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41. 发明公开

EP2616511A4 PROPYLENE-ALPHA-OLEFIN COPOLYMER COMPOSITIONS WITH IMPROVED FOAMING WINDOW 失效
标题翻译：具有改进SCHÄUMUNGSFENSTER丙烯-α-烯烃共聚物
公开(公告)号：EP2616511A4
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：EP10857128
申请日：2010-09-15
申请人： DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC , DOW CHEMICAL KOREA LTD
发明人： CHEN YONG , HUGHES MORGAN M , CHEE HO JIN , OHMURA TAKAHIKO
IPC分类号： C08L23/14 , C08J9/04 , C08K5/28 , C08K5/43 , C08K5/435 , C08L23/16 , D06N3/04
CPC分类号： C08J9/0033 , C08J9/0028 , C08J9/04 , C08J9/06 , C08J9/104 , C08J2323/16 , C08K5/005 , C08K5/43 , C08L23/142

42. 发明授权

EP2443193B1 CURABLE FLUOROELASTOMER COMPOSITIONS 有权
标题翻译：可固化的氟橡胶组合物
公开(公告)号：EP2443193B1
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：EP10789893.4
申请日：2010-04-12
申请人： E. I. du Pont de Nemours and Company , Le Centre National de la Recherche Scientifique
发明人： HUNG, Ming-Hong , AMEDURI, Bruno , TILLET, Guillaume
IPC分类号： C08L27/12 , C08K5/00 , C08K5/28 , C08K5/315
CPC分类号： C08L27/16 , C08L2205/025 , C08L71/02

43. 发明公开

EP1471084A3 Polymere für die Metallbeschichtung und Verfahren zu deren Herstellung 审中-公开
标题翻译：聚合物对金属涂层和它们的制备方法
公开(公告)号：EP1471084A3
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：EP04450076.7
申请日：2004-03-31
申请人： ARC Seibersdorf Research GmbH
发明人： Gruber, Heinrich F. , Knaus, Simone , Jauk, Sigrid , Liska, Alexander , Liska, Robert , Wendrinsky, Josef , Sattler, Peter
IPC分类号： C08J7/12 , C08J7/16 , C08F255/02 , C08F257/02 , C08F265/04 , C08F265/08 , C08F283/02 , C08F283/04 , C23C18/20 , C25D5/56 , C23C28/02 , C08J7/18 , C08L23/12 , C08L23/06 , C08L67/02 , C08L25/06 , C08L33/12 , C08L77/00 , C08L69/00 , C08L33/20 , C08F222/40 , C08K5/28 , C07C247/16 , C08F220/28
CPC分类号： C08J7/16 , C08J7/12 , C08J2323/12 , C23C2/02 , C23C18/1641 , C23C18/30 , C23C28/00 , C25D5/56
摘要： Die Erfindung betrifft ein oberflächenmodifiziertes Co-Polymer, welches einer Beschichtung mit einem haftfesten Metall-Überzug durch stromlose und/oder galvanische Abscheidung von Metallen zugänglich gemacht ist, bzw. daraus, bevorzugt durch Thermoplast-Formgebung, gefertigte Gegenstände und dgl., welches dadurch gekennzeichnet ist,
- dass mit zumindest einem - einer Metallabscheidung als solches nicht oder nur schwierig zugänglichen Grund-(Co-)Polymerisat auf Basis mindestens eines Polyolefins, Polystyrols, Polyvinylhalogenids, Poly-C 1 -C 17 -alkyl(meth)acrylats oder Polyacrylnitrils Polyethylenterephthalats, Polyacetals, Polycarbonats und/oder Polyamids, gebildet sind, wobei das Grund-(Co-)Polymerisat, entweder auf der gesamten Oberfläche oder auf jeweils für eine Metallisierung vorgesehenen Teilbereichen der Oberfläche
mit mindestens einem Maleinimid-Derivat der allgemeinen Formel I

einem aromatischen Azid der Formel II

oder einem Methacrylat bzw. Acrylat der Formel III bzw. IV

in welchen Formeln I bis IV
B für eine -O- oder -NH- Gruppe steht und in der
A die einen Rest der allgemeinen Formeln Ia, Ib, Ic und Id stehen,
radikalisch gepfropft ist.
Sie betrifft weiters die Herstellung der neuen einer Metallisierung zugänglichen , mit den genannten Maleinderivaten gepfropften Polymere bzw. Gegenstände daraus sowie die Metallisierung der neuen Polymere bzw. von Gegenständen daraus.

