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21. 发明授权

EP0496203B1 Lagerstabile Lösung eines carboxylgruppenhaltigen Copolymerisats sowie Verfahren zur Herstellung von photoempfindlichen Lacken und Offsetdruckplatten 失效
标题翻译：含羧基的共聚物和过程的光敏涂层材料和胶版印刷版的制备储存稳定的溶液。
公开(公告)号：EP0496203B1
公开(公告)日：1995-05-03
申请号：EP92100165.7
申请日：1992-01-08
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Lauke, Harald, Dr. , Loerzer, Thomas, Dr. , Sanner, Axel, Dr. , Roser, Joachim, Dr.
IPC分类号： C09D4/02 , C08F265/06 , C08F230/02 , C08F299/00
CPC分类号： C08F290/126 , G03F7/033 , Y10S430/119

22. 发明公开

EP0490231A2 Polyethylenimin- und Polyvinylamin-Derivate, mit diesen Derivaten beschichtete Trägermaterialien auf der Basis von Aluminium sowie deren Verwendung zur Herstellung von Offsetdruckplatten 失效
标题翻译：涂有这些物质的衍生物及聚乙烯亚胺衍生物聚乙烯胺支持基于铝以及它们的用于胶版印刷板的制备中使用的材料。
公开(公告)号：EP0490231A2
公开(公告)日：1992-06-17
申请号：EP91120737.1
申请日：1991-12-03
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Roser, Joachim, Dr. , Mohr, Juergen, Dr. , Lange, Armin, Dr. , Oppenlaender, Knut, Dr. , Denzinger, Walter , Loerzer, Thomas, Dr.
IPC分类号： C08G73/04 , C08F26/02 , C08F30/02 , B41N3/03
CPC分类号： G03F7/11 , B41N3/036 , C08G73/0206 , G03F7/021 , G03F7/0236 , Y10T428/31692
摘要： Die Erfindung betrifft neue Polyethylenimin- und Polyvinylamin-Derivate, wobei die Polyethylenimine die Strukturelemente Ia und/oder Ib,

und die Polyvinylamine die Strukturelemente II a , Il b und II c ,

enthalten, in denen für die Polymerisationsgrade n, m und p gilt, daß

n ≧ 1,
m ≧ 0,
p ≧ 0 ist,
und

X 1 CR 1 R 2 PO 3 R 3 R 4 oder CR 1 R 2 SO 3 R 3 ,
X 2 unabhängig von X 1 ein Wasserstoffatom, CR 1 R 2 PO 3 R 3 R 4 oder CR 1 R 2 SO 3 R 3 ,
Y 1 , Y 2 unabhängig voneinander mindestens eine CHR 1 P0 3 R 3 R 4- oder CHR 1 S0 3 R 3- Gruppierung und eventuell ein Wasserstoffatom,
Y 3 , Y 4 unabhängig voneinander und von Y 1 und Y 2 Wasserstoffatome, CHR 1 P0 3 R 3 R 4- oder CHR 1 S0 3 R 3- Gruppierungen und
Z 1 -Z 4 gleiche oder verschiedene anorganische und/oder organische Reste bedeuten,
worin
R 1 , R 2 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine C 1 -C 12 -Alkylgruppe oder eine Arylgruppe,
R 3 , R 4 unabhängig voneinander ein Wasserstoff- oder Alkalimetallatom, oder aber NR 5 R 6 R 7 R 8 bedeuten, wobei R 5 bis R 8 gleiche oder ungleiche Reste sind, die aus der Gruppe Wasserstoff, Alkyl, Aryl, Hydroxyalkyl oder Benzyl gewählt sind.

Die Erfindung betrifft außerdem mit diesen Polyethyleniminen und/oder Polyvinylaminen beschichtete Trägermaterialien auf der Basis von Aluminium sowie deren Verwendung zur Herstellung von Offsetdruckplatten.
摘要翻译：本发明涉及新颖的聚乙烯亚胺和聚乙烯胺衍生物，含有结构元件Ia和/或Ib ... ...和含有该结构元件IIA，IIB和IIC ... 的聚乙烯胺的聚乙烯亚胺...其中以下说明适用于度的聚合N，m和p ...... N> / = 1，...，M> / = 0且... p> / = 0，...... ... X <1>为CR <1> [R <2> PO 3 < 3> [R <4>或CR <1> [R <2> SO 3 R <3>，... X <2>中，X的unabhängig<1>是氢原子，CR <1> [R <2> PO 3 <3> [R <4>或CR <1> [R <2> SO 3 R <3>，... Y <1>和Y <2>，彼此的unabhängig，是至少一种CHR <1> PO 3 <3> [R <4> 或CHR <1> SO 3 R <3>基和可能的氢原子，... Y <3>和Y <4>unabhängigY的一个另一个的和<1>和Y <2>，是氢原子，CHR <1 > PO 3 <3> [R <4>或CHR <1> SO 3 R <3>基团，和... Z <1> -Z <4>是相同的或不同的无机和/或有机基团，... WHERE ... - [R <1>和 [R <2>，unabhängig彼此的，是氢原子，C1-C12烷基或 Ñ芳基，和...... [R <3>和R <4>，彼此独立地，是氢原子或碱金属原子或NR <5> - [R <6> - [R <7> - [R <8>，其中R < 5>至R <8>是选自氢，烷基，芳基，羟基和苄基的的相同或不同自由基。 ...... 因此，本发明涉及涂覆有材料的合成聚乙烯亚胺和/或聚乙烯胺铝系基材，以及其用途为生产胶版印刷板。

