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91. 发明公开

EP1443042A1 HYBRID ONIUM SALT 有权
标题翻译：混合ONIUMSALZ
公开(公告)号：EP1443042A1
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：EP02779991.5
申请日：2002-11-01
申请人： Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
发明人： ISHIHARA, Masami , MAESAWA, Tsuneaki , URANO, Yoji
IPC分类号： C07C381/12 , C08F2/50 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C381/12 , C08F2/50 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392
摘要： The present invention relates to a hybrid type onium salt having an iodonium salt and a sulfonium salt in the molecule, useful, for example, as a cationic type photopolymerization initiator and an acid generator for a chemically amplified resist and provides a hybrid type onium salt shown by the general formula [1]:
[wherein R 1 to R 3 are each independently a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group or an amino group which may be substituted; Q 1 is a direct-linkage, an oxygen atom, a sulfur atom or a lower alkylene chain; T 1 is an alkylene group or an arylene group, which may have a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group and an amino group which may be substituted; and R 4 is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or an aralkyl group, which may have a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group and an amino group which may be substituted or a group shown by the general formula [2]:
(wherein R 5 to R 7 are each independently a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group or an amino group which may be substituted; Q 2 is a direct-linkage, an oxygen atom, a sulfur atom or a lower alkylene chain; T 2 an alkylene group or an arylene group, which may have a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group and an amino group which may be substituted; A 3 is a counter anion; m is an integer of 0 to 4; and two ns are each independently an integer of 0 to 5); A 1 and A 2 are each independently a counter anion; and m and n are the same as described above], and a polymerization initiator or an acid generator, comprising said onium salt.
摘要翻译：本发明涉及在分子中具有碘鎓盐和锍盐的杂化型鎓盐，可用于例如阳离子型光聚合引发剂和用于化学放大抗蚀剂的酸产生剂，并提供所示的杂化型鎓盐通式Ⅺ1：其中R 1至R 3各自独立地为卤素原子，烷基，卤代烷基，芳基，烷氧基，芳氧基，烷硫基，芳硫基或可被取代的氨基; Q1是直接键合，氧原子，硫原子或低级亚烷基链; T1是亚烷基或亚芳基，其可以具有选自卤素原子，烷基，卤代烷基，芳基，烷氧基，芳氧基，烷硫基，芳硫基和可以被取代的氨基; R 4为可以具有选自卤素原子，烷基，卤代烷基，芳基，芳基，芳烷基，芳烷基，芳烷基，烷氧基，芳氧基，烷硫基，芳硫基和可被取代的氨基，或由通式Ä2所示的基团：其中R 5至R 7各自独立地为卤素原子，烷基，卤代烷基，芳基，烷氧基，芳氧基，烷硫基，芳硫基或可被取代的氨基; Q2是直链，氧原子，硫原子或低级亚烷基链; T 2为亚烷基或亚芳基，其可以具有选自卤素原子，烷基，卤代烷基，芳基，烷氧基，芳氧基，烷硫基，芳硫基和可以被取代的氨基; A3是计数呃阴离子 m为0〜4的整数。并且两个ns各自独立地为0至5的整数）; A1和A2各自独立地为抗衡阴离子; 和m和n与上述相同，以及包含所述鎓盐的聚合引发剂或酸产生剂。

92. 发明授权

EP1113005B1 Sulfonium salt compounds 有权
标题翻译：锍化合物的盐
公开(公告)号：EP1113005B1
公开(公告)日：2003-08-06
申请号：EP00127570.0
申请日：2000-12-15
申请人： Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
发明人： Oono, Keiji , Fukasawa, Kazuhito , Sakamoto, Kazunori , Urano, Fumiyoshi , Sumino, Motoshige , Imazeki, Shigeaki
IPC分类号： C07C381/12 , G03F7/004
CPC分类号： C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/106

93. 发明授权

EP0728843B1 Störungsvermindertes Redox-Nachweissystem 失效
标题翻译：减少干扰氧化还原检测系统
公开(公告)号：EP0728843B1
公开(公告)日：2003-04-23
申请号：EP96100894.3
申请日：1996-01-23
申请人： Dade Behring Marburg GmbH
发明人： Habenstein, Klaus, Dr. , Zopf, Dieter , Bursch, Winfried
IPC分类号： C12Q1/26 , C12Q1/28 , C12Q1/54 , C07F9/54 , C07C211/62 , C07F9/72 , C07F9/74 , C07C381/12 , C07C391/00
CPC分类号： C07F9/723 , C07C381/12 , C07C391/00 , C07F9/5456 , C07F9/743 , C12Q1/26 , C12Q1/28 , Y10T436/144444 , Y10T436/148888

