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21. 发明公开

EP2179330A1 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译：照明光学系统，曝光装置及装置制造方法
公开(公告)号：EP2179330A1
公开(公告)日：2010-04-28
申请号：EP08840652.5
申请日：2008-09-12
申请人： Nikon Corporation
发明人： TANAKA, Hirohisa
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075 , G03F7/70108
摘要： An illumination optical system for illuminating an irradiated plane M with illumination light provided from a light source includes a spatial light modulator, which is arranged in an optical path of the illumination optical system and forms a desired light intensity distribution at a pupil position of the illumination optical system or a position optically conjugated with the pupil position, and a diffuser, which is arranged at an incidence side of the spatial light modulator through which the illumination light enters.
摘要翻译：一种利用从光源（1）提供的照明光照射照射平面（M）的照明光学系统包括：空间光调制器（S1），其布置在照明光学系统的光路中并形成期望的光强度分布在照明光学系统的瞳孔位置或与瞳孔位置光学共轭的位置处;以及扩散器（4），布置在照明光进入的空间光调制器的入射侧。

22. 发明公开

EP2023379A4 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：曝光装置及曝光方法
公开(公告)号：EP2023379A4
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：EP07743152
申请日：2007-05-11
申请人： NIPPON KOGAKU KK
发明人： OKITA SHINICHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B26/125 , G03F7/70075 , G03F7/70308 , G03F7/70583
摘要： An exposure apparatus illuminates a pattern on a first object (M) with an illuminating beam (EL) to expose an area to be exposed on a second object (P) with a pattern image. The exposure apparatus includes a scanning apparatus (22) that scans the first object in a prescribed scanning direction with the illuminating beam, and an optical guiding device (DK) that guides the illuminating beam which has scanned the first object onto the area to be exposed on the second object.

23. 发明公开

EP1336898A3 Exposure apparatus and method, and device fabricating method using the same 审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法以及使用该制造装置的方法相同的方法
公开(公告)号：EP1336898A3
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：EP03250721.2
申请日：2003-02-05
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： Shinoda, Kenichiro, c/o Canon Kabushiki Kaisha
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70141 , G03F7/70183 , G03F7/70191
摘要： An exposure apparatus that includes a projection optical system for exposing and transferring a pattern on a mask onto an object, and an illumination optical system for forming a secondary light source surface approximately conjugate with a pupil in the projection optical system, and for illuminating the mask, characterized in including a mechanism for making nonuniform at least one of a transmittance distribution from the secondary light source to the object and a light intensity distribution on the secondary light source surface.

24. 发明公开

EP2023379A1 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：EP2023379A1
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：EP07743152.6
申请日：2007-05-11
申请人： Nikon Corporation
发明人： OKITA, Shinichi
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B26/125 , G03F7/70075 , G03F7/70308 , G03F7/70583
摘要： An exposure apparatus illuminates a pattern on a first object (M) with an illuminating beam (EL) to expose an area to be exposed on a second object (P) with a pattern image. The exposure apparatus includes a scanning apparatus (22) that scans the first object in a prescribed scanning direction with the illuminating beam, and an optical guiding device (DK) that guides the illuminating beam which has scanned the first object onto the area to be exposed on the second object.
摘要翻译：曝光设备利用照射光束（EL）照射第一物体（M）上的图案以利用图案图像来曝光要在第二物体（P）上曝光的区域。曝光装置包括：扫描装置（22），其利用照明光束在规定的扫描方向上扫描第一物体;以及光学引导装置（DK），其将已扫描第一物体的照射光束引导到要被曝光的区域上在第二个对象上。

25. 发明授权

EP1349009B1 Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：EP1349009B1
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：EP03251611.4
申请日：2003-03-17
申请人： ASML Netherlands B.V.
发明人： Dierichs, Marcel Mathijs Theodore Marie
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70558