23. 发明公开

EP0467177A1 Mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierte Vinylaromaten und ihre Verwendung 失效
标题翻译： Mit羰基氨基-N-烷烃羰基取代基Vinylaromaten und ihre Verwendung。
公开(公告)号：EP0467177A1
公开(公告)日：1992-01-22
申请号：EP91111279.5
申请日：1991-07-06
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Funhoff, Dirk, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Schulz, Guenther, Dr.
IPC分类号： C07C233/83 , G03F7/039
CPC分类号： C07D257/04 , C07C233/83 , C07C233/87 , C07C237/22 , C07C279/14 , C07C323/59 , C07D207/16 , C07D209/20 , C07D209/88 , C07D333/38 , C08F12/26 , G03F7/021
摘要： Die neuen, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierten Vinylaromaten der allgemeinen Formel I

worin der Index und die Variablen die in den Ansprüchen und in der Beschreibung näher erläuterte Bedeutung haben, können in der Reprographie verwendet werden. Vorzugsweise dienen sie der Herstellung neuer, mit Carbonylamino-N-alkancarbonsäure-Gruppen substituierter Vinylaromat-(Co)-Polymerisate, welche für die Herstellung lichtempfindlicher Aufzeichnungsschichten (B) von lichtempfindlichen Aufzeichnungselementen verwendet werden können. Die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente, deren neue lichtempfindliche Aufzeichnungsschichten (B) diese neuen Vinylaromat-(Co)Polymerisate enthalten oder hieraus bestehen, liefern durch bildmäßiges Belichten mit aktinischem Licht und Auswaschen (Entwickeln) mit wäßrig-alkalischen Entwicklerlösungsmitteln alkaliresistente Druckplatten und Photoresiste. Darüber hinaus eignen sich die neuen lichtempfindlichen Aufzeichnungselemente noch für die Herstellung positiver Abbildungen von Negativvorlagen.
摘要翻译：由羰基氨基-N-链烷羧酸基团和通式I 取代的新型乙烯基芳烃，其中索引和变量具有权利要求和说明书中详细解释的含义，可用于复制。它们优选用于制备被羰基氨基-N-烷烃羧酸基团取代并可用于制备光敏记录元件的光敏记录层（B）的新型乙烯基芳族（共）聚合物。新型感光记录层（B）含有这些新型乙烯基芳族（共）聚合物或其组成的新型感光记录元件，当用光化学光照成像曝光并用含水碱性显影剂洗涤（显影）时，得到耐碱印刷板和光致抗蚀剂。新颖的光敏记录元件也适用于产生负像的正像。

24. 发明公开

EP0453950A2 Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien 失效
标题翻译： Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien。
公开(公告)号：EP0453950A2
公开(公告)日：1991-10-30
申请号：EP91106179.4
申请日：1991-04-18
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Roser, Joachim, Dr.
IPC分类号： G03F7/023
CPC分类号： G03F7/0236
摘要： Herstellung negativer Reliefkopien durch bildmäßige Belichtung einer Aufzeichnungsplatte aus einem Träger und einer darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht, die als lichtempfindliche Verbindungen Ester der 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4- und/oder 5-sulfonsäure oder -carbonsäure enthalten, Erhitzen der belichteten Platte, vollflächiges Belichten der Platte und Entwickeln der Reliefkopie durch Herauslösen der alkalilöslichen Bestandteile aus der Aufzeichnungsschicht mittels einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung, indem die lichtempfindliche Schicht der Aufzeichnungsplatte ein Umsetzungsprodukt aus

a) 50 bis 99 Gew.-% eines oligomeren oder polymeren Kondensationsproduktes aus

a₁) 0,5 bis 1 mol eines alkyl- und/oder alkoxysubstituierten ein- bis dreiwertigen Hydroxybenzols,
a₂) 0 bis 0,5 mol Phenol und
a₃) 0,5 bis 1,5 mol einer C₁-C₁₂-Carbonylverbindung,
wobei die Summe der Mengen von a₁) und a₂) 1 mol beträgt, und
b) 1 bis 50 Gew.-% 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonsäure oder -carbonsäure oder einem funktionellen Derivat dieser Säuren,

