基本信息:
- 专利标题： RADIATION-SENSITIVE RESIST COMPOSITION WITH HIGH HEAT RESISTANCE
- 专利标题（中）：HITZBESTÄNDIGEFOTORESISTZUSAMMENSETZUNG
- 申请号：EP98928557.2 申请日：1998-06-18
- 公开(公告)号：EP0922998A1 公开(公告)日：1999-06-16
- 发明人： ITO, Hiromi , TANAKA, Hatsuyuki
- 申请人： Clariant International Ltd.
- 申请人地址： Rothausstrasse 61 4132 Muttenz 1 CH
- 专利权人： Clariant International Ltd.
- 当前专利权人： Clariant International Ltd.
- 当前专利权人地址： Rothausstrasse 61 4132 Muttenz 1 CH
- 代理机构： Hütter, Klaus, Dr.
- 优先权： JP17457897 19970630
- 国际公布： WO9900704 19990107
- 主分类号： G03F7/022
- IPC分类号： G03F7/022 ; G03F7/004 ; H01L21/027 ; C08K5/28 ; C08L61/08 ; C08G61/02
摘要：
A radiation sensitive resist composition with high sensitivity, capable of forming a highly heat-resistant resist pattern. The radiation-sensitive resist composition contains, together with a resist material, a polymer which is obtained by reacting (a) a xylylene compound, (b) salicylic acid and (c) 9,9'-bis(hydroxyphenyl)fluorene derivatives or diol compounds of 3,3,3',3'-tetramethyl-2,3,2',3'-tetrahydro-(1,1')-spirobiindene, and which has a weight average molecular weight of 1,000 to 5,000 and Tg of 100 to 150 °C . Examples of (c) include 9,9'-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene and 3,3,3',3'-tetramathyl-2,3,2',3'-tetrahydro-(1,1')-spirobiindene-6,6'-diol. As the resist material, any of positive- and negative-working resists may be used, with that comprising an alkali-soluble resin and a quinonediazide photo-sensitizer being preferably used.
摘要（中）：
具有高灵敏度的能够形成高耐热抗蚀剂图案的辐射敏感抗蚀剂组合物。 辐射敏感抗蚀剂组合物与抗蚀剂材料一起含有通过使（a）亚二甲苯基化合物，（b）水杨酸和（c）9,9'-双（羟基苯基）芴衍生物或二醇 3,3,3'，3'-四甲基-2,3,2'，3'-四氢 - （1,1'） - 螺二茚的化合物，其重均分子量为1,000〜5000，Tg为 100〜150℃。 （c）的实例包括9,9'-双（4-羟基苯基）芴和3,3,3'，3'-四甲基-2,3,2'，3'-四氢 - （1,1'） - 螺二茚-6,6'-二醇 作为抗蚀剂材料，可以使用任何正极和负极的抗蚀剂，优选使用包含碱溶性树脂和醌二叠氮化物光敏剂的抗蚀剂。