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热词
    • 33. 发明公开
    • Memory cell
    • 记忆细胞
    • EP1132919A2
    • 2001-09-12
    • EP01301747.0
    • 2001-02-26
    • Hewlett-Packard Company
    • Bhattacharyya, Manoj K.
    • G11C11/16G11C11/56
    • H01L43/08G11C11/16G11C11/5607G11C2211/5615G11C2211/5616
    • A multibit magnetic memory cell (400) includes first (410) and second (470) data layers. An antiferromagnetically coupled layer pair (430, 450) is disposed between the first and second data layers. In one embodiment the first and second data layers have distinct coercivities. The memory cell structure comprises a plurality of separation layers (420, 460) separating the first and second data layers and the antiferromagnetically coupled layer pair. In one embodiment, a coupling layer (440) disposed between the antiferromagnetically coupled layer pair is a metallic conductive material comprising Ruthenium (Ru) or copper (Cu). In one embodiment, separation layers (420, 460) disposed between each of the first and second data layers and the antiferromagnetically coupled pair are nonconductive such that the cell is a spin dependent tunneling magnetoresistive (TMR) cell. Alternatively, the separation layers (420, 460) are conductive such that the cell is a giant magnetoresistive (GMR) cell.
    • 多位磁存储单元(400)包括第一(410)和第二(470)数据层。 反铁磁耦合层对(430,450)设置在第一和第二数据层之间。 在一个实施例中,第一和第二数据层具有不同的矫顽力。 存储器单元结构包括分隔第一和第二数据层以及反铁磁耦合层对的多个分离层(420,460)。 在一个实施例中,设置在反铁磁耦合层对之间的耦合层(440)是包含钌(Ru)或铜(Cu)的金属导电材料。 在一个实施例中,设置在第一数据层和第二数据层中的每一个与反铁磁耦合对之间的分离层(420,460)是非导电的,使得单元是自旋相关隧穿磁阻(TMR)单元。 或者,分离层(420,460)是导电的,使得该单元是巨磁阻(GMR)单元。