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    • 9. 发明申请
    • PLASMAANLAGE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG
    • 等离子系统及其制造方法的功能涂层
    • WO2002062115A1
    • 2002-08-08
    • PCT/DE2001/004565
    • 2001-12-05
    • ROBERT BOSCH GMBHGROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • GROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • H05H1/30
    • H01J37/32357C23C16/513C23C16/515H01J37/32706H05H1/30
    • Es wird eine Plasmaanlage mit mindestens einer induktiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasmastrahlquelle (5) mit einem einen Plasmaerzeugungsraum (27) begrenzenden Brennerkörper (25) mit einer Austrittsöffnung für den Plasmastrahl (20) sowie einer mit der Plasmastrahlquelle (5) über die Austrittsöffnung (26) in Verbindung stehenden Kammer (40) mit einem darin angeordneten, dem Plasmastrahl (20) ausgesetzten Substrat (19) vorgeschlagen. Dabei ist das Substrat (19) auf einer mit einer elektrischen Spannung beaufschlagbaren Substratelektrode (18) angeordnet. Weiter wird ein Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung auf dem Substrat (19) mit einer solchen Plasmaanlage vorgeschlagen. In bevorzugter Ausgestaltung werden weiter bei Betrieb der Plasmaanlage sowohl der Plasmastrahl (21) als auch die elektrische Spannung an der Substratelektrode (18) gepulst und/oder ein Druckgefälle zwischen dem Inneren der Plasmastrahlquelle (5) hin zu dem Inneren der Kammer (40) aufrechterhalten.
    • 它是具有至少一个电感耦合射频等离子束源(5)等离子体产生室界定(27)燃烧器主体(25)经由所述出口开口的出口开口,用于等离子流(20)和一个与等离子束源(5)的等离子体系统(26) 连通设置有在其中室(40),等离子流(20)暴露的衬底(19)的建议。 在基板(19)被布置在可加压与电电压电极基板(18)。 此外,对于基板(19)上产生一功能性涂层的方法被提供有这样的等离子体系统。 在进一步的等离子体系统的操作过程中一个优选的实施例中,等离子束(21)和在该基板电极(18)的电压是脉冲和/或维持朝向腔室内部的等离子束源(5)的内部之间的压力梯度(40) ,