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1. 发明授权

CN104380469B 纳米线官能化、分散和附着方法有权
公开(公告)号：CN104380469B
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201380030869.4
申请日：2013-04-11
申请人：索尔伏打电流公司
发明人： T.M.贾汀 , M.哈夫曼 , L.G.S.乌尔文隆德 , J.E.博里斯特伦 , U.纳西姆
IPC分类号： H01L29/66 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01L51/00 , H01L29/06 , H01L29/16 , H01L29/20 , H01L29/22
CPC分类号： H01B1/20 , B05D1/202 , B22F1/0022 , B22F1/0025 , B22F1/0062 , B29L2031/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C09D11/52 , H01B1/22 , H01B1/24 , H01L29/0676 , H01L29/16 , H01L29/20 , H01L29/22 , H01L29/66469 , H01L51/0049
摘要：提供了纳米线器件和制造纳米线器件的方法。该器件包括用不同官能化化合物官能化的许多纳米线。该方法包括用官能化化合物将纳米线官能化、将所述纳米线分散在极性或半极性溶剂中、在衬底上排列所述纳米线以使纳米线的纵轴大致垂直于衬底的主要表面取向并将所述纳米线固定到衬底上。

2. 发明公开

CN1335805A 气凝胶基板及其制造方法失效
公开(公告)号：CN1335805A
公开(公告)日：2002-02-13
申请号：CN00802504.5
申请日：2000-11-09
申请人：松下电工株式会社
发明人：横川弘 , 横山胜 , 椿健治 , 河野谦司 , 园田健二
IPC分类号： B32B9/00 , C01B33/159
CPC分类号： C23C16/045 , B05D1/202 , C03C17/34 , C03C17/3411 , C03C17/3417 , C03C17/36 , C03C17/42 , C03C2217/75 , C03C2217/76 , C03C2218/32 , C23C14/046 , C23C14/06 , G02B6/02042 , G02B6/122 , H01L33/005 , H01L33/0066 , H01L33/0079 , H01L51/5262 , H05K1/0306 , Y10S428/913 , Y10T428/24917
摘要：提供一种可用作导电性基板、绝热性基板、光导基板、发光元件用基板或发光元件等的气凝胶基板。该气凝胶基板的特征在于包含功能性层和气凝胶层,在功能性层与气凝胶层之间夹着可使功能性层均匀形成的中间层。该中间层通过气相法、L－B法或无机层状化合物的吸附等而形成于气凝胶层的至少一个表面,或者通过对气凝胶层的至少一个表面进行亲水化处理、再涂布水性涂液后干燥而形成,也可通过将气凝胶层的至少一个表面加热、退火处理而形成,还可通过对气凝胶层的至少一个表面进行亲水化处理而形成。

3. 发明公开

CN104380469A 纳米线官能化、分散和附着方法有权
公开(公告)号：CN104380469A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380030869.4
申请日：2013-04-11
申请人：索尔伏打电流公司
发明人： T.M.贾汀 , M.哈夫曼 , L.G.S.乌尔文隆德 , J.E.博里斯特伦 , U.纳西姆
IPC分类号： H01L29/66 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01L51/00 , H01L29/06 , H01L29/16 , H01L29/20 , H01L29/22
CPC分类号： H01B1/20 , B05D1/202 , B22F1/0022 , B22F1/0025 , B22F1/0062 , B29L2031/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C09D11/52 , H01B1/22 , H01B1/24 , H01L29/0676 , H01L29/16 , H01L29/20 , H01L29/22 , H01L29/66469 , H01L51/0049
摘要：提供了纳米线器件和制造纳米线器件的方法。该器件包括用不同官能化化合物官能化的许多纳米线。该方法包括用官能化化合物将纳米线官能化、将所述纳米线分散在极性或半极性溶剂中、在衬底上排列所述纳米线以使纳米线的纵轴大致垂直于衬底的主要表面取向并将所述纳米线固定到衬底上。

4. 发明公开

CN106415844A 捕获和对准纳米线的组合件的方法无效
公开(公告)号：CN106415844A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201580028477.3
申请日：2015-04-28
申请人：索尔伏打电流公司
发明人：乌梅亚尔·纳西姆 , 约翰·博里斯特伦 , 热姆·卡斯蒂略-莱昂 , 佩尔·维克隆德
IPC分类号： H01L29/06 , H01L31/0352 , B82Y10/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , B05D1/20 , H01L29/20 , H01L29/22
CPC分类号： H01L31/035227 , B05D1/202 , B82Y10/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , H01L29/0676 , H01L29/20 , H01L29/22 , H01L31/1828 , H01L31/184
摘要：一种将定向纳米线从液体界面转移到表面上的方法，其包括提供第一液体和第二液体，其中所述第一和第二液体相分离成底部相、顶部相和所述底部相与所述顶部相之间的界面；在所述第一和第二液体中提供纳米线使得大部分所述纳米线位于所述界面处并且将所述纳米线提供到衬底上，使得大部分所述纳米线在所述衬底上彼此对准。