44. 发明公开

EP1241527A1 POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION 审中-公开
标题翻译： POSITIV ARBITENDE PHOTOEMPFINDLICHE POLYIMIDHARZ-ZUSAMMENSETZUNG
公开(公告)号：EP1241527A1
公开(公告)日：2002-09-18
申请号：EP00977917.4
申请日：2000-11-24
申请人： Nissan Chemical Industries, Ltd.
发明人： ISHII, Kazuhisa, Nissan Chemical Industries, Ltd. , NAKAYAMA, Tomonari Nissan Chemical Industries, Ltd , NIHIRA, Takayasu, Nissan Chemical Industries, Ltd. , FUKURO, Hiroyoshi Nissan Chemical Industries, Ltd.
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/038 , C08L79/08 , C08K5/28 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/02118 , C08K5/20 , C08K5/28 , C08L79/08 , G03F7/0233 , H01L21/312
摘要： A positive type photosensitive resin composition which can be developed by an aqueous alkaline solution and which is excellent in the developability and the adhesion to a substrate, is presented. Namely, the present invention presents a positive type photosensitive polyimide resin composition characterized by comprising 100 parts by weight of a solvent-soluble polyimide having repeating units represented by the formula (1) and from 1 to 50 parts by weight of a polyimide precursor having repeating units represented by the formula (2), and by further containing an o-quinonediazide compound in an amount of from 1 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the repeating units represented by the formula (1) and the repeating units represented by the formula (2):

(wherein R 1 and R 3 are bivalent organic groups, from 1 to 90 mol% of R 1 is a bivalent organic group having one or plural groups of at least one type selected from the group consisting of a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, a thiophenol group and a sulfonic group, and from 10 to 99 mol% is a bivalent organic group having no phenolic hydroxyl, carboxylic, thiophenol or sulfonic group, and R 2 and R 4 are tetravalent organic groups constituting a tetracarboxylic acid or its derivative).
摘要翻译：本发明提供一种正极型感光性树脂组合物，其可以通过碱性水溶液显影，并且显影性和与基材的粘合性优异。即，本发明提供一种正型感光性聚酰亚胺树脂组合物，其特征在于，含有100重量份具有式（1）表示的重复单元的溶剂可溶性聚酰亚胺和1〜50重量份具有重复由式（2）表示的单元和通过进一步含有相对于由式（1）表示的重复单元的总量和100重量份的式（1）表示的重量单位为1〜100重量份的邻醌二叠氮化合物和由式（2）表示的重复单元： CHEM>（其中R 1和R 3是2价有机基团，1至90摩尔％的R 1是具有一个或多个选自酚羟基，羧基，苯硫酚基和磺酸基的至少一种，10〜99摩尔％为不含酚羟基的二价有机基团，羧酸，苯硫酚或苏氨酸芳基，R 2和R 4是构成四羧酸或其衍生物的四价有机基团）。

45. 发明公开

EP0922998A1 RADIATION-SENSITIVE RESIST COMPOSITION WITH HIGH HEAT RESISTANCE 失效
标题翻译： HITZBESTÄNDIGEFOTORESISTZUSAMMENSETZUNG
公开(公告)号：EP0922998A1
公开(公告)日：1999-06-16
申请号：EP98928557.2
申请日：1998-06-18
申请人： Clariant International Ltd.
发明人： ITO, Hiromi , TANAKA, Hatsuyuki
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004 , H01L21/027 , C08K5/28 , C08L61/08 , C08G61/02
CPC分类号： C08G61/02 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/038 , G03F7/039
摘要： A radiation sensitive resist composition with high sensitivity, capable of forming a highly heat-resistant resist pattern. The radiation-sensitive resist composition contains, together with a resist material, a polymer which is obtained by reacting (a) a xylylene compound, (b) salicylic acid and (c) 9,9'-bis(hydroxyphenyl)fluorene derivatives or diol compounds of 3,3,3',3'-tetramethyl-2,3,2',3'-tetrahydro-(1,1')-spirobiindene, and which has a weight average molecular weight of 1,000 to 5,000 and Tg of 100 to 150 °C . Examples of (c) include 9,9'-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene and 3,3,3',3'-tetramathyl-2,3,2',3'-tetrahydro-(1,1')-spirobiindene-6,6'-diol. As the resist material, any of positive- and negative-working resists may be used, with that comprising an alkali-soluble resin and a quinonediazide photo-sensitizer being preferably used.
摘要翻译：具有高灵敏度的能够形成高耐热抗蚀剂图案的辐射敏感抗蚀剂组合物。辐射敏感抗蚀剂组合物与抗蚀剂材料一起含有通过使（a）亚二甲苯基化合物，（b）水杨酸和（c）9,9'-双（羟基苯基）芴衍生物或二醇 3,3,3'，3'-四甲基-2,3,2'，3'-四氢 - （1,1'） - 螺二茚的化合物，其重均分子量为1,000〜5000，Tg为 100〜150℃。（c）的实例包括9,9'-双（4-羟基苯基）芴和3,3,3'，3'-四甲基-2,3,2'，3'-四氢 - （1,1'） - 螺二茚-6,6'-二醇作为抗蚀剂材料，可以使用任何正极和负极的抗蚀剂，优选使用包含碱溶性树脂和醌二叠氮化物光敏剂的抗蚀剂。

