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    • 1. 发明申请
    • COMPOSITION SILICONE RETICULABLE POUR LA REALISATION DE REVETEMENTS ANTI-ADHERENTS POUR FILMS POLYMERES
    • 用于生产聚合物薄膜的非粘性涂料的可交联硅组合物
    • WO2007138099A1
    • 2007-12-06
    • PCT/EP2007/055347
    • 2007-05-31
    • RHODIA RECHERCHES ET TECHNOLOGIESWHITE, JohnDUFFY, SeanFEDER, MichelPOUCHELON, Alain
    • WHITE, JohnDUFFY, SeanFEDER, MichelPOUCHELON, Alain
    • C08L83/04C09D183/04
    • C08J7/047C08G77/12C08G77/20C08G77/70C08G77/80C08J2483/00C08L83/04C09D183/04Y10T428/31663C08L83/00
    • L'invent ion concerne des compositions silicones réticulables ou réticulées, susceptibles d'être utilisées, notamment, pour former un revêtement ou film hydrofuge et anti-adhérent pour supports souples de préférence sous forme de films en polymère naturel ou synthétique, par exemple en PET. Ces compositions sont du type de celles comprenant des polyorganosiloxanes réticulants porteurs de motifs SiH et des polyorganosiloxanes insaturés, de préférence vinylés, aptes à réagir avec le réticulant par réaction d'addition, en présence de platine pour former le revêtement réticulé anti-adhérent sur le support souple. Le but visé est de proposer de nouvelles compositions silicones liquides d'enduction, sans solvant, réticulables en revêtement anti-adhérent et/ou hydrofuge pour support souple, de manière quasi instantanée et en conduisant à des revêtements silicones réticulés de très bonne qualité, en particulier en termes d'accrochage/adhérence sur le support "rub-off élevé" et de profil d'anti-adhérence (force de décollement à haute vitesse suffisamment élevée).. Pour atteindre ce but, l'invention propose des compositions silicones dont la composante silicone PolyOrganoSiloxane (POS) alcénylée A contient une fraction F1 et une fraction F2, différente l'une de l'autre, F2 promoteur de l'adhérence comprenant une huile (A 2.1 ) linéaire silicone monoalcénylée à l'une de ses extrémités et/ou une huile (A 2.2 ) linéaire silicone longue α,ω, -alcénylée et/ou une huile (A 2.3 ) linéaire "faiblement" alcénylée. Applicat ions : revêtements silicones anti-adhérents obtenus par réticulation/polyaddition pour des films polymères en PET.
    • 本发明涉及可交联的硅组合物,其可特别用于形成涂层或防水和不粘膜,优选用于柔性载体,例如合成或天然聚合物膜,例如PET。 这些组合物的类型包括含有Si-H单元的交联聚有机硅氧烷和优选含有乙烯基的不饱和聚有机硅氧烷,其能够在铂存在下通过加成反应与交联剂反应,以在柔性载体上形成释放交联的不粘涂层 。 目的是提出新的液体涂料硅组合物,不含溶剂,可交联和不粘和/或防水涂料,用于柔性载体,准瞬时和生产非常高质量的可交联硅涂层,特别是关于钩/粘性 一个“高擦除”的支撑和防粘特性(足够的高速分离力)。 为了达到这个目的,本发明提出了硅组合物,其中硅化合物成分含有F1级分和F2级分彼此不同的烯丙基化聚硅氧烷(POS); F2,粘附增强剂包含在其一个末端的直链单硫酸化硅油(A)和/或长线型α,α, - / - 亚烷基化硅油(A >)和/或“弱烯丙基线性油”。 应用:从PET的交联/加聚得到的不粘硅涂层。
    • 2. 发明申请
    • COMPOSITION SILICONE RETICULABLE POUR LA REALISATION DE REVETEMENTS ANTI-ADHERENTS POUR SUPPORTS SOUPLES ET ADDITIF PROMOTEUR D'ACCROCHAGE CONTENU DANS CETTE COMPOSITION
    • 可以制造用于生产用于柔性支撑物的抗粘剂涂料和用于促进在该复合材料中包含的粘合剂的硅酮复合材料
    • WO2008000771A1
    • 2008-01-03
    • PCT/EP2007/056432
    • 2007-06-27
    • RHODIA RECHERCHES ET TECHNOLOGIESWHITE, JohnFEDER, MichelPOUCHELON, AlainMAADADI, YassineGAMBUT-GAREL, Lucile
    • WHITE, JohnFEDER, MichelPOUCHELON, AlainMAADADI, YassineGAMBUT-GAREL, Lucile
    • C08L83/04C09D183/04
    • C08L83/04C08G77/12C08G77/14C08G77/18C08G77/20C08G77/70C08G77/80C09D183/04Y10T428/31511C08L83/00
