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    • 23. 发明公开
    • MEMBRANE FOR A CAPACITIVE MEMS PRESSURE SENSOR AND METHOD OF FORMING A CAPACITIVE MEMS PRESSURE SENSOR
    • 用于电容式MEMS压力传感器的膜及形成电容式MEMS压力传感器的方法
    • EP3234532A1
    • 2017-10-25
    • EP15870969.1
    • 2015-12-16
    • Robert Bosch GmbH
    • FEYH, AndoO'BRIEN, Gary
    • G01L9/12G01L7/08B81B7/02B81C1/00
    • B81B7/02B81B3/007B81B3/0072B81B2201/0264B81B2203/0127B81B2207/115B81C1/00261G01L9/0042G01L9/0073
    • A capacitive micro electrical mechanical system (MEMS) pressure sensor in one embodiment includes a base layer, a lower oxide layer supported by the base layer, a contact layer extending within the lower oxide layer, a membrane layer positioned generally above the lower oxide layer, the membrane layer including at least one protrusion extending downwardly through a portion of the lower oxide layer and contacting the contact layer, a nitride layer extending partially over the membrane layer, an upper oxide layer above the nitride layer, a backplate layer directly supported by the membrane layer and positioned above the upper oxide layer, a front-side etched portion exposing a first portion of the membrane layer through the upper oxide layer and the nitride layer, and a backside etched portion extending through the base layer, the backside etched portion at least partially aligned with the front-side etched portion.
    • 在一个实施例中,电容微电子机械系统(MEMS)压力传感器包括基底层,由基底层支撑的下氧化物层,在下氧化物层内延伸的接触层,大致位于下氧化物层上方的膜层, 所述膜层包括至少一个向下延伸穿过所述下氧化物层的一部分并与所述接触层接触的突起,在所述膜层上部分地延伸的氮化物层,所述氮化物层上的上氧化物层,由所述氮化物层直接支撑的背板层 位于所述上氧化层上方的正面蚀刻部分,暴露所述膜层的第一部分穿过所述上氧化层和所述氮化物层的正面蚀刻部分,以及延伸穿过所述基层的背面蚀刻部分,所述背面蚀刻部分在 至少部分地与正面蚀刻部分对齐。
    • 26. 发明公开
    • PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE ET LADITE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE
    • 赫尔辛基(FHR)EIN MIKROMECHANISCHES UHRENBAUTEIL UND ENTSPRECHENDES MIKROMECHANISCHES UHRENBAUTEIL
    • EP3141519A1
    • 2017-03-15
    • EP15184184.8
    • 2015-09-08
    • Nivarox-FAR S.A.
    • Dubois, Philippe
    • B81B3/00G04D3/00
    • G04B15/14B81B3/007B81B2201/035B81C1/0038B81C1/00539B81C1/00547B81C1/00714B81C1/00992B81C2201/0115C09K13/00C09K13/08C23C14/0611C23C14/0652C23C14/10C23C14/12C23C16/0254C23C16/45525C25F3/02C25F3/12G04D3/0069
    • L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère à partir d'un substrat à base de silicium (1), comprenant, dans l'ordre, les étapes de :
      a) former des pores (2) à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1) d'une profondeur déterminée,
      b) remplir entièrement lesdits pores (2) d'un matériau choisi parmi le diamant, le carbone-diamant (DLC), l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, des céramiques, des polymères et leurs mélanges, afin de former dans les pores (2) une couche dudit matériau d'une épaisseur au moins égale à la profondeur des pores (2).
      L'invention concerne également une pièce micromécanique horlogère comprenant un substrat à base de silicium (1) qui présente, à la surface d'au moins une partie d'une de ses surfaces, des pores (2) d'une profondeur déterminée, lesdits pores (2) étant entièrement remplis d'une couche d'un matériau choisi parmi le diamant, le carbone-diamant (DLC), l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, des céramiques, des polymères et leurs mélanges, d'une épaisseur au moins égale à la profondeur des pores (2).
    • 一种用于制造从硅基基底开始的微机械钟表部件的方法,包括在所确定的深度的所述硅基底板的至少一部分表面的表面上形成孔,用选定的材料完全填充孔 来自金刚石,类金刚石碳,氧化硅,氮化硅,陶瓷,聚合物及其混合物,以在孔中形成至少等于孔深度的厚度的材料层。 一种微机械钟表部件,其包括硅基基板,所述硅基基板在所述硅基基板的表面的至少一部分的表面上具有确定深度的孔,所述孔被完全填充有选自以下的材料层: 金刚石,类金刚石碳,氧化硅,氮化硅,陶瓷,聚合物及其混合物,其厚度至少等于孔的深度。