26. 发明公开

EP1970943A1 OPTICAL INTEGRATOR, ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, ALIGNER, AND METHOD FOR FABRICATING DEVICE 审中-公开
标题翻译： OPTISCHER INTEGRATOR，OPTISCHE BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG，BELICHTUNGSEINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BAUELEMENTEHERSTELLUNG
公开(公告)号：EP1970943A1
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：EP06823415.2
申请日：2006-11-15
申请人： NIKON CORPORATION
发明人： TANITSU, Osamu, Nikon Corporation
IPC分类号： H01L21/027 , G02B1/02 , G02B3/00
CPC分类号： G02B27/10 , G02B3/0062 , G02B3/0068 , G03F7/70075 , G03F7/70108
摘要： An optical integrator is able to keep down a light-quantity loss in modified illumination with an illumination optical apparatus. An optical integrator (4) of a wavefront division type according to the present invention has a plurality of refracting surface regions (4a, 4b) which refract incident light, and a plurality of deflecting surface regions (4c, 4d) provided corresponding to the plurality of refracting surface regions and adapted for changing a traveling direction of the incident light. The plurality of refracting surface regions include a plurality of first refracting surface regions (4a) having an arcuate contour with the center projecting in a first direction (-X-direction), and a plurality of second refracting surface regions (4b) having an arcuate contour with the center projecting in a second direction (+X-direction).
摘要翻译：光学积分器能够通过照明光学装置降低改进照明中的光量损失。根据本发明的波前分割型光学积分器（4）具有折射入射光的多个折射表面区域（4a，4b），和多个偏转表面区域（4c，4d）对应于多个折射表面区域并适于改变入射光的行进方向。多个折射表面区域包括具有中心沿第一方向（-X方向）突出的弓形轮廓的多个第一折射表面区域（4a）和具有弧形的多个第二折射表面区域轮廓与中心沿第二方向（+ X方向）突出。

27. 发明公开

EP1927892A1 Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils 有权
标题翻译：照明光学器件，用于EUV投射微光刻投射曝光设备和方法，用于制造微结构元件
公开(公告)号：EP1927892A1
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：EP07020745.1
申请日：2007-10-24
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： Warm, Berndt , Dengel, Günther
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Mikrolithographie hat neben einer Projektionsoptik zur Abbildung eines Beleuchtungsfeldes in einer Retikelebene in ein Bildfeld in einer Bildebene noch eine EUV-Lichtquelle sowie eine Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes. Die Beleuchtungsoptik hat einen Feldfacetten-Spiegel mit einer Mehrzahl von Feldfacetten zur Erzeugung von sekundären Lichtquellen, wobei die Feldfacetten jeweils Teilbündeln der EUV-Strahlung zugeordnet sind. Weiterhin hat die Beleuchtungsoptik einen Pupillenfacetten-Spiegel am Ort der vom Feldfacetten-Spiegel erzeugten sekundären Lichtquellen mit einer Mehrzahl von Pupillenfacetten, die über die ihnen zugeordneten Feldfacetten mit EUV-Strahlung beaufschlagt werden. Der Pupillenfacetten-Spiegel ist Teil einer optischen Einrichtung, die den Feldfacetten-Spiegel in die Retikelebene abbildet. Der Feldfacetten-Spiegel ist in Untereinheiten (50, 51) unterteilt, die ihrerseits Feldfacetten-Gruppen (19, 26) mit je mindestens einer Feldfacette (11) aufweisen. Eine Wechseleinrichtung (56) ist zum Austausch mindestens einer der Untereinheiten (50,51) des Feldfacetten-Spiegels gegen mindestens eine Wechsel-Untereinheit (57, 58) vorgesehen. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage, bei der ein Wechsel zwischen verschiedenen Beleuchtungssettings mit geringerem konstruktiven Aufwand möglich ist.
摘要翻译：光学器件（6）具有一个分面镜（10）包括一组被配置为产生在照明场，其中每个刻面被分配给辐射的部分光束的限定的照明设置的小平面。所述分面镜包括子单元，它们是由小面团。甲改变装置（44）互换对可互换子单元的分面镜的子单元中的一个。光瞳分面镜（13）位于由所述分面镜产生的二次光源的附近，其中该光瞳分面镜的图像中的分划板平面上的分面镜。因此独立权利要求中包括了以下内容：用于制造微结构部件（2）的微结构化的组分（1）的方法。

28. 发明公开

EP1845417A2 Beleuchtungssystem mit Zoomobjetiv 有权
公开(公告)号：EP1845417A2
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：EP07006340.9
申请日：2007-03-28
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： Singer, Wolfgang, Dr. , Ossmann, Jens
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B21/06 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70183 , G03F7/702
摘要： Die erfindung betrifft ein katoptrisches Beleuchtungssystem mit einer Lichtquelle (1), die eine Strahlung emittiert,
wobei die Strahlung ein Feld in einer Feldebene (114) ausleuchtet und gleichzeitig eine Ausleuchtung in einer Pupillenebene zur Verfügung stellt, wobei die Ausleuchtung in der Pupillenebene eine Größe aufweist, die kontinuierlich variiert werden kann.
Das Beleuchtungssystem umfasst eine Vielzahl von optischen Elementen, die derart angeordnet sind,
dass die Strahlung von der Lichtquelle (1) zur Feldebene (114) und zur Pupillenebene geleitet wird,
wobei der Abstand zwischen wenigstens zwei optischen Elementen der Vielzahl von optischen Elementen veränderbar ist
und die zwei optischen Elemente wenigstens ein facettiertes optisches Element umfassen.
摘要翻译：该系统具有分面光学元件（104）具有大量反射光栅元件的镜子，放置在另一个分面光学元件（102）旁边。镜像与大量的反射光栅元素。两个分面光学元件之间的距离（A）是变化的。该距离由沿着属于场平面（114）中的中心场点的主光线（CR）的从小平面光学元件（102）到分面光学元件（104）的光路的长度确定。使用投影曝光装置还包括用于制造微电子部件的方法的独立权利要求。