    • Le domaine de l'invention est celui des compositions silicones réticulables ou réticulées, susceptibles d'être utilisées, notamment, pour former un revêtement ou film hydrofuge et anti-adhérent pour supports souples par exemple en papier ou analogues et sous forme de films en polymère naturel ou synthétique. Ces compositions sont du type de celles comprenant des polyorganosiloxanes réticulants porteurs de motifs SiH et des polyorganosiloxanes insaturés, de préférence vinylés, aptes à réagir avec le réticulant par réaction d'addition, en présence de platine pour former le revêtement réticulé anti-adhérent sur le support souple et au moins un additif (D) promoteur d'accrochage. Le but visé est de proposer de nouvelles compositions silicones liquides d'enduction, avantageusement sans solvant, réticulables en revêtement anti-adhérent et/ou hydrofuge pour support souple, de manière instantanée et conduisant à des revêtements silicones réticulés de très bonne qualité, en particulier en termes d'accrochage/adhérence sur le support "rub-off élevé" et de profil d'anti-adhérence (force de décollement à haute vitesse suffisamment élevée), ces dernières propriétés résultant notamment d'un additif promoteur d'accrochage. Pour atteindre ce but, l'invention propose des compositions silicones dont l'additif promoteur d'accrochage est: M [D]d° [Dalcoxy ]d a [ Dépoxy ]d e [D']d' [M']m' M; avec 0 d° 500; 0 d a 50; 1.. d e 40; 0 d' d' 0,1; 0 m'
    • 本发明所涉及的领域是经过网状或网状化的硅酮复合物,特别是为了形成用于柔性基材(例如纸或类似物)的天然或合成形式的涂层或防水和抗粘合剂膜 聚合物膜。 这些化合物是含有具有SiH单元和不饱和聚有机硅氧烷的网状聚有机硅氧烷的类型,优选为乙烯基化的,适合于在加成反应中与网状物反应,并且在铂存在下,在柔性基材上形成网状抗粘剂涂层 ,加上至少一种添加剂(D)以促进与其的粘附。 目的是提出可在不使用溶剂的情况下使用的新的液体硅氧烷化合物,这是有利的,其可以立即网状地制备用于柔性基材的抗粘合剂和/或防水涂料,提供非常高质量的网状 有机硅涂料,特别是在粘附/粘附于基材上,更难擦去和防粘附性(高速提高分离力); 这些后一种性质特别是助剂的结果。 为了达到这个目的,本发明提出了其中附着增强添加剂为:M [D] d° [D 2 COX] d O
    • 6. 发明申请
    • SYSTEME SILICONE MODULATEUR D'ADHERENCE ET SON UTILISATION POUR LA PREPARATION DE COMPOSITIONS ANTI-ADHERENTES DURCISSABLES
    • 释放调节硅酮体系及其用于制备可固化释放组合物
    • WO2002098972A1
    • 2002-12-12
    • PCT/FR2002/001892
    • 2002-06-04
    • RHODIA CHIMIEDHALER, DidierWHITE, John
    • DHALER, DidierWHITE, John
    • C08L83/04
    • C09D183/06C08G77/12C08G77/14C08G77/16C08G77/20C08G77/80C08L83/04C08L83/06C09D183/04C08L83/00
    • La présente invention a pour objet un nouveau système silicone modulateur d'adhérence, et son utilisation pour la préparation de compositions silicones antiadhérentes, durcissables (Si-H/Si-Vi), et applicables sur des supports, de manière à faciliter l'enlèvement de matières adhésives collées de manière réversible sur ces supports. On recherche des modulateurs très efficaces en terme de pouvoir modulant, très réactifs et sans effet négatif sur les propriétés d'adhérence instantanée ("tack") des matières adhésives contrecollées sur le revêtement silicone anti-adhérent. Pour atteindre ce but, on a mis au point un système modulateur d'adhérence à base de 96 à 85 parties en poids d'au moins une résine polyorganosiloxane (A) réactive de type: MDViQ, MMViQ, MDViT, MMHéxénylQ, ou MMAllyloxypropylQ,o de 4 à 15 parties en poids d'au moins une résine (B) non réactive de type: MD'Q, MDD'Q, MDT', MQ, ou MDQ. Utilisation dudit système modulateur pour la préparation de compositions durcissables anti-adhérentes renfermant un polydiorganosiloxane linéaire, ledit système modulateur, un inhibiteur d'hydrosilylation, un polyorgano-hydrogénosiloxane linéaire réticulant et un catalyseur d'hydrosilylation.
