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1. 发明专利

JP2012242696A Stripping liquid for photoresist 有权
标题翻译：剥离液
公开(公告)号：JP2012242696A
公开(公告)日：2012-12-10
申请号：JP2011114207
申请日：2011-05-20
申请人： Panasonic Corp , パナソニック株式会社 , Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd , パナソニック液晶ディスプレイ株式会社
发明人： FUCHIGAMI SHINICHIRO , YAMAGUCHI NORIO , AIKO MASAHIKO , SHIMIZU KOJI , TAKEZAWA HIROYOSHI
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoresist stripping liquid which is used for stripping a photoresist which is degenerated to be difficult to strip due to exposure to an etchant for a Cu film while avoiding damages on a Cu film in the process of wet-etching a Cu film or a Cu alloy film on a substrate having a large area to form wiring lines or the like, and which does not decrease in the adhesive strength between the Cu film and a layer to be deposited on the Cu film.SOLUTION: A photoresist stripping liquid comprising 1 to 9 mass% of a tertiary alkanol amine, 10 to 70 mass% of a polar solvent, 10 to 40 mass% of water, and 3000 ppm or less of a resist component gives good adhesiveness to a layer to be deposited on a Cu film and is free of problems for practical use, although the stripping liquid causes some corrosion of copper.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光致抗蚀剂剥离液，其用于剥离由于暴露于Cu膜的蚀刻剂而被退化以难以剥离的光致抗蚀剂，同时避免在Cu膜的损伤过程中对Cu膜的损伤在具有大面积的基板上湿式蚀刻Cu膜或Cu合金膜以形成布线等，并且不会降低Cu膜和要沉积在Cu膜上的层之间的粘合强度。解决方案：包含1至9质量％的叔链烷醇胺，10至70质量％的极性溶剂，10至40质量％的水和3000ppm以下的抗蚀剂组分的光致抗蚀剂剥离液，得到良好的对于沉积在Cu膜上的层的粘合性，并且没有实际应用的问题，尽管剥离液引起铜的一些腐蚀。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2012242697A Stripping liquid recycling system and operation method, and method for recycling stripping liquid 有权
标题翻译：剥离液回收系统及操作方法，以及回收剥离液的方法
公开(公告)号：JP2012242697A
公开(公告)日：2012-12-10
申请号：JP2011114208
申请日：2011-05-20
申请人： Panasonic Corp , パナソニック株式会社 , Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd , パナソニック液晶ディスプレイ株式会社
发明人： FUCHIGAMI SHINICHIRO , YAMAGUCHI NORIO , AIKO MASAHIKO , SHIMIZU KOJI , TAKEZAWA HIROYOSHI
IPC分类号： G03F7/42 , B08B3/02 , H01L21/027 , H01L21/304
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recycling system of a stripping liquid using a photoresist stripping liquid, which is used for stripping a photoresist while avoiding damages on a Cu film in the process of wet-etching a Cu film or a Cu alloy film on a substrate having a large area to form wiring lines or the like, and which does not decrease in the adhesion strength between the Cu film and a layer to be deposited on the Cu film.SOLUTION: The system includes: a resist stripping device, which repeatedly uses a stripping liquid comprising a resist component and a mixture liquid of a main agent, a polar solvent and water, discharges a part of the stripping liquid through a discharge pipe when the resist concentration in the stripping liquid reaches a predetermined value, and is supplied with a new stripping liquid; a waste liquid tank; a distillation regeneration apparatus for distilling the stripping liquid in the waste liquid tank; a component inspection device for inspecting composition ratios of the main agent and the polar solvent in a liquid separated by the distillation; a preparation device for preparing the mixture liquid by adding the main agent, the polar solvent and water for the shortfall so as to obtain preliminarily determined ratios of the main agent, the polar solvent and water in the separated liquid; and a supply tank reserving the mixture liquid.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供使用光致抗蚀剂剥离液的剥离液的再循环系统，其用于剥离光致抗蚀剂，同时在湿蚀刻Cu膜或Cu的过程中避免在Cu膜上的损伤合金膜在具有大面积的基板上形成布线等，并且不会降低Cu膜和沉积在Cu膜上的层之间的粘附强度。解决方案：该系统包括：抗蚀剂剥离装置，其重复使用包含抗蚀剂成分和主剂，极性溶剂和水的混合液体的剥离液，通过排出管排出一部分汽提液体当剥离液中的抗蚀剂浓度达到预定值时，供给新的剥离液; 废液罐; 用于蒸馏废液罐中的汽提液体的蒸馏再生装置; 用于检查通过蒸馏分离的液体中的主剂和极性溶剂的组成比的成分检查装置; 通过添加主剂，极性溶剂和缺水来制备混合液的制备装置，以获得分离液体中主剂，极性溶剂和水的预定比例; 以及储存混合液体的供给槽。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2012225959A Photoresist stripping liquid 有权
标题翻译： PHOTORESIST剥离液