94. 发明授权

EP0985665B1 Verfahren zur Herstellung von 3-Amino-2-oxo-pyrrolidinen, Zwischenprodukte und deren Verwendung 有权
标题翻译：一种制备3-氨基-2-氧代 - 吡咯烷，中间体，和它们的使用过程中
公开(公告)号：EP0985665B1
公开(公告)日：2002-12-11
申请号：EP99116580.4
申请日：1999-08-25
申请人： Degussa AG
发明人： Drauz, Karlheinz, Prof. , Klement, Ingo, Dr. , Knaup, Günter, Dr.
IPC分类号： C07D207/26 , C07C381/12 , C07C321/14
CPC分类号： C07D207/273 , C07C381/12 , Y02P20/55

95. 发明公开

EP1164127A1 PROCESS FOR PRODUCING ONIUM SALT DERIVATIVE AND NOVEL ONIUM SALT DERIVATIVE 审中-公开
标题翻译：用于生产鎓盐衍生物和新的鎓盐衍生物
公开(公告)号：EP1164127A1
公开(公告)日：2001-12-19
申请号：EP00978041.2
申请日：2000-12-01
申请人： Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd.
发明人： TOMITA, Kyoichi Photosen. Materials Res. Lab. , ISHII, Shinji Photosensitive Materials Res. Lab.
IPC分类号： C07C305/04 , C07C309/29 , C07C309/30 , C07C309/33 , C07C309/39 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/25 , C07C25/18 , C07C381/12 , C07F9/09
CPC分类号： C07C381/12 , C07C25/02 , C07C25/18 , C07C303/24 , C07C303/32 , C07C2602/42 , C07F9/09 , C07F9/4075 , C07C309/06 , C07C309/23 , C07C309/29 , C07C309/39 , C07C309/43 , C07C305/04
摘要： The invention provides a high-yield method for producing onium salt derivatives useful as agents, such as acid-generators, employed in chemically amplified resists; and to provide novel onium salt derivatives. Reaction of an onium salt derivative containing a halide anion or a carboxylate anion with a sulfonic acid ester derivative or a phosphoric acid derivative provides an onium sulfate derivative or an onium phosphate derivative at high yield.

96. 发明公开

EP1154321A1 Chemical amplification type positive resist compositions and sulfonium salts 有权
标题翻译： Chemischverstärkende，Positob arbeitende Resistzusammensetzungen und Sulfoniumsalze
公开(公告)号：EP1154321A1
公开(公告)日：2001-11-14
申请号：EP01110179.7
申请日：2001-05-07
申请人： Sumitomo Chemical Company, Limited
发明人： Inoue, Hiroki , Uetani, Yasunori
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C07C381/12
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C381/12 , G03F7/039 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： A chemical amplifying type positive resist composition having high transmittance, superior in sensitivity and resolution in a lithography utilizing a light having a wavelength of 220 nm or lower and confering a good profile is provided, Which comprises

an aliphatic sulfonium salt represented by the following formula (I):
wherein either Q 1 , Q 2 , Q 3 and Q 4 represent an alkyl group or a cycloalkyl group, or Q 1 and Q 2 and/or Q 3 and Q 4 form, together with the adjacent sulfur atom, a heterocyclic group, and m represents an integer of 1 to 8;
at least one onium salt selected from the group consisting of a triphenylsulfonium salt and a diphenyliodonium salt; and
a resin which contains a polymerization unit having a group unstable to an acid, and which is insoluble in alkali by itself but becomes soluble in alkali by the action of an acid.
摘要翻译：提供了一种具有高透射率，灵敏度和分辨率优异的化学放大型正光刻胶组合物，其利用波长为220nm或更低的光并具有良好外形的光刻技术，其包括由下式表示的脂族锍盐 I）：其中Q 1，Q 2，Q 3和Q 4中的任一个代表烷基或环烷基，或Q 1和Q 2和/或Q 3和Q 4与相邻的硫原子一起形成杂环基，m表示1〜8的整数，至少一种选自三苯基锍盐和二苯基碘鎓盐的鎓盐; 以及包含具有对酸不稳定的基团的聚合单元的树脂，其本身不溶于碱，但通过酸的作用而溶于碱。

