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1. 发明申请

WO2013068080A1 HIPIMS-SCHICHTEN 审中-公开
标题翻译： HIPIMS LAYERS
公开(公告)号：WO2013068080A1
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：PCT/EP2012/004498
申请日：2012-10-26
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , LECHTHALER, Markus
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/345 , C23C14/3485 , H01J37/3467
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abscheiden von PVD- Schichtsystemen aus der Gasphase mittels zerstäuben auf zumindest einem Substrat, wobei das Schichtsystem zumindest eine erste Schicht umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest in einem Schritt des Verfahrens ein HIPIMS Verfahren angewandt wird mit einer Leistungsdichte von zumindest 250W/cm2, wobei eine Pulslänge mit zumindest 5ms Dauer zum Einsatz kommt währenddessen am Substrat ein Substratbias anliegt.
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过溅射在至少一个基片，其中所述层系统至少包括第一层，其特征在于在该方法的至少一个步骤中的HIPIMS方法使用具有的手段从气相沉积PVD涂层体系至少250 W / cm 2的功率密度，与至少5毫秒持续时间的脉冲长度被用于在此期间，衬底，衬底偏压施加。

2. 发明申请

WO2013045039A2 ALUMINUM TITANIUM NITRIDE COATING WITH ADAPTED MORPHOLOGY FOR ENHANCED WEAR RESISTANCE IN MACHINING OPERATIONS AND METHOD THEREOF 审中-公开
标题翻译：具有适应形态的氮化钛纳米涂层，用于加工操作中的增强耐磨性及其方法
公开(公告)号：WO2013045039A2
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2012/003896
申请日：2012-09-19
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KURAPOV, Denis , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C30/00
CPC分类号： C23C14/0617 , C23C14/0641 , C23C14/228 , C23C14/325 , C23C28/04 , C23C28/044 , C23C30/00 , C23C30/005 , Y10T428/2495 , Y10T428/24983 , Y10T428/24992 , Y10T428/31678
摘要： The present invention relates to an (AI,Ti)N coating exhibiting at least two different coating portions, A and B, having grain size in nanometer magnitude order characterized in that the coating portion A exhibit larger grain size and higher elastic modulus than the coating portion B. The present invention relates as well to a method for coating a substrate with a coating as described above whereby at least the coating portion A and/or the coating portion B of the (AI,Ti)N coating are/is deposited by means of PVD techniques.
摘要翻译：本发明涉及具有至少两种不同涂层部分（A和B）的（Al，Ti）N涂层，其具有纳米级的晶粒尺寸，其特征在于涂层部分A显示出比涂层更大的晶粒度和更高的弹性模量本发明还涉及如上所述的用涂层涂覆基材的方法，至少至少涂覆部分A和/或（Al，Ti）N涂层的涂布部分B被沉积在 PVD技术手段。

3. 发明申请

WO2007131944A3 ARCQUELLE UND MAGNETANORDNUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2007131944A3
公开(公告)日：2007-11-22
申请号：PCT/EP2007/054545
申请日：2007-05-10
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , GWEHENBERGER, Juergen
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , GWEHENBERGER, Juergen
IPC分类号： H01J37/32
摘要： Die Erfindung betrifft eine Arcquelle mit einem Target (1), mit einer Targetvorderseite (2) zum Vakuumverdampfen des Targetmaterials, einer Targetrückseite mit einer Kühlplatte (4), einem zentralen Targetbereich (Z) sowie einen Targetrand. Weiter umfasst die Arcquelle eine Magnetanordnung (8, 9) mit einem inneren Magnetsystem (8) und/oder einem äusseren Magnetsystem (9), zum Erzeugen eines magnetischen Feldes im Bereich der Targetvorderseite. Dabei ist zumindest eines der Magnetsysteme (8) radial gepolt und bewirkt alleine oder in Verbindung mit dem jeweils anderen Magnetsystem, dass die Feldlinien des magnetischen Feldes dort im Wesentlichen parallel zur Targetvorderseite (2) verlaufen.

4. 发明申请

WO2015000576A1 TIB2 SCHICHTEN UND IHRE HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：的TiB 2层及其制备
公开(公告)号：WO2015000576A1
公开(公告)日：2015-01-08
申请号：PCT/EP2014/001781
申请日：2014-06-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KURAPOV, Denis , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/35
CPC分类号： C23C14/067 , C23C14/04 , C23C14/34 , C23C14/3464
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Werkstück mit Beschichtung welche zumindest eine ΤiΒ2 Schicht umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die TiB 2 -Schichten eine Textur aufweisen, welche im XRD-Spektrum zu deutlichen Peaks führen die eine ausgeprägte (002)-Ausrichtung anzeigen. Die Erfindung betrifft ausserdem ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Werkstücks mit Beschichtung.
摘要翻译：本发明涉及具有包括至少一个＆TGR涂层的工件; I 2包括层，其特征在于所述的TiB 2层具有纹理，其导致的X射线衍射光谱显著峰，其具有显着的（002）显示取向α。本发明还涉及一种用涂料生产所述工件的方法。