5. 发明授权

CN1197702C 气凝胶基板及其制造方法失效
公开(公告)号：CN1197702C
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN00802504.5
申请日：2000-11-09
申请人：松下电工株式会社
发明人：横川弘 , 横山胜 , 椿健治 , 河野谦司 , 园田健二
IPC分类号： B32B9/00 , C01B33/159
CPC分类号： C23C16/045 , B05D1/202 , C03C17/34 , C03C17/3411 , C03C17/3417 , C03C17/36 , C03C17/42 , C03C2217/75 , C03C2217/76 , C03C2218/32 , C23C14/046 , C23C14/06 , G02B6/02042 , G02B6/122 , H01L33/005 , H01L33/0066 , H01L33/0079 , H01L51/5262 , H05K1/0306 , Y10S428/913 , Y10T428/24917
摘要：提供一种可用作导电性基板、绝热性基板、光导基板、发光元件用基板或发光元件等的气凝胶基板。该气凝胶基板的特征在于包含功能性层和气凝胶层，在功能性层与气凝胶层之间夹着可使功能性层均匀形成的中间层。该中间层通过气相法、L-B法或无机层状化合物的吸附等而形成于气凝胶层的至少一个表面，或者通过对气凝胶层的至少一个表面进行亲水化处理、再涂布水性涂液后干燥而形成，也可通过将气凝胶层的至少一个表面加热、退火处理而形成，还可通过对气凝胶层的至少一个表面进行亲水化处理而形成。

6. 发明授权

CN102471888B 纹理化DLC涂层的方法及由此获得的纹理化的DLC涂层失效
公开(公告)号：CN102471888B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201080028626.3
申请日：2010-06-09
申请人：原子能与替代能源委员会
发明人：卡罗琳·舒凯 , 锡德里克·迪克罗 , 杰罗姆·加维莱 , 弗雷德里克·桑谢特
IPC分类号： C23C16/56
CPC分类号： C30B33/12 , B05D1/202 , B05D1/265 , B05D1/32 , B05D3/142 , B05D2350/33 , B05D2401/32 , C23C16/26 , C23C16/56 , Y10T428/24 , Y10T428/24355
摘要：本发明涉及纹理化DLC涂层的方法，包括：在DLC涂层的自由表面上沉积球状物或球状体的单层；用氧等离子体干法蚀刻DLC涂层；和清洗所述涂层的表面以去除所述球状物或球状体。

7. 发明公开

CN102471888A 纹理化DLC涂层的方法及由此纹理化的DLC涂层失效
公开(公告)号：CN102471888A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080028626.3
申请日：2010-06-09
申请人：原子能与替代能源委员会
发明人：卡罗琳·舒凯 , 锡德里克·迪克罗 , 杰罗姆·加维莱 , 弗雷德里克·桑谢特
IPC分类号： C23C16/56
CPC分类号： C30B33/12 , B05D1/202 , B05D1/265 , B05D1/32 , B05D3/142 , B05D2350/33 , B05D2401/32 , C23C16/26 , C23C16/56 , Y10T428/24 , Y10T428/24355
摘要：本发明涉及纹理化DLC涂层的方法，包括：在DLC涂层的自由表面上沉积球状物或球状体的单层；用氧等离子体干法蚀刻DLC涂层；和清洗所述涂层的表面以去除所述球状物或球状体。