97. 发明公开

EP0985665A1 Verfahren zur Herstellung von 3-Amino-2-oxo-pyrrolidinen, Zwischenprodukte und deren Verwendung 有权
标题翻译： Verfahren zur Herstellung von 3-氨基-2-氧代 - 吡咯烷酮，Zwischenprodukte und deren Verwendung
公开(公告)号：EP0985665A1
公开(公告)日：2000-03-15
申请号：EP99116580.4
申请日：1999-08-25
申请人： Degussa-Hüls Aktiengesellschaft
发明人： Drauz, Karlheinz, Prof. , Klement, Ingo, Dr. , Knaup, Günter, Dr.
IPC分类号： C07D207/26 , C07C381/12 , C07C321/14
CPC分类号： C07D207/273 , C07C381/12 , Y02P20/55
摘要： Die vorliegende Erfindung richtet sich auf ein Verfahren zur Herstellung von γ-Lactamen der allgemeinen Formel I

Weiterhin betrifft die Erfindung neue vorteilhafte Zwischenprodukte der allgemeinen Formel II
und deren Verwendung.
Durch Cyclisierung von Verbindungen der allgemeinen Formel II erhält man die Verbindungen der allgemeinen Formel I.
摘要翻译：产生3-取代的甲硫氨酸衍生物（Ⅱ）的3-氨基-2-吡咯烷酮衍生物（Ⅰ）及其盐。 S-取代的甲硫氨酸（II）是新的。 3-氨基-2-吡咯烷酮衍生物（I）及其盐的制备包括S-取代的甲硫氨酸衍生物（II）的环化：R1 = H; 任选被卤素或含有N，O，P或S的基团取代的烷基，烯基，烷氧基烷基或酰基; 任选被不饱和的环烷基，任选被烷基，烯基，酰基，烷氧基，烷氧基烷基，卤素或含有N，O，P或S的基团取代且任选地含有环杂原子; 芳基，芳烷基，杂芳基或任选被烷基，烯基，炔基，酰基，烷氧基，烷氧基烷基，卤素，CN，CONH 2或含有N，O，P或S的基团环取代的杂芳烷基; 或N-键合氨基酸或肽基团; R2 = H; 任选被卤素或含有N，O，P或S的基团取代的烷基，烯基，炔基或烷氧基烷基; 任选不饱和的环烷基，任选被烷基，烯基，酰基，烷氧基，烷氧基烷基，卤素或含有N，O，P或S的基团和/或任选地含有环杂原子; 芳基，芳烷基，杂芳基或任选被烷基，烯基，炔基，酰基，烷氧基，烷氧基烷基，卤素或含有N，O，P或S的基团环取代的杂芳烷基; R3 = H; 酰基; C-键合氨基酸或肽基团; 或肽保护基; Y =任选被烷基，卤素，OH或苯基取代的亚烷基; 或任选被烷基，卤素或OH取代的芳烷基。完整定义在定义（完全定义）字段中给出。还包括以下独立权利要求：（1）式（II）的S-取代的甲硫氨酸衍生物及其加成盐; 和（2）式（II）化合物的制备。

98. 发明公开

EP0834492A2 Sulfonylimidures et sulfonylméthylures ioniques fluorés, leur procédé de préparation et leur utilisation comme photoamorceurs 失效
标题翻译：氟化离子sulfonylimides和Sulfonylmethylide，涉及它们的制备方法和它们的用途作为光引发剂Anwednung
公开(公告)号：EP0834492A2
公开(公告)日：1998-04-08
申请号：EP97402312.9
申请日：1997-10-02
申请人： HYDRO-QUEBEC
发明人： Vallee, Alain , Armand, Michel , Ollivrin, Xavier , Michot, Christophe
IPC分类号： C07C25/18 , C07C311/48 , C07C381/12 , C07F17/00 , C08F220/12 , C08F230/04 , C08G77/24 , G03F7/029 , G03F7/039
CPC分类号： C08F2/50 , C07C307/02 , C07C309/80 , C07C311/48 , C07C381/12 , C08F8/44 , C08G77/392 , C08G77/398 , G03F7/029 , G03F7/039
摘要： L'invention concerne de nouveaux composés ioniques dans lesquels la partie cationique comprend au moins un biaryliodonium, un arylsulfonium, un arylacylsulfonium, un diazonium ou un cation organométallique, et l'anion est un anion sulfonylimidure fluoré ou sulfonylméthylure fluoré.
Ces composés sont utiles comme photoamorceurs pour la polymérisation ou la réticulation cationique ou pour la modification des paramètres de solubilité de polymères utilisés notamment comme photorésists.
摘要翻译：离子化合物要求其含有至少一个A <+> X < - >其中A组<+>从biaryliodonium，arylsulphonium，arylacylsulphonium，重氮，和含过渡金属的有机金属阳离子的阳离子由至少一个4-12C络合不饱和环状化合物; 所述阳离子性基团最终成为聚合物链的一部分; 和X < - >是imiduricanionÄFSO2NSO2R'fÜ< - >，ÄRfCH2OSO2NSO2R'fÜ< - > A（RF）2CHOSO2NSO2R'fÜ< - >或methyluric阴离子ÄFSO2C（Q）SO2R'fÜ< - >，ÄRfCH2OSO2C（Q） SO2R'fÜ< - >或A（RF）2CHOSO2C（Q）SO2R'fÜ< - >; 其中Q = H，氯，氟，溴，CN，或从R“f中选择1-30C的烷基，或6-30C芳基，烷基或芳基烷基，或基团，R “FSO 2，R” fCH2OSO2，（R “F）2CHOSO2; RF，R'f，R“f为选择，当X < - >是methyluric，选自氟，1-30C全卤代烷基，2-30（全卤代烷基）烷氧基，3-30C perhalogenocycloaliphatic，可能含有杂原子和/或全卤代烷基链，和全卤代6-30C芳基;或更好，RF，从2-8C全氟烯烃选择R'f形式的二价拉德iCal中，或者更好的是，R“F，R “F，或R F，R” F所述形式二价基团大二要求保护的是：（1）制备的化合物;（2）对聚合方法或使用该化合物作为光引发剂的交联;和（3）聚合物的溶解度性质的修饰，含有酸敏感基团，它使用化合物。

