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11. 发明授权

EP1111651B1 Power supply hardening for ion beam systems 有权
标题翻译：升压电源设备的Ionenimplantierungsanlagen
公开(公告)号：EP1111651B1
公开(公告)日：2003-09-03
申请号：EP00311254.7
申请日：2000-12-15
申请人： Axcelis Technologies, Inc.
发明人： Vanderberg, Bo Harald
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/24
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/241 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

12. 发明公开

EP1111651A2 Power supply hardening for ion beam systems 有权
标题翻译：兽医兽医兽医动物检疫
公开(公告)号：EP1111651A2
公开(公告)日：2001-06-27
申请号：EP00311254.7
申请日：2000-12-15
申请人： Axcelis Technologies, Inc.
发明人： Vanderberg, Bo Harald
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/24
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/241 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： The ion implantation system includes at least one power supply (102,104,106) for providing voltage to at least one electrode (82,96,98,100) and, a switching system (108) operatively coupled between the at least one power supply and the at least one electrode. The switching system decouples the at least one power supply and the at least one electrode at a predetermined threshold to mitigate overload of the at least one power supply.
摘要翻译：离子注入系统包括用于向至少一个电极（82,96,98,100）提供电压的至少一个电源（102,104,106）和可操作地耦合在所述至少一个电源和所述至少一个电源之间的开关系统（108）电极。交换系统将至少一个电源和至少一个电极分离到预定阈值以减轻至少一个电源的过载。

13. 发明公开

EP0750332A2 Verfahren zur Regelung des Emissionsstromes einer Elektronenquelle und Elektronenquelle mit einer Regelung des Emissionsstromes 失效
标题翻译：用于调节电子源和电子源的具有发射电流的一个控制发射电流方法
公开(公告)号：EP0750332A2
公开(公告)日：1996-12-27
申请号：EP96108482.9
申请日：1996-05-28
申请人： Carl Zeiss
发明人： Härle, Rainer
IPC分类号： H01J37/24
CPC分类号： H01J37/243
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regelung des Emissionsstromes einer Elektronenquelle und eine entsprechend geregelte Elektronenquelle. Dafür ist im Hochspannungskreis zwischen der Kathode (1) und der Steuerelektrode (2) eine Parallelschaltung aus Widerständen (6) und Feldeffekt-Transistoren (7) vorgesehen, wobei die Versorgungsspannung für die Feldeffekt-Transistoren (7) durch Spannungsteilung der über den Widerständen (6) abfallenden Spannung erzeugt wird. Die Messung des Emissionsstromes erfolgt auf Niederspannungspotential und ein aus dem Meßsignal gewonnenes Steuersignal wird optisch über eine Lichtleitfaser oder einen Lichtwellenleiter an den Regelkreis im Hochspannungsteil übertragen. Die Emissionsstromregelung kommt ohne zusätzliche Spannungsversorgungen auf Hochspannungspotential aus. Zusätzliche Isoliertransformatoren sind deshalb nicht erforderlich.
摘要翻译：本发明涉及一种用于调节电子源的发射电流的方法和适当控制的电子源。为此，电阻器（6）和场效应晶体管的并联电路（7）在阴极（1）和控制电极（2）之间的高电压电路，其中所述电源电压用于场效应晶体管（7）的分压（在整个电阻 6）下降的电压被生成。发射电流的测量是在低电压电势和从所述测量信号控制信号而得到的信号通过光纤或光波导在高电压部分中的控制电路的光学传输。发射电流调节并不需要在高电压的额外电源。另外的隔离变压器是不需要的。

14. 发明授权

EP0077417B1 Hochkonstanter Strahlerzeuger für geladene Teilchen 失效
标题翻译：用于充电颗粒的高稳定度光束发生器
公开(公告)号：EP0077417B1
公开(公告)日：1987-01-07
申请号：EP81108624.8
申请日：1981-10-21
申请人： DR.-ING. RUDOLF HELL GmbH
发明人： Beisswenger, Siegfried , Boppel, Wolfgang
IPC分类号： H01J37/24
CPC分类号： H01J37/243 , H01J37/06

15. 发明公开

EP0077417A1 Hochkonstanter Strahlerzeuger für geladene Teilchen 失效
标题翻译：恒定的高波束产生器，用于带电粒子。
公开(公告)号：EP0077417A1
公开(公告)日：1983-04-27
申请号：EP81108624.8
申请日：1981-10-21
申请人： DR.-ING. RUDOLF HELL GmbH
发明人： Beisswenger, Siegfried , Boppel, Wolfgang
IPC分类号： H01J37/24
CPC分类号： H01J37/243 , H01J37/06
摘要： Elsktronenstrahlerzeugungssystem mit hoher Konstanz des Strahlstroms, das eine beheizte Kathode einer auf negativerem Potential als die Kathode liegenden Hitfselektrode und eine durchbohrte Anode aufweist. Weiterhin ist eine den Strahl umgebende und mit einem Meßwiderstand verbundene Blende auf der der Kathode abgewandten Seite der Hilfselektrode vorgesehen. Durch diese Blende wird ein Teil des durch die Steuerelektrode beeinflußten Strahlstroms ausgeblendet. Der Meßwiderstand wird als Istwert-Geber mit einem an eine Referenzspannung angeschlossenen Regler verbunden, dessen Ausgang über ein Stellglied im Sinne einer Konstanthaltung des durch die Blende gemessenen Strahlstroms das Potential der Steuerelektrode beeinflußt.
摘要翻译：电子束产生系统与所述电子束电流的高恒定，包括：热式阴极一个躺在比阴极，辅助电极和一个穿孔的阳极更负的电位。此外，周边梁和连接到测量电阻器被设置在从辅助电极的阴极侧背向隔膜。通过由控制电极束电流的影响这个开口部被关闭。测量电阻被连接为与连接到它的输出影响控制电极的过在由隔膜保持恒定所测量的束电流的意义上的最终控制元件的电位的基准电压调节器的输入的实际值传感器。