    • 本发明涉及新型释放调节硅酮组合物及其用于制备适用于基材上的可固化脱模组合物(Si-H / Si-Vi)的用途,以便于去除可逆粘合在所述基材上的粘合剂材料。 本发明的目的是在调节功率方面提供高效的粘合改性剂,并且不会对层压在剥离硅氧烷涂层上的粘合剂材料的瞬时粘合性产生不利影响。 因此,本发明提供一种释放调节系统,其基于:96至85重量份的至少一种以下类型的反应性聚有机硅氧烷树脂(A):MDViQ,MDViT,MMHexenylQ或MMAllyloxypropyl Q; 4至15重量份至少一种类型为MD'Q,MDD'Q,MDT',MQ或MDQ的非反应性树脂(B)。 本发明还涉及调节系统用于制备含有线性聚有机硅氧烷,所述调节系统,氢化硅烷化抑制剂,线性交联聚有机卤代硅氧烷和氢化硅烷化催化剂的释放组合物的用途。
    • 8. 发明申请
    • MULTI-LAYER HIGH QUALITY GATE DIELECTRIC FOR LOW-TEMPERATURE POLY-SILICON TFTs
    • 用于低温聚硅薄膜的多层高质量栅介质
    • WO2006073568A2
    • 2006-07-13
    • PCT/US2005/041231
    • 2005-11-15
    • APPLIED MATERIALS, INC.WHITE, John
    • WHITE, John
    • C23C16/00H05H1/24
    • C23C8/36C23C16/0218C23C16/402
    • A method and apparatus that is useful for forming a high quality gate dielectric layer in MOS TFT devices using a high density plasma oxidation (HDPO) process. In one embodiment a HDPO process layer is formed over the channel, source and drain regions to form a dielectric interface and then one or more dielectric layers are deposited on the HDPO layer to form a high quality gate dielectric layer. The HDPO process generally uses an inductively and/or capacitively coupled RF transmitting device to generate and control the plasma generated over the substrate and injecting a gas containing an oxidizing source to grow the interfacial layer. A second dielectric layer may then be deposited on the substrate using a CVD or PECVD deposition process. Aspects of the invention also provide a cluster tool that contains at least one specialized plasma processing chamber that is capable of depositing a high quality gate dielectric layer.
    • 一种用于在使用高密度等离子体氧化(HDPO)工艺的MOS TFT器件中形成高质量栅极电介质层的方法和装置。 在一个实施例中,在沟道,源极和漏极区域上形成HDPO处理层以形成电介质界面,然后将一个或多个电介质层沉积在HDPO层上以形成高质量的栅极电介质层。 HDPO工艺通常使用感应和/或电容耦合的RF传输装置来产生和控制在衬底上产生的等离子体,并且注入含有氧化源的气体以生长界面层。 然后可以使用CVD或PECVD沉积工艺将第二电介质层沉积在衬底上。 本发明的各方面还提供了一种集群工具,其包含能够沉积高质量栅极电介质层的至少一个专用等离子体处理室。