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    • 1. 发明申请
    • PLASMAANLAGE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG
    • 等离子系统及其制造方法的功能涂层
    • WO2002062115A1
    • 2002-08-08
    • PCT/DE2001/004565
    • 2001-12-05
    • ROBERT BOSCH GMBHGROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • GROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • H05H1/30
    • H01J37/32357C23C16/513C23C16/515H01J37/32706H05H1/30
    • Es wird eine Plasmaanlage mit mindestens einer induktiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasmastrahlquelle (5) mit einem einen Plasmaerzeugungsraum (27) begrenzenden Brennerkörper (25) mit einer Austrittsöffnung für den Plasmastrahl (20) sowie einer mit der Plasmastrahlquelle (5) über die Austrittsöffnung (26) in Verbindung stehenden Kammer (40) mit einem darin angeordneten, dem Plasmastrahl (20) ausgesetzten Substrat (19) vorgeschlagen. Dabei ist das Substrat (19) auf einer mit einer elektrischen Spannung beaufschlagbaren Substratelektrode (18) angeordnet. Weiter wird ein Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung auf dem Substrat (19) mit einer solchen Plasmaanlage vorgeschlagen. In bevorzugter Ausgestaltung werden weiter bei Betrieb der Plasmaanlage sowohl der Plasmastrahl (21) als auch die elektrische Spannung an der Substratelektrode (18) gepulst und/oder ein Druckgefälle zwischen dem Inneren der Plasmastrahlquelle (5) hin zu dem Inneren der Kammer (40) aufrechterhalten.
    • 它是具有至少一个电感耦合射频等离子束源(5)等离子体产生室界定(27)燃烧器主体(25)经由所述出口开口的出口开口,用于等离子流(20)和一个与等离子束源(5)的等离子体系统(26) 连通设置有在其中室(40),等离子流(20)暴露的衬底(19)的建议。 在基板(19)被布置在可加压与电电压电极基板(18)。 此外,对于基板(19)上产生一功能性涂层的方法被提供有这样的等离子体系统。 在进一步的等离子体系统的操作过程中一个优选的实施例中,等离子束(21)和在该基板电极(18)的电压是脉冲和/或维持朝向腔室内部的等离子束源(5)的内部之间的压力梯度(40) ,
    • 2. 发明申请
    • PLASMAANLAGE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG
    • 等离子系统及其制造方法的功能涂层
    • WO2002062114A1
    • 2002-08-08
    • PCT/DE2001/004564
    • 2001-12-05
    • ROBERT BOSCH GMBHGROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • GROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • H05H1/30
    • H01J37/32357C23C16/513C23C16/515H01J37/32706H05H1/30
    • Es wird eine Plasmaanlage mit einer induktiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasmastrahlquelle (5) mit einem einen Plasmaerzeugungsraum (27) begrenzenden Brennerkörper (25) mit einer Austrittsöffnung (26) für den Plasmastrahl (20), einer den Plasmaerzeugungsraum (27) bereichsweise umgebenden Spule (17), einer Zuführung (10) zur Zufuhr eines Gases und/oder Precursor-Materials in den Plasmaerzeugungsraum (27) und einem mit der Spule (17) in Verbindung stehenden Hochfrequenzgenerator (16) zur Zündung des Plasmas (21) und Einkoppelung einer elektrischen Leistung in das Plasma (21) vorgeschlagen. Daneben weist die Plasmastrahlquelle (5) ein elektrisches Bauteil auf, mit dem die Intensität des Plasmastrahles (20) zeitlich periodisch veränderbar ist. Weiter ein Verfahren zur Erzeugung der Funktionsbeschichtung auf einem Substrat (19) mit der Plasmaanlage vorgeschlagen.
    • 这是一个等离子系统,电感耦合高频等离子束源(5),其具有一个等离子体产生空间(27)与出口开口(26),用于将等离子流(20),等离子生成室(27)包围所述燃烧器主体(25)部分地围绕所述线圈(17 ),用于在电力供应的气体和/或所述前体材料到等离子体生成空间(27)和一个(与用于等离子体(21)和联接器的点火相关联的线圈17)的高频发生器(16)的供给(10) 等离子体(21)中提出。 此外,电气元件,与等离子束(20)的强度在时间上是可变的周期性上的等离子束源(5)。 此外,用于在衬底(19)上制造功能性涂层的方法,提出了与等离子体系统。
    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG MIT EINER HF-ICP-PLASMASTRAHLQUELLE
    • 用于生产功能性涂装用RF ICP等离子体束源
    • WO2002061171A1
    • 2002-08-08
    • PCT/DE2001/004357
    • 2001-11-21
    • ROBERT BOSCH GMBHGROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • GROSSE, StefanHENKE, SaschaSPINDLER, Susanne
    • C23C16/513
    • H01J37/321C23C16/513C23C16/515C23C16/52
    • Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung auf einem in einer Kammer (40) angeordneten Substrat (19) vorgeschlagen, wobei mittels einer induktiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasmastrahlquelle (5) mit einem einen Plasmaerzeugungsraum (27) begrenzenden Brennerkörper (25) mit einer Austrittsöffnung (26) ein Plasma (21) erzeugt wird. Dieses Plasma (21) tritt dann über die Austrittsöffnung in Form eines Plasmastrahles (20) aus der Plasmastrahlquelle (5) in die damit verbundene Kammer (40) ein, wo es auf das Substrat (19) zur Erzeugung der Funktionsbeschichtung einwirkt. Weiter ist dabei vorgesehen, dass zwischen dem Inneren der Kammer (40) und dem Plasmaerzeugungsraum (27) zumindest zeitweise ein Druckgradient erzeugt wird, der eine Beschleunigung von in dem Plasmastrahl (20) enthaltenen Teilchen auf das Substrat (19) hin bewirkt.
    • 它提出了一种方法,用于在一个室中产生上的功能性涂层(40),其设置基板(19),由感应耦合高频等离子束源的装置与等离子体发生室(27)的限定(5)燃烧器主体(25)(具有出口开口 26)的等离子体(21)被产生。 该等离子体(21),然后经由出口开口在从等离子束源(5)的等离子体射流(20)的形式进入相关的腔室(40),其中,它的作用在基板(19),用于制造功能性涂层上进入。 接着,它提供了时间,在腔室(40)和至少所述等离子体生成空间(27),这导致在等离子流(20)的加速度的内部之间产生的压力梯度包含在衬底(19)下放在颗粒。