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    • 2. 发明授权
    • Method of forming patterns and apparatus for carrying out the same
    • 形成图案的方法和进行该图案的装置
    • US5331369A
    • 1994-07-19
    • US050324
    • 1993-05-18
    • Tsuneo TerasawaKatsunobu HamaSoichi Katagiri
    • Tsuneo TerasawaKatsunobu HamaSoichi Katagiri
    • G03F9/00H01L21/68G03B27/42G03B27/28G03B27/72
    • G03F9/7026H01L21/682
    • A method of forming patterns and an apparatus for carrying out the same whereby semiconductor integrated circuits and the like are manufactured using reduction projection alignment. The invention primarily involves projecting patterns of a first substrate onto the surface of a second substrate via an optical projector to form a projection image of the patterns on the second substrate surface. A phase difference pattern is furnished on the plane or its equivalent where the patterns of the first substrate are located. The phase difference pattern affords a predetermined phase difference to the light passing therethrough. Light is irradiated at the phase difference pattern via the optical projector to project the phase difference pattern onto a detecting plane in the position equivalent to the surface of the second substrate. This forms a projection image of the phase difference pattern on the detecting plane. An optical detector is used to detect the light intensity distribution of the projection image of the phase difference pattern projected onto the detecting plane. The detected light intensity distribution is represented by detection signals which are processed so as to obtain the relative positional relationship between the focal plane of the patterns and the detecting plane by use of the optical projector. Finally, the position of the second substrate is controlled so that the position of the detecting plane coincides with that of the focal plane on the basis of the relative positional relationship obtained.
    • PCT No.PCT / JP92 / 01200 Sec。 371日期:1993年5月18日 102(e)日期1993年5月18日PCT提交1992年9月21日PCT公布。 出版物WO93 / 06618 日期:1993年1月4日。一种形成图案的方法及其执行装置,由此半导体集成电路等使用缩小投影对准制造。 本发明主要涉及通过光学投影仪将第一衬底的图案投影到第二衬底的表面上以在第二衬底表面上形成图案的投影图像。 在第一基板的图案所在的平面或其等效物上提供相位差图案。 相位差图案对通过其的光提供预定的相位差。 通过光学投影仪以相位差图案照射光,以将相位差图案投影到与第二基板的表面相当的位置的检测平面上。 这就形成了检测平面上的相位差图案的投影图像。 光检测器用于检测投射到检测平面上的相位差图案的投影图像的光强度分布。 检测到的光强度分布由检测信号表示,其被处理以便通过使用光学投影仪来获得图案的焦平面与检测平面之间的相对位置关系。 最后,根据获得的相对位置关系,控制第二基板的位置,使得检测面的位置与焦平面的位置一致。