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1. 发明公开

CN109996758A 用于形成自动传输的感光聚合物波导的自下而上设备设计有权
公开(公告)号：CN109996758A
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201680090291.5
申请日：2016-10-26
申请人： HRL实验室有限责任公司
发明人：索菲亚·S·杨 , 艾伦·J·雅各布森 , 乔安娜·A·柯洛德载伊斯基 , 罗伯特·E·多提 , 威廉·卡特 , 雅各·M·亨德利
IPC分类号： B82B3/00 , B82Y40/00 , G03B27/28 , G03B27/30 , G03F1/76
摘要：一种用于制造微桁架结构的系统。储集器装纳一定量的液体感光单体，所述感光单体被配置成在暴露于如紫外光的合适的光时聚合以形成感光聚合物。在所述储集器的底部的掩模包括多个孔。光穿过各个孔从若干方向进入所述储集器，在所述储集器内形成多个自导的感光聚合物波导。光由一个或多个准直光源供应。多个镜可反射来自单一准直光源的光以形成多个准直光束，其穿过所述掩模从对应的多个方向照亮所述储集器中的所述感光单体，以形成包括多个自导的波导部件的微桁架结构。

2. 发明授权

CN1008008B 印相机纸挡片插片器失效
公开(公告)号：CN1008008B
公开(公告)日：1990-05-16
申请号：CN87106595
申请日：1987-09-28
申请人：株式会社诺日土研究中央
发明人：官脇浩
IPC分类号： G03B27/58 , G03B27/28
CPC分类号： G08B29/04 , F16P3/144 , G01V8/20 , G08B13/183 , H03K2217/94114
摘要：一种用于印相机的改进式装置，保证在将纸挡片插到印片纸的下面时，不会伤及印片纸的边缘并使其受到损坏。纸挡片边缘与摆动体部分接触，将摆动体带动。这样就将工作片掀起来，并使推压片进入工作位置。推压片的当部边缘便将印片纸的一个边缘掀起来，这样就容易将纸挡片插到印片纸的下面。当纸挡片的开孔部分通过摆动体时，工作片和弹性推压片便由于重力作用而回复到非工作位置。

3. 发明授权

CN1005293B 控制自动照相排字机连续地操作的方法和装置失效
公开(公告)号：CN1005293B
公开(公告)日：1989-09-27
申请号：CN85107827
申请日：1985-10-25
申请人：有限会社加茂电机研究所 , 株式会社报宣印刷
发明人：渡道雄纪 , 户崎弘
IPC分类号： G03B27/04 , G03B27/28
CPC分类号： G03B27/06 , G03B27/20
摘要：本发明是关于自动照相排字机一个连续的和自动的操作控制方法和装置，主要由如下步骤组成：在照相排字机印相工作以前，在照相原底片上附上一个标记，如线码，在自动照相排字机盒内安放预定数量的照相原片和照相感光板；在照相排字机开始操作以后，由安放在照相排字机内的标记阅该器读出附在照相原底片上的标记的内容，按照计算机程序使自动照相排字机执行照相原片所必需的处理。

4. 发明授权

CN109996758B 用于形成自动传输的感光聚合物波导的自下而上设备设计有权
公开(公告)号：CN109996758B
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201680090291.5
申请日：2016-10-26
申请人： HRL实验室有限责任公司
发明人：索菲亚·S·杨 , 艾伦·J·雅各布森 , 乔安娜·A·柯洛德载伊斯基 , 罗伯特·E·多提 , 威廉·卡特 , 雅各·M·亨德利
IPC分类号： B82B3/00 , B82Y40/00 , G03B27/28 , G03B27/30 , G03F1/76
摘要：一种用于制造微桁架结构的系统。储集器装纳一定量的液体感光单体，所述感光单体被配置成在暴露于如紫外光的合适的光时聚合以形成感光聚合物。在所述储集器的底部的掩模包括多个孔。光穿过各个孔从若干方向进入所述储集器，在所述储集器内形成多个自导的感光聚合物波导。光由一个或多个准直光源供应。多个镜可反射来自单一准直光源的光以形成多个准直光束，其穿过所述掩模从对应的多个方向照亮所述储集器中的所述感光单体，以形成包括多个自导的波导部件的微桁架结构。