16. 发明公开

EP4385055A1 CONFIGURABLE BIAS SUPPLY WITH BIDIRECTIONAL SWITCH 审中-实审
公开(公告)号：EP4385055A1
公开(公告)日：2024-06-19
申请号：EP22856600.6
申请日：2022-08-11
申请人： AES Global Holdings, Pte. Ltd.
发明人： NGUYEN, Hien Minh
IPC分类号： H01J37/24 , H01J37/32 , G05F1/56 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32174

17. 发明公开

EP3951832A1 METHOD OF ALIGNING A CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS 审中-实审
公开(公告)号：EP3951832A1
公开(公告)日：2022-02-09
申请号：EP20189256.9
申请日：2020-08-03
申请人： FEI Company
发明人： KAPLENKO, Mykola , Schoenmakers, Remco , KAPLENKO, Oleksii , MACHEK, Ondrej
IPC分类号： H01J37/24
摘要： The disclosure relates to a method of aligning a charged particle beam apparatus, comprising the steps of providing a charged particle beam apparatus in a first alignment state; using an alignment algorithm, by a processing unit, for effecting an alignment transition from said first alignment state towards a second alignment state of said charged particle beam apparatus; and providing data related to said alignment transition to a modification algorithm for modifying said alignment algorithm in order to effect a modified alignment transition.

18. 发明授权

EP3792953B1 CONTROL METHOD FOR ELECTRON MICROSCOPE AND ELECTRON MICROSCOPE 有权转让
公开(公告)号：EP3792953B1
公开(公告)日：2021-12-29
申请号：EP20195345.2
申请日：2020-09-09
发明人： KOIZUMI, Mitsuru
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/24

19. 发明公开

EP3806130A3 ELECTRON GUN AND METHOD OF ADJUSTING CURRENT OF ELECTRON GUN 审中-实审
公开(公告)号：EP3806130A3
公开(公告)日：2021-05-19
申请号：EP20199943.0
申请日：2020-10-02
申请人： Jeol Ltd.
发明人： KITAMURA, Shinichi , IWASAKI, Takuma , SATO, Takashi , KIMURA, Atsushi
IPC分类号： H01J37/075 , H01J37/09 , H01J37/24
摘要： An electron gun includes a cathode that is heated to emit thermions; a cathode heating power supply that supplies a cathode heating current for heating the cathode; a grid that has a first aperture formed therein and that has a grid voltage applied thereto, the grid voltage having a potential lower than that of the cathode, wherein the grid converges the thermions passing through the first aperture by the grid voltage; an anode that has a second aperture formed therein and that has an anode voltage applied thereto, wherein the anode causes the thermions extracted from the cathode to pass through the second aperture as an electron beam by the anode voltage; an anode-voltage power supply that applies the anode voltage to the anode; and a controller that causes the anode voltage having a positive potential to be applied from the anode-voltage power supply to the anode.

20. 发明授权

EP2511937B1 ELECTRON MICROSCOPE 有权
公开(公告)号：EP2511937B1
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：EP10835635.3
申请日：2010-10-25
申请人： Hitachi High-Technologies Corporation
发明人： KAJI, Kazutoshi
IPC分类号： H01J37/244 , G01N23/225 , H01J37/22 , H01J37/24 , H01J37/28 , G01N23/04 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/244 , G01N23/04 , G01N2223/102 , G01N2223/3037 , H01J37/26 , H01J2237/24415 , H01J2237/24485 , H01J2237/24495 , H01J2237/28
摘要： An object of the present invention relates to measurement of a quantitative element image with a high S/N ratio and measurement of an electron energy loss spectrum with high energy precision and energy resolution. The present invention relates to measurement of a characteristic X-ray spectrum obtained by correcting dead time due to excessive X rays and measurement of an electron energy loss spectrum obtained by correcting energy based on a zero loss peak in the case where the characteristic X-ray spectrum and the electron energy loss spectrum are measured by irradiating one irradiation position on a sample with an electron beam for a predetermined time while scanning the surface of the sample to observe a Z-contrast image. According to the present invention, it becomes possible to measure a quantitative element image with a high S/N ratio by a characteristic X ray, an element image with a high S/N ratio by an electron energy loss spectrum and a high energy resolution spectrum.

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