufzeitgliedes (LG) über den interessierenden Zeitbereich geschoben.

88. 发明公开

EP0301256A2 Vorrichtung zur Modulation der Intensität eines Korpuskularstrahls 失效
标题翻译： Vorrichtung zur Modulation derIntensitäteines Korpuskularstrahls。
公开(公告)号：EP0301256A2
公开(公告)日：1989-02-01
申请号：EP88110311.3
申请日：1988-06-28
申请人： ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH , ADVANTEST CORPORATION
发明人： Winkler, Dieter, Dipl.-Ing.
IPC分类号： H01J37/24 , G01R31/28
CPC分类号： H01J37/045
摘要： Die Vorrichtung zum Pulsen eines Elektronenstrahls besteht im wesentlichen aus zwei von einer Synchronisiereinheit (CL) angesteuerten Pulsgeneratoren (BG1, BG2), einem elektronischen Laufzeitglied (LG) zur Verzögerung des von der Synchronisiereinheit (CL) erzeugten Triggersignals und zwei in der elektronenoptischen Säule des Elektronenstrahlmeßgerätes üblicherweise zwischen der Elektronenquelle (Q) und der ersten Kondensorlinse angeordneten Austastkondensatoren (AS1, AS2), die man mit Signalen (S1, S2) unterschiedlicher Frequenz (f₁, f₂) derart belegt, das pro Periode (T) des zu messenden Signals (U) jeweils nur ein Elektronenpuls die Bausteinoberfläche erreicht. Die Phasenlage der Elektronenpulse wird mit Hilfe des steuerbaren Laufzeitgliedes (LG) über den interessierenden Zeitbereich geschoben.
摘要翻译：用于脉冲电子束的设备基本上由两个脉冲发生器（BG1，BG2）组成，由同步单元（CL）驱动，用于延迟由同步单元（CL）产生的触发信号的电子延迟构件（LG）和布置在电子束测量装置的电子光学柱中的两个采样电容器（AS1，AS2）通常在电子源（Q）和第一聚光透镜之间，电容器（AS1，AS2）被施加到不同频率（f1，f2）的信号（S1，S2），使得在每个测量的信号（U）的周期（T）中，每种情况下只有一个电子脉冲到达模块表面。借助于可控延迟构件（LG），电子脉冲的相位角在感兴趣的时间区域上移位。 ... ...

89. 发明授权

EP0168064B1 A method for determining the optimum operative conditions of an electron gun 失效
标题翻译：一种用于确定电子枪的最佳操作条件的方法
公开(公告)号：EP0168064B1
公开(公告)日：1988-11-02
申请号：EP85109319.5
申请日：1980-12-22
申请人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人： Takigawa, Tadahiro , Sasaki, Isao
IPC分类号： H01J37/304 , H01J37/24 , H01J37/06
CPC分类号： H01J37/06 , H01J37/265 , H01J37/304

90. 发明授权

EP0130379B1 Method of extending the lifetime of an electron beam filament 失效
标题翻译：延长电子束光纤寿命的方法
公开(公告)号：EP0130379B1
公开(公告)日：1988-04-20
申请号：EP84106176.5
申请日：1984-05-30
申请人： International Business Machines Corporation
发明人： Schick, Jerome David
IPC分类号： H01J37/24 , H01J1/13
CPC分类号： H01J37/242 , H01J1/135

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