5. 发明申请

WO2014166620A1 SPUTTERTARGET MIT ERHÖHTER LEISTUNGSVERTRÄGLICHKEIT 审中-公开
标题翻译：溅射，增加的动力兼容性
公开(公告)号：WO2014166620A1
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：PCT/EP2014/000927
申请日：2014-04-07
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , KERSCHBAUMER, Joerg
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3435 , C23C14/3407 , H01J37/3438 , H01J37/3467 , H01J37/3497
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Plattenzentrierungssystem umfassend eine Platte mit Halterung, beim dem die Platte in der Halterung sowohl bei Raum- als auch bei höheren Temperaturen unabhängig von der Wärmeausdehnung der Platte und der Halterung zentriert ist, und die Platte sich in der Halterung bei höheren Temperaturen frei ausdehnen kann. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung ein Target mit rahmenförmiger Targetfassung, das in einer Beschichtungsquelle für Hochleistungsimpulsmagnetronsputtering des Targets sehr gut geeignet ist.
摘要翻译：本发明涉及一种包含有支撑的板Plattenzentrierungssystem，而在在两个房间中的保持器，并在升高的温度下将板无论该板的热膨胀和支架，并在较高温度下在保持器板的中心的自由扩展。特别地，本发明涉及一种具有框架状目标版本，这非常适合于目标的Hochleistungsimpulsmagnetronsputtering涂布源的靶。

6. 发明申请

WO2013091802A1 LOW TEMPERATURE ARC ION PLATING COATING 审中-公开
标题翻译：低温电弧镀层
公开(公告)号：WO2013091802A1
公开(公告)日：2013-06-27
申请号：PCT/EP2012/005161
申请日：2012-12-14
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , KURAPOV, Denis , LECHTHALER, Markus
IPC分类号： C23C14/32 , H01J37/32
CPC分类号： C23C14/345 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/32568
摘要： Coating method for arc coating or arc ion plating coating of substrates in a vacuum chamber in which using an arc evaporator solid material that functions as cathode is evaporated, during arc evaporation the motion of the cathode spot on the solid material surface is accelerated using a magnetic field for avoiding ejection of a large amount of macro-particles or droplets from the solid material surface, negative charged particles resulted from the arc evaporation flow from the cathode to an anode, characterized by the motion of the negative charged particles from the cathode to the anode fundamentally doesn't cause an additional increase of the absolute value of the potential difference between cathode and anode allowing a lower increment of the substrate temperature during coating.
摘要翻译：在电弧蒸发期间，使用用作阴极的电弧蒸发器固体材料的真空室中的基板的电弧涂覆或电弧离子镀覆涂覆方法被蒸发，阴极点在固体材料表面上的运动使用磁场，用于避免从固体材料表面喷射大量的大颗粒或液滴，由从阴极到阳极的电弧蒸发流产生的负带电粒子，其特征在于负电荷粒子从阴极到阳极基本上不会导致阴极和阳极之间的电位差的绝对值的额外增加，从而允许涂层期间衬底温度的较低增量。

7. 发明申请

WO2013060415A1 VERFAHREN ZUR BEREITSTELLUNG SEQUENZIELLER LEISTUNGSPULSE 审中-公开
标题翻译：方法用于提供电力连续脉冲
公开(公告)号：WO2013060415A1
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：PCT/EP2012/004203
申请日：2012-10-08
申请人： Oerlikon Trading AG,Trübbach
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , LECHTHALER, Markus
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： H03K3/012 , C23C14/3485 , C23C14/352 , C23C14/54 , H01J37/3467
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bereitstellung von Leistungspulsen für PVD-Zerstäubungskathoden welche ein Leistungsaufnahmebauteil und eine Teilkathoden umfasst, wobei während eines Leistungdaufbauintervalls eines Generators die Leistung am Leistungsaufnahmebauteil abgebaut wird und anschliessend die Leistung an der Teilkathode abgebaut wird wobei so umgeschaltet wird dass die Leistungsentnahme vom die Leistung bereitstellenden Generator nicht unterbrochen werden muss.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于PVD溅射阴极提供功率脉冲包括电力接收部件和阴极，其中，所述功率在功率的发电机的Leistungdaufbauintervalls期间接收部件，然后在部分阴极的功率耗散的一部分劣化被切换这使得功率提取从电源提供发电机不能中断。

