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31. 发明授权

EP2114112B1 Apparatus for industrial plasma processes 有权
标题翻译：一种用于工业等离子体工艺
公开(公告)号：EP2114112B1
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：EP08008191.2
申请日：2008-04-29
申请人： Plasmetrex GmbH
发明人： Klick, Michael, Dr. , Rothe, Ralf, Dr. , Eichhorn, Lutz
IPC分类号： H05H1/00
CPC分类号： H05H1/0081

32. 发明公开

EP2782430A4 PLASMA EVALUATION APPARATUS 失效
标题翻译：等离子体分析装置
公开(公告)号：EP2782430A4
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：EP12851481
申请日：2012-10-22
申请人： NAT INST OF ADVANCED IND SCIEN
发明人： SAKAKITA HAJIME , IKEHARA YUZURU , KIYAMA SATORU
IPC分类号： H05H1/00 , A61B17/00 , A61B18/00 , A61B18/04 , H05H1/46
CPC分类号： A61N5/1064 , A61B18/042 , A61B2017/00057 , A61B2018/00642 , A61B2018/00827 , A61B2018/00892 , H05H1/0081

33. 发明授权

EP2174671B1 PLASMA STERILIZING DEVICE AND METHOD 有权
标题翻译：装置和方法的等离子体灭菌
公开(公告)号：EP2174671B1
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：EP08792181.3
申请日：2008-08-04
申请人： SAGA UNIVERSITY
发明人： HAYASHI, Nobuya , KITAZAKI, Satoshi
IPC分类号： A61L2/14 , A61B1/12
CPC分类号： A01N1/0294 , A61L2/00 , A61L2/14 , A61L9/00 , A61L2202/24 , H05H1/0081

34. 发明公开

EP2413164A2 Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung eines Elektronenstrahldurchmessers 审中-公开
公开(公告)号：EP2413164A2
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：EP11003643.1
申请日：2011-05-04
申请人： Forschungszentrum Jülich Gmbh
发明人： Schmidt, Axel , Bürger, Andreas
IPC分类号： G01T1/29
CPC分类号： G01T1/29 , H01J47/16 , H05H1/0081
摘要： Die Erfindung betrifft eine Drahtsensoranordnung zur Messung der Strahlqualität eines Elektronenstrahls, insbesondere zur Ermittlung eines Elektronenstrahldurchmessers. Die Vorrichtung umfasst wenigstens einen elektrisch gegenüber einer Bodenplatte fest angeordneten Draht als Drahtsensor sowie ein Mittel zur Weiterleitung eines Messsignals an eine Auswerteeinheit.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Messung des Durchmessers eines Elektronenstrahls wird der zu vermessende Elektronenstrahl mit einer konstanten Geschwindigkeit senkrecht über den Messdraht geleitet. Die dadurch in dem Messdraht erzeugten Spannungsabfälle werden über einen definierten Widerstand in die Auswerteeinheit übertragen. Das zeitabhängige Messsignal des Messdrahtes wird mit Hilfe der Geschwindigkeit des Elektronenstrahls in ein ortsabhängiges Messsignal umgewandet und aus den ortsabhängigen Messsignalen des Messdrahtes wird der Strahldurchmesser des Elektronenstrahls bestimmt.
Die Geschwindigkeit des Elektronenstrahls ist dabei entweder bekannt oder kann je nach Ausführungsform des Verfahrens und der verwendeten Vorrichtung über einen Vergleich der zeitgleich aufgenommenen Messsignale wenigstens zweier Drähte, unter Zuhilfenahme des Abstandes dieser beiden Drähte, ermittelt werden.
摘要翻译：该布置具有形成为线传感器并且彼此平行地牢固地布置的两条线。电线与可冷却的基板电绝缘，并且包括将测量信号转发到评估单元的转发单元。电线由钨，钽和钼制成。每根线的直径在0.1和0.5mm之间的范围内。电线与基板牢固地连接在两个相应的陶瓷衬套（5,6）上，这些陶瓷衬套（5,6）具有相应的间隔件。电线相对于电线的中点以相等的距离布置在板上。还包括用于测量电子束直径的方法的独立权利要求。

35. 发明授权

EP1232513B1 STABILIZED OSCILLATOR CIRCUIT FOR PLASMA DENSITY MEASUREMENT 有权
标题翻译：稳定型振荡器电路，用于测量等离子体密度
公开(公告)号：EP1232513B1
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：EP00948743.0
申请日：2000-07-20
申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人： SIRKIS, Murray, D. , VERDEYEN, Joseph, T.
IPC分类号： H05H1/00
CPC分类号： H05H1/0081

