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21. 发明公开

EP2164909A1 PROCESS FOR PREPARING HIGH-PURITY SILICON DIOXIDE GRANULE 审中-公开
标题翻译：工艺生产高纯度SILICIUMDIOXIDKÖRNCHEN
公开(公告)号：EP2164909A1
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：EP08802912.9
申请日：2008-06-16
申请人： Evonik Degussa GmbH
发明人： SCHUMACHER, Kai , SCHULZE-ISFORT, Christian
IPC分类号： C09C1/30 , C01B33/18 , C03C3/06 , C03C12/00
CPC分类号： C03C12/00 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/80 , C03C2201/02 , C03C2201/32 , C03C2201/3476 , C03C2201/42 , C09C1/3036
摘要： Process for preparing a silicon dioxide granule having a specific surface area of less than 1 m2 /g and a proportion of impurities of less than 50 ppm, in which a) a silicon dioxide powder with a tamped density of 15 to 190 g/l, b) is compacted to slugs which are subsequently crushed, the slug fragments having a tamped density of 210 to 800 g/l, and c) the slug fragments are treated with one or more reactive compounds at 400 to 1100 °C.

22. 发明公开

EP2145865A1 Titania-doped quartz glass member and making method 有权
标题翻译：元素aus Titandioxid-dotiertem Quarzglas und Herstellungsverfahren
公开(公告)号：EP2145865A1
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：EP09251646.7
申请日：2009-06-25
申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
发明人： Maida, Shigeru , Otsuka, Hisatoshi
IPC分类号： C03C3/06 , C03B19/14
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B23/0026 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C2201/42 , C03C2203/46 , C03C2203/52 , Y10T428/31616
摘要： In a titania-doped quartz glass member having a surface where EUV light of up to 70 nm wavelength is reflected, a refractive index distribution in the surface has only one extreme point within a central 80% region of the member. The titania-doped quartz glass member has a surface with a high level of precision and thus can be formed into an EUV lithography photomask substrate which is improved in flatness and thermal expansion properties.
摘要翻译：在具有反射高达70nm波长的EUV光的表面的二氧化钛掺杂石英玻璃构件中，表面中的折射率分布在构件的中心80％区域内仅具有一个极值点。掺杂二氧化钛的石英玻璃构件具有高精度的表面，因此可以形成为提高平面度和热膨胀性能的EUV光刻光掩模基板。

23. 发明公开

EP1665329A2 ELECTRIC LAMP COMPRISING ALUMINUM OXIDE AND CERIUM OXIDE 审中-公开
标题翻译：氧化铝和氧化铈的电灯
公开(公告)号：EP1665329A2
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：EP04769838.6
申请日：2004-08-20
申请人： Koninklijke Philips Electronics N.V.
发明人： FLINK, Simon , KRIJNEN, Simon , CUPPEN, Sebastianus, N., G. , SWART, Gerbrand, J. , WAGE, Willem , VAN DER MEULEN, Frank
IPC分类号： H01J61/02
CPC分类号： C03C4/085 , C03C3/06 , C03C2201/32 , C03C2201/3423 , C03C2201/42 , H01J61/302 , H01J61/34 , H01J61/50 , H01K1/28
摘要： The invention relates to an electric lamp provided with a light source in a light-transmitting lamp vessel which is closed in a vacuumtight manner, which light source has an envelope of light-transmitting, UV-absorbing quartz glass which comprises silicon oxide, aluminum oxide and cerium oxide, characterized in that the quartz glass of the envelope comprises the aluminum oxide and cerium oxide in a molar ratio of between 0.30 and 0.48. The invention further relates to the quartz glass which is used for said lamp.

24. 发明公开

EP1471038A2 Verfahren zur Herstellung von Glaskörpern aus dotiertem Quarzglas 审中-公开
标题翻译：一种用于生产掺杂的二氧化硅玻璃的玻璃体过程
公开(公告)号：EP1471038A2
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：EP04008387.5
申请日：2004-04-07
申请人： Schott Glas , CARL-ZEISS-STIFTUNG trading as Schott Glas
发明人： Hack, Hrabanus , Schuhmacher, Jörg , Schmidt, Matthias , Menzel, Andreas
IPC分类号： C03B19/14 , C03C3/06 , C03C4/00
CPC分类号： C03C4/0085 , C03B19/1407 , C03B19/1415 , C03B19/1469 , C03C3/06 , C03C2201/06 , C03C2201/42 , Y02P40/57
摘要： Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Glaskörpern aus dotiertem Quarzglas durch Flammenhydrolyse angegeben, bei dem mittels eines einzelnen Brenners (14), dem Brennstoff und Precursoren zur Bildung des Glases zugeführt werden, ein Formling (24) auf einem Target (28) erzeugt wird. Das so hergestellte dotierte Quarzglas zeichnet sich durch eine geringe Defektdichte und eine verringerte Schlierendicke aus. Vorzugsweise wird der Formling (24) anschließend zu einem zweiten Formling umgesenkt wird, der eine größere Breite und geringere Höhe als der erste Formling aufweist. Dadurch können die Defektdichte und die Schlierendicken weiter reduziert werden (Fig. 1).
摘要翻译：一种生产由火焰水解指定掺杂的二氧化硅玻璃的玻璃体，其中通过单个燃烧器（14）的装置，用于输送到目标上的模制（24）的玻璃形成的燃料和前体（28）生成的方法。由此制得的掺杂的石英玻璃的特征在于低的缺陷密度和厚度减小的条纹。优选地，模制（24）然后被转换降低到第二模制，其具有比所述第一模制大的宽度和更小的高度。因此，缺陷密度和舒利莱恩厚度（图1）可以被进一步减小。