公开(公告)号：JP2012225959A
公开(公告)日：2012-11-15
申请号：JP2011090546
申请日：2011-04-15
申请人： Panasonic Corp , Panasonic Liquid Crystal Display Co Ltd , パナソニック株式会社 , パナソニック液晶ディスプレイ株式会社
发明人： YAMAGUCHI NORIO , FUCHIGAMI SHINICHIRO , AIKO MASAHIKO , SHIMIZU KOJI , TAKEZAWA HIROYOSHI
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoresist stripping liquid for stripping a photoresist that has been exposed to an etchant for Cu in the process of forming wiring lines by wet-etching a Cu or Cu alloy layer on a substrate having a large area and thereby, that is deteriorated and turned into less strippable, without damaging the Cu layer, as well as the stripping liquid preventing reduction in an adhesive force with a layer to be deposited on the Cu layer.SOLUTION: The photoresist stripping liquid comprises 1 to 9 mass% of a tertiary alkanol amine, 10 to 70 mass% of a polar solvent, and 10 to 40 mass% of water. Although the obtained stripping liquid induces slight corrosion of copper, the liquid gives good adhesiveness with a layer to be deposited on a Cu layer and has no problem for practical use.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光致抗蚀剂剥离液，用于剥离在通过在具有大的基底的基底上湿蚀刻Cu或Cu合金层而在形成布线的过程中暴露于Cu的蚀刻剂的光致抗蚀剂因此，其劣化并变成较少可剥离的，而不损坏Cu层，以及剥离液体，防止与沉积在Cu层上的层的粘合力降低。解决方案：光致抗蚀剂剥离液含有1〜9质量％的叔烷醇胺，10〜70质量％的极性溶剂和10〜40质量％的水。虽然所得到的剥离液引起铜的轻微腐蚀，但是液体与沉积在Cu层上的层具有良好的粘附性，并且在实际应用中没有问题。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2009285579A Recycling method for fluorine-containing waste water, and waste water treatment device used therefor 有权
标题翻译：含氟废水的回收方法及其使用的废水处理装置
公开(公告)号：JP2009285579A
公开(公告)日：2009-12-10
申请号：JP2008141451
申请日：2008-05-29
申请人： Panasonic Corp , パナソニック株式会社
发明人： YAMAGUCHI NORIO , AIKO MASAHIKO , OKUDA TOMOAKI
IPC分类号： C02F1/58 , B01D53/68 , B01D53/77
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recycling method for fluorine-containing waste water which effectively utilizes treatment water without being discharged to the outside of the system, and also can reduce the using amount of supply water for cleaning. SOLUTION: The recycling method for fluorine-containing waste water, as one embodiment, comprises: a stage where fluorine-containing waste water discharged from a device 5 for cleaning fluorine-containing exhaust gas using cleaning water and a calcium compound are mixed in a first reaction tank 21 so as to form an agglomerated material containing fluorine and calcium; a stage where the waste water containing the agglomerated material is subjected to solid-liquid separation in a precipitation tank 3 so as to obtain a supernatant liquid as treatment water; and a stage where the treatment water is recovered through piping P4 to be utilized as cleaning water used for the cleaning of exhaust gas. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供有效利用处理水而不排放到系统外部的含氟废水的回收方法，并且还可以减少用于清洁的供水的使用量。解决方案：作为一个实施方案，含氟废水的再循环方法包括：将从清洗用水和钙化合物清洗含氟废气的装置5排出的氟化物废水混合的阶段在第一反应槽21中形成含氟和钙的凝聚物; 在沉淀罐3中将含有附聚物的废水进行固液分离的阶段，以获得作为处理水的上清液; 以及处理水通过管道P4回收以用作清洁废气的清洁水的阶段。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2014218416A ガラス研磨液の再生方法およびガラス研磨液の再生装置审中-公开
标题翻译：玻璃抛光液再生方法及玻璃抛光液再生装置
公开(公告)号：JP2014218416A
公开(公告)日：2014-11-20
申请号：JP2013100566
申请日：2013-05-10
申请人：パナソニック株式会社 , Panasonic Corp
发明人： SHIMADA KAZUYA , IEDA TOMOYUKI , AIKO MASAHIKO , SUZUKI YASUNORI
IPC分类号： C03C15/00 , C02F1/58 , C02F1/60
CPC分类号： C02F1/58 , C02F1/60 , C03C15/00
摘要：【課題】廃液中の酸度や再生効率の点を考慮した化学研磨液の再生技術を提供すること。【解決手段】(i)ガラス研磨に用いた使用済みガラス研磨液に対してフッ化水素化合物を添加し、それによって、使用済みガラス研磨液中にて析出物を生じさせる工程、および、(ii)析出物の少なくとも一部を使用済みガラス研磨液から除去する工程を含んで成り、フッ化水素化合物が金属元素、水素元素および2つのフッ素元素から成る重フッ化物MHF2(M:金属元素、H:水素元素、F:フッ素元素)の形態を有しており、また、工程(i)では、フッ化水素化合物の添加によって使用済みガラス研磨液中でフッ化水素酸を生じさせることを特徴とするガラス研磨液の再生方法が提供される。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供考虑废液中的酸度或再生效率的化学抛光液的再生技术。解决方案：提供一种再生玻璃抛光液的方法，其包括：（i）添加氟化氢化合物用于玻璃研磨用玻璃抛光液，从而在玻璃抛光液中产生沉淀物; 和（ii）从二手玻璃抛光液中除去至少一部分沉淀物的过程。氟化氢化合物具有由金属元素，氢元素和两种氟元素组成的氟化氢MHF（M：金属元素，H：氢元素，F：氟元素）的形式。此外，在（i）的方法中，通过添加氟化氢化合物在二手玻璃研磨液中产生氢氟酸。

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