36. 发明公开

EP2174671A1 PLASMA STERILIZING DEVICE AND METHOD 有权
标题翻译： VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR PLASMASTERILISATION
公开(公告)号：EP2174671A1
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：EP08792181.3
申请日：2008-08-04
申请人： SAGA UNIVERSITY
发明人： HAYASHI, Nobuya , KITAZAKI, Satoshi
IPC分类号： A61L2/14 , A61B1/12
CPC分类号： A01N1/0294 , A61L2/00 , A61L2/14 , A61L9/00 , A61L2202/24 , H05H1/0081
摘要： Provided are a plasma sterilizing device and a method for generating a plasma in an elongated thin tube constituting a sterilizing object, and performing the sterilizing treatment of the interior of the elongated thin tube. The plasma sterilizing device and a method can sterilize even an elongated thin tube of an internal diameter of 5 mm or less efficiently, can prevent the inner wall of the elongated thin tube from being damaged, can suppress the danger of a secondary infection, and can suppress the contamination of the elongated thin tube by the sputtering of an electrode. The plasma sterilizing device comprises a container (2) capable of housing an elongated thin tube (1) or a sterilizing object and adjusting the internal pressure, and an electrode (5) arranged in at least one end portion of the elongated thin tube. The plasma sterilizing device is characterized in that a plasma is generated in the elongated thin tube by applying an AC voltage to the electrode such that the internal or external pressure of the elongated thin tube is adjusted to establish a predetermined pressure difference between the inside and the outside of the elongated thin tube.
摘要翻译：本发明提供等离子灭菌装置和构成灭菌物体的细长管中产生等离子体的方法，对细长细管内部进行灭菌处理。等离子体灭菌装置和即使是内径5mm以下的细长的细管也能够有效地灭菌，能够防止细长细管的内壁受到损伤，能够抑制二次感染的危险，能够通过溅射电极来抑制细长细管的污染。等离子灭菌装置包括容纳细长细管（1）或消毒物体并调节内压的容器（2）和布置在细长细管的至少一个端部的电极（5）。等离子灭菌装置的特征在于，通过向电极施加AC电压，在细长细管中产生等离子体，使得细长细管的内部或外部压力被调整以在内部和内部之间建立预定的压力差在细长细管外面。

37. 发明公开

EP1794600A1 SONDE DE MESURE DE CARACTERISTIQUES D'UN COURANT D'EXCITATION D'UN PLASMA, ET REACTEUR A PLASMA ASSOCIE. 有权
标题翻译：用探头直流等离子体及相关等离子体反应器的快感的测量性能
公开(公告)号：EP1794600A1
公开(公告)日：2007-06-13
申请号：EP05789496.6
申请日：2005-09-15
申请人： ECOLE POLYTECHNIQUE , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE C.N.R.S)
发明人： DINE, Sébastien , JOLLY, Jacques , LAROUR, Jean, Bernard, Pierre
IPC分类号： G01R19/00 , H05H1/00
CPC分类号： H05H1/0081
摘要： The invention relates to a probe for measuring electrical characteristics of an excitation current of a plasma, said probe being mounted on a conductive line (20) that comprises an inner conductor (21) and an outer conductor (22), comprising a current sensor (41) and a voltage sensor (42), characterized in that: the current sensor comprises: a groove (410) formed in the ground of one of the conductors (22) in order to form a detour for the current flowing through said conductor, and a point for measuring electric voltage between a ground connected to said conductor and a point of the groove, said current sensor thereby being able to measure a voltage (V1) proportional to the first time derivative of intensity (Iplasma) of the excitation current. The voltage sensor (42) is a shunt sensor capable of measuring a voltage (V2) proportional to the first time derivative of the voltage (Vplasma) of the excitation current. The invention also relates to a plasma reactor comprising a probe of the aforementioned type.

38. 发明公开

EP1232513A1 STABILIZED OSCILLATOR CIRCUIT FOR PLASMA DENSITY MEASUREMENT 有权
标题翻译：稳定型振荡器电路，用于测量等离子体密度
公开(公告)号：EP1232513A1
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：EP00948743.0
申请日：2000-07-20
申请人： Tokyo Electron Limited
发明人： SIRKIS, Murray, D. , VERDEYEN, Joseph, T.
IPC分类号： H01J7/24 , H05B31/26
CPC分类号： H05H1/0081
摘要： A method and system for controlling electron densities in a plasma processing system (105). By applying a dither voltage (117) and a correction voltage to a voltage-controller oscillator (101), electron density of an open resonator plasma processing system (105) may be measured and controlled as part of a plasma-based process.

39. 发明授权

EP0792571B1 PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE D'UN FLUX D'IONS DANS UN PLASMA 有权
标题翻译：方法和设备测量ZONE河等离子
公开(公告)号：EP0792571B1
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：EP96931869.0
申请日：1996-09-18
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人： BOOTH, Jean-Paul , BRAITHWAITE, Nicholas, St John
IPC分类号： H05H1/00 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32935 , H05H1/0081

40. 发明授权

EP0619694B1 METHOD OF MONITORING ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE PLASMA 失效
标题翻译：方法用于监测ATMOSPHÄRENDRUCKGLIMMENTLADUNGSPLASMA
公开(公告)号：EP0619694B1
公开(公告)日：1997-11-05
申请号：EP92924896.1
申请日：1992-12-09
申请人： Okazaki, Satiko , OGOMA, Masuhiro
发明人： Okazaki, Satiko , OGOMA, Masuhiro
IPC分类号： H05H1/00 , C23C16/50
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/505 , C23C16/52 , H05H1/0081
摘要： The generation of glow plasma due to discharge at an atmospheric pressure and its stabilization are monitored by counting the number of current pulses. Alternatively, they are monitored by the change of a retention voltage and/or the change of the full current value besides the number of the current pulses, or by Lissajous figures, to detect the plasma state and to stabilize and control the plasma. These procedures make it possible to stabilize and monitor the atmospheric pressure glow discharge plasma accurately, rapidly and readily, and to control the plasma.

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