99. 发明公开

EP0728843A1 Störungsvermindertes Redox-Nachweissystem 失效
标题翻译： StörungsvermindertesRedox-Nachweissystem
公开(公告)号：EP0728843A1
公开(公告)日：1996-08-28
申请号：EP96100894.3
申请日：1996-01-23
申请人： BEHRINGWERKE Aktiengesellschaft
发明人： Habenstein, Klaus, Dr. , Zopf, Dieter , Bursch, Winfried
IPC分类号： C12Q1/26 , C12Q1/28 , C12Q1/54 , C07F9/54 , C07C211/62 , C07F9/72 , C07F9/74 , C07C381/12 , C07C391/00
CPC分类号： C07F9/723 , C07C381/12 , C07C391/00 , C07F9/5456 , C07F9/743 , C12Q1/26 , C12Q1/28 , Y10T436/144444 , Y10T436/148888
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft Reagenzien und Verfahren zur Herstellung von Diagnostika, die ein chromogenes Redox-Nachweissystem verwenden und deren chromogenes Redox-Nachweissystem im wesentlichen von Störungen durch reduzierende Verbindungen in dem Probenmaterial unbeeinflußt bleibt.
摘要翻译：用于氧化还原检测系统的试剂包括高碘酸根离子和式（I）的络合物：ÄZ（Rn）Ü+ A（I）。 Z = P，N，As，S或Se; n = 4（Z为P，N或As时）或3（当Z = S或Se时）; R =苯基，苄基，烷基或环烷基（每个选自由1-8C烷基取代）; A < - > = Br < - >，I < - >，Cl < - 或F < - >。

100. 发明公开

EP0667338A1 Sulfonium salt and resist composition 失效
标题翻译： Sulfoniumsalz und Resistzusammensetzung。
公开(公告)号：EP0667338A1
公开(公告)日：1995-08-16
申请号：EP95100997.6
申请日：1995-01-25
申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人： Watanabe, Satoshi, c/o Specialty Chem. Res. Center , Shimada, Junji, c/o Specialty Chem. Res. Center , Ohsawa, Youichi, c/o Specialty Chem. Res. Center , Takemura, Katsuya, c/o Specialty Chem. Res. Center , Ishihara, Toshinobu, c/o Specialty Chem. Res. Ctr , Maruyama, Kazumasa, c/o Specialty Chem. Res. Ctr
IPC分类号： C07C381/12 , G03F7/004
CPC分类号： C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/039
摘要： A sulphonium salt is provided having the formula (1):
wherein R 1 , R 2 , and R 3 are independently substituted or unsubstituted aromatic groups, at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is a substituted aromatic group having an acid labile group, and at least one of the remaining R groups is a nitrogenous aromatic group, or all of R 1 , R 2 , and R 3 are nitrogenous aromatic groups. A chemically amplified, positive resist composition comprising the sulphonium salt as well as an alkali-soluble resin and a dissolution inhibitor in an organic solvent has solved the PED problem.
摘要翻译：提供具有式（1）的锍盐：其中R 1，R 2和R 3独立地是取代或未取代的芳族基团，其中R 1，R 2， 2>，R 3为具有酸不稳定基团的取代芳香族基团，剩余的R基中的至少一个为含氮芳族基团，或者R 1，R 2， 3>是含氮芳族基团。在有机溶剂中包含锍盐以及碱溶性树脂和溶解抑制剂的化学增幅阳性抗蚀剂组合物已经解决了PED问题。

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