46. 发明授权

EP0503376B1 Lösungen von Polykondensaten, welche als Struktureinheiten N-enthaltende heterocyclische Ringsysteme aufweisen, mit verbesserter Haftung auf anorganischen Substraten 失效
标题翻译：缩聚物的溶液，其具有的结构单元的含N与改进的粘合性对无机基材的杂环系
公开(公告)号：EP0503376B1
公开(公告)日：1998-07-29
申请号：EP92103313.0
申请日：1992-02-27
申请人： BASF Coatings Aktiengesellschaft
发明人： Blum, Rainer , Heller, Hans Joachim, Dr. , Haehnle, Hans-Joachim, Dr. , Lienert, Klaus, Dr.
IPC分类号： C08L79/04 , C08K5/28 , C08K5/54
CPC分类号： C08K5/544 , Y10T428/31663 , Y10T428/31721 , C08L79/04

47. 发明公开

EP0503376A3 Lösungen von Polykondensaten, welche als Struktureinheiten N-enthaltende heterocyclische Ringsysteme aufweisen, mit verbesserter Haftung auf anorganischen Substraten 失效
标题翻译：将含有N-异构体作为结构单元的多元醇的溶液显示在无机底物上的良好粘合
公开(公告)号：EP0503376A3
公开(公告)日：1993-08-25
申请号：EP92103313.0
申请日：1992-02-27
申请人： BASF Lacke + Farben AG
发明人： Blum, Rainer , Heller, Hans Joachim, Dr. , Haehnle, Hans-Joachim, Dr. , Lienert, Klaus, Dr.
IPC分类号： C08L79/04 , C08K5/28 , C08K5/54
CPC分类号： C08K5/544 , Y10T428/31663 , Y10T428/31721 , C08L79/04
摘要： Lösungen von Polykondensaten, welche als Struktureinheiten heterocyclische Ringsysteme mit N-Atomen aufweisen, oder Lösungen von Vorstufen dieser Polykondensate in organischen Lösungsmitteln, enthaltend 0,1 bis 20 Gew.-%, bezogen auf die Polykondensate oder deren Vorstufen, mindestens eines Azidosilans der allgemeinen Formel
N₃-R³-Si-R¹ n (OR²) 3-n I
worin R¹ für eine C₁-C₃-Alkyl-, eine Phenyl-, Benzyl- oder Toluylgruppe, R² für eine C₁-C₄-Alkyl-, C₂-C₄-Alkoxyalkyl-, eine Phenyl- oder Benzylgruppe, R³ für eine C₁-C₈-Alkylengruppe, welche durch ein Sauerstoffatom, Schwefelatom oder eine -(N-R⁴)-Gruppe, worin R⁴ ein Wasserstoff, eine Methyl-, Ethyl- oder Phenylgruppe bedeutet, unterbrochen sein kann, und n für 0,1 oder 2 steht.

48. 发明授权

EP2714790B1 PNEU DONT LA BANDE DE ROULEMENT COMPORTE UNE COMPOSITION DE CAOUTCHOUC THERMO-EXPANSIBLE RÉDUISANT LES BRUITS DE ROULAGE 有权转让
公开(公告)号：EP2714790B1
公开(公告)日：2020-07-08
申请号：EP12724635.3
申请日：2012-05-31
申请人： Compagnie Générale des Etablissements Michelin
发明人： SHIMANAKA, Nanae , PAGANO, Salvatore
IPC分类号： C08K5/21 , C08K5/23 , C08K5/24 , C08K5/28 , C08L9/06 , C08L21/00 , B60C1/00 , C08J9/10

49. 发明授权

EP3203320B9 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE 有权
公开(公告)号：EP3203320B9
公开(公告)日：2020-05-06
申请号：EP15847359.5
申请日：2015-09-18
申请人： Toray Industries, Inc.
发明人： TANIGAKI, Yugo , FUJIWARA, Takenori
IPC分类号： G03F7/075 , C08K3/36 , C08K5/28 , C08L83/06 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/09 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/3065 , G03F7/032

50. 发明授权

EP3224312B1 MONO-AZIDE COMPOUND FOR PHOTO-INDUCED CROSS-LINKING POLYMER STRANDS 有权转让
公开(公告)号：EP3224312B1
公开(公告)日：2020-01-08
申请号：EP15798428.7
申请日：2015-11-23
申请人： BASF SE
发明人： WU, Chao , BRUNETTI, Fulvio G. , BECKER, Stefan , HEMGESBERG, Maximilian
IPC分类号： C08J3/28 , C08F8/30 , C08L25/06 , C08K5/28 , C08K5/23 , C08K5/00

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