25. 发明公开

EP1094990A1 METHODS FOR MAKING ULTRA-LOW EXPANSION SILICA-TITANIA GLASSES 审中-公开
标题翻译：工艺的二氧化钛石英玻璃具有超低弹丝
公开(公告)号：EP1094990A1
公开(公告)日：2001-05-02
申请号：EP99919954.0
申请日：1999-04-21
申请人： CORNING INCORPORATED
发明人： MAXON, John, E. , PAVLIK, Robert, Stephen, Jr.
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1415 , C03B2201/02 , C03B2201/42 , C03B2207/32 , C03B2207/34 , C03B2207/85 , C03C2201/42 , C03C2203/40
摘要： Ultra-low expansion silica-titania glasses are produced by flame deposition of a mixture of vaporized octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS) and vaporized titanium isopropoxide (Ti-Ipox). Ti-Ipox is vaporized by nitrogen bubbled from conduit (16) into tank (12) and OMCTS is vaporized by nitrogen bubbled from conduit (14) in tank (10). Before being mixed with the Ti-Ipox, the OMCTS is dried so that its water content is less than 2 ppm and preferably less than 1 ppm. In this way, the formation of a precipitate on the glass making equipment (e.g., burners (28), distribution manifold (26), static mixer (18), joint (13), and conduits (20, 22, 24 and 30)) is avoided. Such a precipitate if allowed to form will result in premature shutdown of the glass making process and can result in undesirable variations in the composition of the silica-titania glass being produced.

26. 发明公开

EP0582070A1 Verfahren zur Herstellung von dotiertem Glas 失效
标题翻译： Verfahren zur Herstellung von dotiertem Glas。
公开(公告)号：EP0582070A1
公开(公告)日：1994-02-09
申请号：EP93109594.7
申请日：1993-06-16
申请人： Heraeus Quarzglas GmbH
发明人： Kirchhof, Johannes, Dr. , Unger, Sonja, Dr. , Schultz, P.C., Dr. , Grezesik, Ulrich, Dr. , Fabian, Heinz
IPC分类号： C03B37/014 , C03B19/14 , C03B32/00
CPC分类号： C03B19/1453 , C03C3/06 , C03C2201/10 , C03C2201/12 , C03C2201/14 , C03C2201/28 , C03C2201/30 , C03C2201/31 , C03C2201/32 , C03C2201/40 , C03C2201/42 , C03C2203/40
摘要： Um ausgehend von den bekannten Verfahren zur Herstellung von Glas, das mit mehreren, seinen Brechungsindex unterschiedlich verändernden Dotierstoffen dotiert ist, von denen ein erster Dotierstoff bei der Herstellung eines wenigstens im zu dotierenden Bereich porösen Vorprodukts des Glases eingebracht wird und danach das den ersten Dotierstoff enthaltende Vorprodukt in einer, einen weiteren Dotierstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt wird und das Vorprodukt zu dem Glas gesintert wird, die Art und die Konzentration der Dotierstoffe im Glas in weiten Grenzen variierbar und gezielt beeinflußbar zu gestalten, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Erhitzung in einer Atmosphäre erfolgt, in der von den im chemischen Gleichgewicht zwischen dem Vorprodukt und der Atmosphäre bei der Erhitzungstemperatur vohandenen gasförmigen Komponenten ein Reaktionsprodukt mindestens des ersten und des weiteren Dotierstoffs und eine den weiteren aber nicht den ersten Dotierstoff enthaltende Dotierungs-Komponente in vorgebbaren Konzentrationen enthalten sind, wobei der Atmosphäre der erste und der weitere Dotierstoff an sich oder in Form einer Verbindung zugeführt werden.
摘要翻译：为了从已知的制造掺杂有多种掺杂剂的掺杂剂（掺杂剂）的已知方法开始，其将其折射率改变到不同程度，其中在制备多孔玻璃的前体的过程中引入第一掺杂物至少在要掺杂的区域中，并且将含有第一掺杂物的前体在含有另外的掺杂物的气氛中加热，并将前体烧结以产生玻璃，以使玻璃中的掺杂物的类型和浓度变化，可以在广泛的范围内以目标方式修改，根据本发明提出，加热在气氛中在前体与大气之间在加热温度下以化学平衡存在的气氛中进行反应产物至少第一个和第二个涂料中的至少一个掺杂组分和含有另外的掺杂剂的掺杂组分，但不是第一个掺杂物，以预定的浓度存在，其中首先和进一步的掺合物原样或以化合物的形式进料到大气中。