8. 发明申请

WO2012143087A1 HOCHLEISTUNGSZERSTÄUBUNGSQUELLE 审中-公开
公开(公告)号：WO2012143087A1
公开(公告)日：2012-10-26
申请号：PCT/EP2012/001414
申请日：2012-03-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , RUHM, Kurt
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/352 , H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J37/3464 , H01J37/3467 , H01J37/3497
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Magnetronsputter Verfahren mit dem es möglich ist Material von einer Targetoberfläche zu zerstäuben derart, dass das zerstäubte Material zu einem hohen Prozentsatz in Form von Ionen vorliegt. Erfindungsgemäss wird dies mittels eines einfachen Generators erreicht, dessen Leistung in Zeitintervallen verteilt in mehrere Magnetron-Sputterquellen eingespeist wird, d.h. eine Sputterquelle zu einem Zeitintervall mit maximaler Leistung versorgt wird und die nächste Sputterquelle im sich anschliessenden Zeitintervall mit maximaler Leistung versorgt wird. Auf diese Weise werden Entladungsstromdichten grösser 0.2A/cm 2 realisiert. Während der abgeschalteten Zeit hat das Sputtertarget die Möglichkeit abzukühlen, so dass das Temperaturlimit nicht überschritten wird.
摘要翻译：本发明涉及到与它有可能从目标表面例如雾化材料雾化的材料存在于离子的形式的高百分比的磁控溅射方法。根据本发明，这是通过一个简单的发电机，其功率在时间间隔被分配供给到多个磁控管溅射源，即来实现被提供给时间间隔具有最大功率溅射源，并在随后的时间间隔在最大功率被供给下一溅射。以这种方式，放电电流密度更大实现0.2A /厘米2。在关闭期间，溅射靶具有冷却，使温度限制不超过方式。

9. 发明申请

WO2015003806A1 TARGET ZUR REAKTIVEN SPUTTER-ABSCHEIDUNG ELEKTRISCH-ISOLIERENDER SCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：目标反应溅射沉积电绝缘LAYERS
公开(公告)号：WO2015003806A1
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：PCT/EP2014/001884
申请日：2014-07-09
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： HAGMANN, Juerg , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34 , C23C14/00 , C23C14/35 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3429 , C23C14/0036 , C23C14/081 , C23C14/3407 , C23C14/3485 , C23C14/35 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3467 , H01J2237/3321 , H01J2237/3322
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Target, dessen Targetoberfläche derart gestaltet ist, dass durch die Verwendung des besagten Targets für reaktive Sputter-Abscheidung von elektrisch isolierenden Schichten in einer Beschichtungskammer, eine Ausbildung einer Funkelentladung von der Targetoberfläche zu einer Anode welche sich auch in den Beschichtungskammer befindet vermieden wird.
摘要翻译：本发明涉及一种目标，所述目标表面被配置为使得其是通过使用所述目标的一种用于在涂覆室的电绝缘层的反应性溅射沉积，从靶表面的闪烁放电到在涂层室中的阳极的结构是可以避免的。

10. 发明申请

WO2014090389A1 PLASMAQUELLE 审中-公开
标题翻译：等离子体源
公开(公告)号：WO2014090389A1
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：PCT/EP2013/003704
申请日：2013-12-09
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3233 , C23C16/50 , H01J37/3244 , H01J37/32596 , H01J2237/3321 , H05H1/50
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaerzeugungsvorrichtung umfassend - eine Plasmaquelle mit Plasmaquellenhohlkörper (1) und Elektronenemissionseinheit (5) welche es ermöglicht freie Elektronen in den Plasmaquellenhohlkörper zu emittieren wobei der Plasmaquellenhohlkörper (1) einen ersten Gaseinlass (7a) und eine Plasmaquellenöffnung (10) aufweist, welche eine Öffnung zu einer Vakuumkammer bildet - sowie eine Anode mit Anodenhohlkörper (2), wobei der Anodenhohlkörper (2) einen zweiten Gaseinlass (7b) und eine Anodenöffnung (11) aufweist welche eine Öffnung zu der Vakuumkammer bildet - und eine Spannungsquelle (8) deren negativer Pol mit der Elektronenemissionseinheit (5) verbunden ist und deren positiver Pol mit dem Anodenhohlkörper (2) verbunden ist, wobei der positive Pol der Spannungsquelle (8) zusätzlich über einen ersten Nebenwiderstand (6a) mit dem Plasmaquellenhohlkörper elektrisch verbunden ist.
摘要翻译：本发明涉及一种等离子体生成装置，其包括： - 用等离子体源空心体（1）和电子发射单元（5），它允许在等离子体源的空心体的自由电子发射等离子体源中空体的等离子源（1）具有第一气体入口（7a）和一个等离子体源开口（10），其形成的开口的真空室 - 与阳极空心体与阳极（2），阳极空心体（2）的第二气体入口（7B）和形成的开口到真空室的阳极孔（11） - 和电压源（8）其负极连接到电子发射单元（5）和其正极到阳极的中空体（2）连接，其中，所述电压源（8）的正极另外经由第一分流电阻器（图6a），其连接被电连接到所述等离子体源空心体。

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