wobei bis zu 20 Gew.-% dieser Verbindungen durch die entsprechenden Ester der 5-Sulfon- oder -Carbonsäure ersetzt sein können,
enthält.
摘要翻译：通过将包含背衬和感光层的记录板暴露于图像来生产负浮雕图像，该感光层包含作为感光性化合物的（1,2-萘醌2-重氮基）-4-和/或 - 加热曝光的板，将板暴露在整个表面上，并使用碱性显影剂水溶液从记录层中溶出碱溶性成分，从而显影浮雕图像。记录板的感光层包含a）50-99重量％的a1）0.5-1摩尔烷基 - 和/或烷氧基取代的一价至三价羟基苯的低聚或聚合缩合产物的反应产物， a2）0〜0.5mol苯酚和a3）0.5〜1.5mol C1〜C12-羰基化合物，其中a1）和a2）的总量为1mol，b）1〜50重量％的（ 1,2-萘醌2-二叠氮化物）-4-磺酸或羧酸或所述酸的官能衍生物，其中至多20重量％的所述化合物可被相应的5-磺酸或 - 羧酸。

25. 发明公开

EP0414104A2 Strahlungsempfindliches Gemisch 失效
标题翻译：。。。
公开(公告)号：EP0414104A2
公开(公告)日：1991-02-27
申请号：EP90115568.9
申请日：1990-08-14
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Seitz, Friedrich, Dr. , Beck, Erich, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Bueschges, Elenore, Dr. , Schulz, Guenther, Dr. , Zwez, Thomas, Dr.
IPC分类号： G03F7/027
CPC分类号： G03F7/039 , C08G18/2865 , C08G18/3275 , G03F7/027 , G03F7/038
摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch aus

(a) einem Harnstoffgruppen enthaltenden Umsetzungsprodukt,
(b) mindestens einer eine oder mehrere Carboxylgruppen enthaltenden organischen Verbindung,
(c) mindestens einer ein- oder mehrfach ethylenisch ungesättigten organischen Verbindung,
(d) gegebenenfalls einem Photoinitiator oder Photoinitiatorsystem,
sowie
(e) gegebenenfalls weiteren Hilfs- und Zusatzstoffen,
wobei als Komponente (a) ein Umsetzungsprodukt aus

i) mindestens einem Di- oder Polyisocyanat,
ii) mindestens einer organischen Verbindung mit mindestens einer primären oder sekundären Aminogruppe und
iii) gegebenenfalls einer oder mehreren Verbindungen mit mindestens einer Hydroxylgruppe,
eingesetzt wird.
摘要翻译：本发明涉及由（a）含脲基的反应产物，（b）至少一种含有一个或多个羧基的有机化合物，（c）至少一种烯键式单不饱和或多不饱和有机化合物的反应产物，（d）任选的光引发剂或光引发剂体系，和（e）任选的其它助剂和添加剂，由i）至少一种二异氰酸酯或多异氰酸酯组成的反应产物，ii）至少一种含有至少一个伯或仲氨基的有机化合物，和iii）至少一种或多种含有羟基的化合物用作组分（a）。

26. 发明公开

EP0414100A2 Strahlungsempfindliches, positiv arbeitendes Gemisch 失效
标题翻译： Strahlungsempfindliches，积极支持Gemisch。
公开(公告)号：EP0414100A2
公开(公告)日：1991-02-27
申请号：EP90115563.0
申请日：1990-08-14
申请人： BASF Aktiengesellschaft
发明人： Seitz, Friedrich, Dr. , Beck, Erich, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Bueschges, Eleonore, Dr. , Schulz, Guenther, Dr. , Zwez, Thomas, Dr.
IPC分类号： G03F7/032 , G03F7/039 , C08F299/06 , G03F7/027
CPC分类号： C08G18/672 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/039
摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches, positiv arbeitendes Gemisch, das besteht aus

(a) einem Harnstoff- und Urethangruppen enthaltenden ethylenisch ungesättigten Umsetzungsprodukt,
(b) mindestens einer eine oder mehrere Carboxylgruppen enthaltenden organischen Verbindung,
(c) gegebenenfalls einem Photoinititator oder Photoinitiatorsystem
sowie
(d) gegebenenfalls weiteren Zusatz- und Hilfsstoffen.
摘要翻译：本发明涉及一种光敏正性混合物，其由（a）含有尿素和氨基甲酸酯基的烯属不饱和反应产物，（b）至少一种含有一个或多个羧基的有机化合物，（c）任选的光引发剂或光引发剂体系，和（d）任选的其它添加剂和助剂。 w ^

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