8. 发明专利

JPS6194041A Pattern forming method 失效
标题翻译：图案形成方法
公开(公告)号：JPS6194041A
公开(公告)日：1986-05-12
申请号：JP21664184
申请日：1984-10-16
申请人： Matsushita Electric Ind Co Ltd
发明人： OGAWA KAZUFUMI
IPC分类号： B05D1/18 , B05D1/20 , G03C1/00 , G03C1/72 , G03C1/74 , G03F7/075 , G03F7/09 , G03F7/16 , G03F7/26 , G03F7/38 , G11B23/087 , H01L21/027 , H01L21/30
CPC分类号： B82Y30/00 , B05D1/185 , B05D1/202 , B82Y40/00 , G03F7/0757 , G03F7/165 , G03F7/265
摘要： PURPOSE:To obtain a resin pattern having a high definition and a high etching by forming a sensitive thin film on a substrate and by radiating an energy ray in a state of the pattern, thereby exciting or unexciting a sensitive radical and then reacting the residual sensitive radical with a chemical substance having an active group. CONSTITUTION:The sensitive thin film is formed by reacting a silane surface active agent such as CH2=CH-(CH2)n-Si.Cl3 with SiO2 substrate to form a siloxane binding. When an electron beam is radiated in the state of the pattern, a vinyl group positioned in a radiation part polymerizes to form the resin. While a vinyl group positioned in an unradiation part is treated with sodium hydroxide etc. to bind a hydroxyl group with the vinyl group followed by binding the hydroxyl group with the silane surface active agent. By repeating the above described reaction, the thin film having a desired thickness is formed. Since the thin film having a sensitivity against the energy ray is formed from a monomolecular cumulating film, the very fine pattern is formed.
摘要翻译：目的：通过在基板上形成敏感性薄膜，通过在图案状态下照射能量射线来获得具有高清晰度和高蚀刻性的树脂图案，从而激发或不敏感敏感基团，然后使残留敏感的具有活性基团的化学物质。构成：敏感薄膜是通过硅烷表面活性剂如CH 2 = CH-（CH 2）n -SiCl 3与SiO 2底物反应而形成的，以形成硅氧烷结合。当以图案状态照射电子束时，位于辐射部分中的乙烯基聚合以形成树脂。当位于未辐射部分的乙烯基团用氢氧化钠等处理以将羟基与乙烯基结合，然后将羟基与硅烷表面活性剂结合时。通过重复上述反应，形成具有期望厚度的薄膜。由于具有对能量射线的敏感性的薄膜由单分子累积膜形成，所以形成极细的图案。

9. 发明授权

KR1019920010053B1 액정표시소자 및 그 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1019920010053B1
公开(公告)日：1992-11-13
申请号：KR1019880015499
申请日：1988-11-24
申请人： 파나소닉 주식회사 , 카네가후찌가가꾸고오교오가부시기가이샤
发明人： 모쯔쯔끼히데아끼 , 우에무라쯔요시 , 다무라쯔요시 , 사다니히로시 , 우에기타마사가즈 , 무라다마고또
IPC分类号： G02F1/133
CPC分类号： B05D1/202 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08G69/26 , G02F1/133711 , Y10T428/1018
摘要： 내용 없음.

10. 发明授权

KR100437526B1 에어로겔 기판 및 그 제조방법 失效
标题翻译：空值
公开(公告)号：KR100437526B1
公开(公告)日：2004-06-30
申请号：KR1020017006988
申请日：2000-11-09
申请人： 파나소닉 전공 주식회사
发明人： 요코가와히로시 , 요코야마마사루 , 쓰바키겐지 , 가와노겐지 , 소노다겐지
IPC分类号： H05K1/03
CPC分类号： C23C16/045 , B05D1/202 , C03C17/34 , C03C17/3411 , C03C17/3417 , C03C17/36 , C03C17/42 , C03C2217/75 , C03C2217/76 , C03C2218/32 , C23C14/046 , C23C14/06 , G02B6/02042 , G02B6/122 , H01L33/005 , H01L33/0066 , H01L33/0079 , H01L51/5262 , H05K1/0306 , Y10S428/913 , Y10T428/24917
摘要： 도전성 기판, 단열성 기판, 광안내경로 기판, 발광소자용 기판, 또는 발광소자 등으로서 유용한 에어로겔 기판을 제공한다.
이러한 에어로겔 기판은 기능성층 및 에어로겔층을 포함하고, 기능성층과 에어로겔층 사이에, 기능성층이 균일하게 형성되는 것을 가능하게 하는 중간층이 그 사이에 위치하는 것을 특징으로 한다. 중간층은 에어로겔층의 적어도 하나의 표면에 기상법, 랑그뮤어-블로제트 법, 또는 무기층상 화합물의 흡착 등에 의해 형성되거나, 에어로겔층의 적어도 하나의 표면을 친수화 처리한 후, 수성 코팅액을 도포하여 건조하여 형성되거나, 에어로겔층의 적어도 하나의 표면을 가열하여 어닐링 처리하여 형성되거나, 에어로겔층의 적어도 하나의 표면을 친수화 처리함으로써 형성된다.
摘要翻译：提供了可用于导电基板，绝热基板，光波导基板，发光器件用基板或发光元件的气凝胶基板。气凝胶基体的特征在于包括功能层和气凝胶层，以及形成在功能层和气凝胶层之间的中间层，以使功能层均匀地形成在其上。中间层通过气相法，Langmuir-Blodgett法或通过无机层状化合物的吸附形成在气凝胶层的至少一个表面上; 或通过对气凝胶层的至少一个表面进行亲水化处理，然后通过涂覆和干燥水性涂布液，通过对气凝胶层的至少一个表面的退火处理，或通过亲水化处理至少一个表面气凝胶层。

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