5. 实用新型

CN2110884U 彩色相片扩印机特殊效果镜失效
公开(公告)号：CN2110884U
公开(公告)日：1992-07-22
申请号：CN91224977.3
申请日：1991-09-08
申请人：林壁光
发明人：林壁光
IPC分类号： G03B27/28
摘要：本实用新型公开了一种彩色相片扩印机特殊效果镜，它是用来增加彩色相片扩印机具有扩印特殊效果相片功能的扩印附件。能使同一彩色底片扩印出多种不同的特殊效果相片，它由镜筒、固定螺钉、固定环及多种特殊效果镜片构成。本实用新型结构简单、成本低、操作方便。扩印相片效果佳。

6. 发明申请

WO2006075985A1 BI-WAVELENGTH OPTICAL INTENSITY MODULATORS USING MATERIALS WITH SATURABLE ABSORPTIONS 审中-公开
标题翻译：使用可吸收吸收材料的BI波长光学强度调制器
公开(公告)号：WO2006075985A1
公开(公告)日：2006-07-20
申请号：PCT/US2005/001222
申请日：2005-01-11
申请人： BRIMROSE CORPORATION OF AMERICA , WANG, Chen-Chia , TRIVEDI, Sudhir
发明人： WANG, Chen-Chia , TRIVEDI, Sudhir
IPC分类号： G03B27/72 , G03B27/28 , G03C5/00
CPC分类号： G03F7/70958 , G03F7/70291 , G03F7/70391
摘要： Device and method for exposing photoresists on semiconductor wafers without using physical masks while improving significantly the time-and cost-efficiencies for the manufacturing of integrated-circuit chips. Two electromagnetic sources of different wavelengths are used as the light sources, with the one having longer wavelength functioning as the control light beam while the one with an appropriately shorter wavelength is used to eventually expose the photoresists on semiconductor wafers. Images of the desired circuit patterns are fist imposed onto the longer wavelength control light beam using, for example but not limited to, laser diode arrays, light emitting diode arrays, and devices similar to liquid crystal displays. The image-carrying control light beam interacts inside the bi-wavelength saturable absorber with the short-wavelength exposure light beam which carries initially a uniform intensity profile. The bi-wavelength saturable absorber transfers the images carried by the control light beam to the exposure light beam upon its exit from the bi-wavelength saturable absorber. The exposure light beam can then be used to expose photoresists without using any physical masks. The invention eliminates the prohibitively high front end costs associated with the design and production of large physical masks with fine spatial features sought for by the state-of-the-art integrated-circuit manufacturing processes. The invention, when combined with appropriate light sources, also improves the throughput rates for the fabrication of integrated-circuit chips by orders of magnitude, further enhancing the economic impacts.
摘要翻译：用于在不使用物理掩模的情况下在半导体晶片上曝光光致抗蚀剂的装置和方法，同时显着地改善用于制造集成电路芯片的时间和成本效率。使用不同波长的两个电磁源作为光源，其中具有较长波长的电磁源用作控制光束，而具有适当较短波长的光源用于最终暴露半导体晶片上的光致抗蚀剂。使用例如但不限于激光二极管阵列，发光二极管阵列和类似于液晶显示器的装置将所需电路图案的图像施加在较长波长控制光束上。图像载体控制光束与双波长可饱和吸收体内部相互作用，其中短波长曝光光束起始具有均匀的强度分布。双波长可饱和吸收体在从双波长可饱和吸收体排出时将由控制光束承载的图像传送到曝光光束。然后曝光光束可用于曝光光致抗蚀剂而不使用任何物理掩模。本发明消除了与由最先进的集成电路制造工艺所寻求的具有精细空间特征的大型物理掩模的设计和生产相关联的极高的前端成本。本发明与合适的光源组合时，也提高了集成电路芯片制造的吞吐量数量级，进一步增强了经济影响。

