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    • 26. 发明公开
    • Rolle-zu-Rolle-Fertigungsanlage und -verfahren für verkettete kontinuierliche und diskontinuierliche Verarbeitungsprozesse
    • 卷对卷制造系统和方法,用于级联连续和间歇处理操作
    • EP3009220A1
    • 2016-04-20
    • EP14189335.4
    • 2014-10-17
    • Rehm Thermal Systems GmbH
    • Kuhn, JochenOettl, Helmut
    • B23K1/00B23K1/008H05K3/34
    • B23K3/06B23K1/0016B23K1/008B23K3/04B23K2201/42H05K3/22H05K3/3494H05K2203/043H05K2203/1545H05K2203/163
    • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Endlosfertigungsanlage (100) insbesondere eine Rolle-zu-Rolle-Endlosfertigungsanlage zum Verarbeiten eines bandförmigen Substrats (101). Die Endlosfertigungsanlage umfasst eine erste Antriebseinrichtung zum Bewegen des bandförmigen Substrats in einer Transportrichtung (x) und mindestens zwei Prozesszonen (110,120, 130), durch die das bandförmige Substrat läuft, so dass unterschiedliche Bereiche des bandförmigen Substrats gleichzeitig bearbeitet werden können, wobei die mindestens zwei Prozesszonen folgendes umfassen: eine erste Prozesszone (110,120) für einen diskontinuierlichen Prozess und eine zweite Prozesszone (130) für einen kontinuierlichen Prozess, wobei der kontinuierliche Prozess mit einer Reflow-Lötprozessanordnung durchgeführt wird. Die Reflow-Lötprozessanordnung (130) umfasst mindestens eine Wärmequelle (W) und eine zweite Antriebseinrichtung zum Bewegen der Wärmequelle relativ zu der ersten Prozesszone entlang des bandförmigen Substrats. Die zweite Antriebseinrichtung ist dafür ausgelegt, die Wärmequelle (W) relativ zu der ersten Prozesszone (110,120) entlang des bandförmigen Substrats (101) entgegen der Transportrichtung (X) des bandförmigen Substrats (101) zu bewegen, selbst wenn die erste Antriebseinrichtung stillsteht.
    • 的连续制造装置(100),用于处理的带状基片(101)。 第一驱动移动基板在传输(X)的方向,并穿过处理区(110,120,130),所以没有在基板的不同区域被同时处理。 的处理区包括用于不连续的处理的第一处理区(110,120)和用于连续处理的第二处理区(130)。 的连续方法是回流焊接工艺。 回流焊接工艺(130)包括热(W)的源极和相对热的源移动到沿所述基板第一工艺区的第二驱动器。 第二驱动热(W)相对于源移动到沿相对的基板(101)的传输(X)的方向上的基片(101)与第一过程区域(110,120),即使第一驱动器是 站着不动。
    • 27. 发明公开
    • GAS-INTAKE-HOLE ARRAY STRUCTURE AND SOLDERING DEVICE
    • GASEINLASSLOCH-ARRAYSTRUKTUR UNDLÖTVORRICHTUNG
    • EP2941104A1
    • 2015-11-04
    • EP13868049.1
    • 2013-12-20
    • SENJU METAL INDUSTRY CO., LTD.
    • HIYAMA Tsutomu
    • H05K3/34B23K1/008B23K3/04B23K101/40B23K101/42
    • B05B1/005B23K1/0016B23K1/008B23K1/012B23K3/04B23K3/085F27B9/02F27B9/06F27B9/10F27D5/0037H05K3/3494H05K2203/081
    • In a gas-intake-port array structure, which enables any temperature fluctuation during conveying time of a printed circuit board, a semiconductor wafer or the like to be reduced and allows the printed circuit board and the like to be very uniformly heated or cooled, a nozzle pattern P2 is arranged to be line symmetry with a nozzle pattern P1 in one upper or lower divided section of a nozzle layout region of the nozzle cover 3 relative to a center portion that is orthogonal to a conveying direction, as shown in FIG. 1 . In order for the arrangement patterns diagonally arranged in the nozzle layout region to become identical, the nozzle pattern P1 is arranged to be line symmetry with the nozzle pattern P2 in the other upper or lower divided section. Intake ports 3b, 3c and 3d each having a predetermined opening width are arranged between two blowing nozzles 2 or more and across a first row thereof and plural other rows having different phases, in order to circulate the gas blown from the blowing nozzles 2. Widths of the intake ports 3b, 3c and 3d are set so that they are gradually become narrower with increasing distance from the center portion.
    • 在能够减少印刷电路板,半导体晶片等的传送时间期间的任何温度波动并允许印刷电路板等被非常均匀地加热或冷却的气体进气口阵列结构中, 如图3所示,喷嘴图案P2被布置成与喷嘴盖3的喷嘴布局区域的一个上部或下部分割部分中的喷嘴图案P1相对于与输送方向正交的中心部分线性对称。 1。 为了使喷嘴布局区域中对角布置的布置图案变得相同,喷嘴图案P1布置成与另一个上部或下部分割部分中的喷嘴图案P2线性对称。 每个具有预定开口宽度的进气口3b,3c和3d布置在两个吹气喷嘴2之间,并且跨越其第一排和多个具有不同相位的其它行,以便使从吹风喷嘴2吹出的气体循环。宽度 进气口3b,3c和3d设置成随着距离中心部分的距离的增加而逐渐变窄。