29. 发明公开

EP1835312A3 Illumination device for a microlithographic projection apparatus having an element made of uniaxial crystal and having a plurality of refractive or diffractive structures extending along an axis being parallel or perpendicular to the crystal axis 有权转让
$Illumination device for a microlithographic projection apparatus having an element made of uniaxial crystal and having a plurality of refractive or diffractive structures extending along an axis being parallel or perpendicular to the crystal axis$
标题翻译：一种用于微光刻投影设备的照明装置，其具有由单轴晶体制成的元件，并具有沿着与晶轴平行或垂直的轴延伸的多个折射或衍射结构
公开(公告)号：EP1835312A3
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：EP07103867.3
申请日：2007-03-09
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： Schuster, Karl-Heinz , Hartmaier, Jürgen , Maul, Manfred , Schmerek, Dieter , Müller, Detlev , Hahnemann, Otto , Marianek, Frank , Weiss, Gundula , Fiolka, Damian
IPC分类号： G02B1/08 , G02B3/00 , G02B27/00 , G03B27/72
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B1/02 , G02B1/08 , G02B3/005 , G02B3/0068 , G02B5/1823 , G02B5/1833 , G02B5/1838 , G02B5/1866 , G03B27/72 , G03F7/70158 , G03F7/70566 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an illumination device for a microlithographic projection exposure apparatus, comprising one first element, e.g. a lenticular lens array, a DOE or a CGH (100,200,300a,400,500a,900) having a plurality of diffractively or refractively beam-deflecting structures (120,220,320) extending in a common first preferred direction (D1), the light-conductance-increasing element having an optically uniaxial crystal material oriented in such a way that the axis (oa,oa-1) of said crystal material is either parallel or perpendicular to the first preferred direction (D1).
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投射曝光装置的照明装置，其包括一个第一元件，例如一个第二元件。双凸透镜阵列，具有沿公共第一优选方向（D1）延伸的多个衍射或折射光束偏转结构（120,220,320）的DOE或CGH（100,200,300a，400,500a，900），所述光传导增加其具有以使得所述晶体材料的轴线（oa，oa-1）与第一优选方向（D1）平行或垂直的方式定向的光学单轴晶体材料。

30. 发明公开

EP1811547A1 OPTICAL INTEGRATOR, ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译： OPTISCHER INTEGRIERER，OPTISCHE BELEUCHTUNGSVORRICHTUNG，BELICHTUNGSVORRICHTUNG UND BELICHTUNGSVERFAHREN
公开(公告)号：EP1811547A1
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：EP06712307.5
申请日：2006-01-25
申请人： NIKON CORPORATION
发明人： KOMATSUDA, Hideki c/o NIKON CORPORATION
IPC分类号： H01L21/027 , G02B13/24 , G02B17/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/002 , G02B7/16 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B19/0023 , G02B19/0028 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , G02B27/0983 , G03F7/70075 , G03F7/702
摘要： An optical integrator of a wavefront dividing type permits an arbitrary distance to be set between an entrance surface and an exit surface, without production of aberration and without reduction in reflectance on reflecting films. The optical integrator has a plurality of first focusing elements (first concave reflector elements 18a) arranged in parallel, a plurality of second focusing elements (second concave reflector elements 20a) arranged in parallel so as to correspond to the first focusing elements, and a relay optical system (19) disposed in an optical path between the first focusing elements and the second focusing elements. The relay optical system refocuses a light beam focused via one of the first focusing elements, on or near a corresponding second focusing element so as to establish an imaging relation of one-to-one correspondence between one of the first focusing elements and one of the second focusing elements.
摘要翻译：波前分割型的光学积分器允许在入射表面和出射表面之间设置任意距离，而不会产生像差并且不会降低反射膜的反射率。光学积分器具有平行配置的多个第一聚焦元件（第一凹面反射器元件18a），与第一聚焦元件对应并排布置的多个第二聚焦元件（第二凹面反射器元件20a）和继电器光学系统（19），设置在第一聚焦元件和第二聚焦元件之间的光路中。中继光学系统通过第一聚焦元件中的一个聚焦于聚焦元件上的对应的第二聚焦元件上或附近的聚焦光束，以便建立第一聚焦元件之一和其中一个之间一对一对应的成像关系第二聚焦元件。

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