7. 发明申请

WO1992011567A1 METHOD AND APPARATUS FOR SELECTIVELY VARYING THE EXPOSURE OF A PHOTOSENSITIVE MEDIUM 审中-公开
标题翻译：选择性地改变感光介质曝光的方法和装置
公开(公告)号：WO1992011567A1
公开(公告)日：1992-07-09
申请号：PCT/US1991009252
申请日：1991-12-11
申请人： EASTMAN KODAK COMPANY
发明人： EASTMAN KODAK COMPANY , DE WOLFF, Curtis, Edward , JESSOP, Thomas, Clifton
IPC分类号： G03B27/28
CPC分类号： G03B27/725
摘要： A system for regionally varying the exposure of an image onto a photosensitive medium includes projecting light through an LCD display pad having a matrix array of pixels therein and a phototransparency to expose an image onto a photosensitive medium, defining a portion of the image to have exposure levels varied by the LCD display pad, and selectively activating pixels in the LCD pad enabling the exposure level within the defined area of the image to be varied. The system utilizes a means for projecting an image of a phototransparency through an LCD pad onto a photosensitive medium, a means for defining a portion of the image, and a means for selectively activating pixels in the LCD pad to regionally vary the exposure level.
摘要翻译：用于区域地改变图像在感光介质上的曝光的系统包括通过其中具有矩阵阵列阵列的LCD显示板投影光和透明度以将图像曝光到感光介质上，限定图像的一部分以具有曝光水平由LCD显示垫变化，并且选择性地激活LCD衬垫中的像素，使得能够改变图像的限定区域内的曝光水平。该系统利用通过LCD垫将光学透明度的图像投影到感光介质上的装置，用于限定图像的一部分的装置，以及用于选择性地激活LCD垫中的像素以区域性地改变曝光水平的装置。

8. 发明申请

WO2018080489A1 BOTTOM UP APPARATUS DESIGN FOR FORMATION OF SELF-PROPAGATING PHOTOPOLYMER WAVEGUIDES 审中-公开
标题翻译：底层装置设计用于形成自蔓延光聚合物波导
公开(公告)号：WO2018080489A1
公开(公告)日：2018-05-03
申请号：PCT/US2016/058953
申请日：2016-10-26
申请人： HRL LABORATORIES, LLC
发明人： YANG, Sophia, S. , JACOBSEN, Alan, J. , KOLODZIEJSKA, Joanna, A. , DOTY, Robert, E. , CARTER, William , HUNDLEY, Jacob, M.
IPC分类号： B82B3/00 , B82Y40/00 , G03B27/28 , G03B27/30 , G03F1/76
摘要： A system for fabricating micro-truss structures. A reservoir holds a volume of a liquid photomonomer configured to polymerize to form a photopolymer when exposed to suitable light such as ultraviolet light. A mask at the bottom of the reservoir includes a plurality of apertures. Light enters the reservoir through each aperture from several directions, forming a plurality of self -guided photopolymer waveguides within the reservoir. The light is supplied by one or more sources of collimated light. A plurality of mirrors may reflect the light from a single source of collimated light to form a plurality of collimated beams, that illuminate the photomonomer in the reservoir, through the mask, from a corresponding plurality of directions, to form a micro-truss structure including a plurality of self-guided waveguide members.
摘要翻译：
一种制造微桁架结构的系统。储液器容纳一定体积的液体光单体，该液体光单体被配置为当暴露于合适的光如紫外光时聚合以形成光聚合物。储存器底部的面罩包括多个孔。光从几个方向通过每个孔进入贮存器，在贮存器内形成多个自导光聚合物波导。光由一个或多个准直光源提供。多个反射镜可反射来自单一准直光源的光以形成多个准直光束，所述多个准直光束通过掩模从对应的多个方向照射储存器中的光单体，以形成微桁架结构，该微桁架结构包括多个自导波导构件。

9. 发明授权

EP0225542B1 Leuchtkasten für Diapositive 失效
标题翻译：二合一滑块灯箱
公开(公告)号：EP0225542B1
公开(公告)日：1991-05-08
申请号：EP86116383.0
申请日：1986-11-25
申请人： Hinrichs Fotowerbung GmbH
发明人： Hinrichs, Peter
IPC分类号： G03B25/02 , G03B27/28 , G02B27/02 , G09F13/10
CPC分类号： G02B27/024 , G09F13/0409 , G09F13/10

10. 发明授权

EP0030865B1 Device for forming graphics 失效
标题翻译：用于形成图形的设备
公开(公告)号：EP0030865B1
公开(公告)日：1983-12-21
申请号：EP80304542.6
申请日：1980-12-16
申请人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY
发明人： Shea, Wm. M. , Hollingsworth, Elmont E. , Spitzer, Daniel M., Jr.
IPC分类号： G03B27/28
CPC分类号： G03B27/28 , G03B27/04

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