27. 发明公开

EP0463045A1 IMPROVED VITREOUS SILICA PRODUCTS 失效
标题翻译：玻璃硅酸钠
公开(公告)号：EP0463045A1
公开(公告)日：1992-01-02
申请号：EP90904872.0
申请日：1990-03-14
申请人： TSL GROUP PLC
发明人： WELLS, Peter, John 167 Aycliffe Crescent , SAYCE, Ian, George 21 Crabtree Road , SMITHSON, Alan 12 Pevensey Close
IPC分类号： C01B33 , C03B8 , C03B19 , C03B37 , C03C1 , C03C3
CPC分类号： C03B37/01413 , C01B33/183 , C01P2002/52 , C01P2002/54 , C01P2004/10 , C01P2004/12 , C01P2004/50 , C01P2006/10 , C01P2006/12 , C01P2006/80 , C03B19/1415 , C03B2201/08 , C03B2201/28 , C03B2201/31 , C03B2201/32 , C03B2201/42 , C03B2207/32 , C03B2207/38 , C03C1/00 , C03C3/06 , C03C2201/02 , C03C2201/06 , C03C2201/10 , C03C2201/12 , C03C2201/14 , C03C2201/32 , C03C2201/42 , C03C2203/40
摘要： On décrit un procédé permettant de fabriquer un objet de silice synthétique par l'oxydation en phase vapeur d'un matériau précurseur de silice dans une flamme, 60 % ou plus du dioxyde de silicium dans le produit déposé étant dérivé par oxydation de (A) un ou plusieurs composés de dioxyde de silicium volatile à chaîne linéaire ayant la formule générale: R3Si.O(SiR2O)n.SiR3 et/ou (B) un ou plusieurs composés de dioxyde de silicium volatils cycliques ayant la formule générale: SinOn(R)2n. On décrit également des poudres de fumées (2) dopées ou non dopées, des suies de silice poreuse ou des corps complètement densifiés obtenus grâce audit procédé.

28. 发明公开

EP0293064A3 Sol-gel method for making ultra-low expansion glass 失效
标题翻译：用于制造超低膨胀玻璃的SOL-GEL方法
公开(公告)号：EP0293064A3
公开(公告)日：1989-09-13
申请号：EP88301239.5
申请日：1988-02-15
申请人： Corning Glass Works
发明人： Shoup, Robert Donald
IPC分类号： C03B8/02 , C03C1/00 , C03C3/06 , C03C3/076
CPC分类号： C03B19/12 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C3/076 , C03C2201/42 , C03C2203/24
摘要： Ultra-low thermal expansion TiO₂-SiO₂ glasses are prepared using a sol-gel process wherein a stable alkali silicate solution comprising colloidal TiO₂ and having a pH above 9 is gelled to form a semisolid silicate gel, the gel comprising homogeneously dispersed colloidal TiO₂ but being essentially free of agglomerated TiO₂ particles, washing the gel with aqueous media to remove alkali therefrom, and finally drying and consolidating the gel to a clear, void-free TiO₂-SiO₂ glass which is substantially free of compositional inhomogeneities and has a thermal expansion coefficient below that of pure fused silica.

29. 发明授权

EP0084438B1 Method of forming glass or ceramic article 失效
标题翻译：形成玻璃或陶瓷制品的方法
公开(公告)号：EP0084438B1
公开(公告)日：1987-03-18
申请号：EP83300167.0
申请日：1983-01-13
申请人： Corning Glass Works
发明人： Scherer, George Walter
IPC分类号： C03B19/00 , C03C3/06 , C04B35/14
CPC分类号： C03B19/12 , C03C1/006 , C03C3/06 , C03C2201/02 , C03C2201/06 , C03C2201/42 , C03C2203/22

30. 发明授权

EP2878582B1 SiO2-TiO2-BASED GLASS PRODUCTION METHOD, PRODUCTION METHOD FOR PLATE-SHAPED MEMBER COMPRISING SiO2-TiO2-BASED GLASS, AND SiO2-TiO2-BASED GLASS PRODUCTION DEVICE 有权转让
公开(公告)号：EP2878582B1
公开(公告)日：2018-09-26
申请号：EP13809320.8
申请日：2013-06-27
申请人： Nikon Corporation
发明人： YOSHINARI, Toshio , SAITO, Tadahiko
IPC分类号： C03B8/04 , C03B11/00 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1415 , C03B11/00 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B19/1476 , C03B19/1492 , C03B23/0013 , C03B23/0496 , C03B32/005 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C3/04 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2201/42 , C03C2203/44 , C03C2203/52
摘要： A method for manufacturing an SiO 2 -TiO 2 based glass upon a target by a direct method, includes a first process of preheating the target and a second process of growing an SiO 2 -TiO 2 based glass ingot to a predetermined length upon the target which has been preheated, wherein the target is heated in the first process such that, in the second process, the temperature of growing surface of the glass ingot is maintained at or above a predetermined lower limit temperature.

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