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1. 发明申请

WO2014166620A1 SPUTTERTARGET MIT ERHÖHTER LEISTUNGSVERTRÄGLICHKEIT 审中-公开
标题翻译：溅射，增加的动力兼容性
公开(公告)号：WO2014166620A1
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：PCT/EP2014/000927
申请日：2014-04-07
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , KERSCHBAUMER, Joerg
IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3435 , C23C14/3407 , H01J37/3438 , H01J37/3467 , H01J37/3497
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Plattenzentrierungssystem umfassend eine Platte mit Halterung, beim dem die Platte in der Halterung sowohl bei Raum- als auch bei höheren Temperaturen unabhängig von der Wärmeausdehnung der Platte und der Halterung zentriert ist, und die Platte sich in der Halterung bei höheren Temperaturen frei ausdehnen kann. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung ein Target mit rahmenförmiger Targetfassung, das in einer Beschichtungsquelle für Hochleistungsimpulsmagnetronsputtering des Targets sehr gut geeignet ist.
摘要翻译：本发明涉及一种包含有支撑的板Plattenzentrierungssystem，而在在两个房间中的保持器，并在升高的温度下将板无论该板的热膨胀和支架，并在较高温度下在保持器板的中心的自由扩展。特别地，本发明涉及一种具有框架状目标版本，这非常适合于目标的Hochleistungsimpulsmagnetronsputtering涂布源的靶。

2. 发明申请

WO2007131944A3 ARCQUELLE UND MAGNETANORDNUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2007131944A3
公开(公告)日：2007-11-22
申请号：PCT/EP2007/054545
申请日：2007-05-10
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , GWEHENBERGER, Juergen
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , GWEHENBERGER, Juergen
IPC分类号： H01J37/32
摘要： Die Erfindung betrifft eine Arcquelle mit einem Target (1), mit einer Targetvorderseite (2) zum Vakuumverdampfen des Targetmaterials, einer Targetrückseite mit einer Kühlplatte (4), einem zentralen Targetbereich (Z) sowie einen Targetrand. Weiter umfasst die Arcquelle eine Magnetanordnung (8, 9) mit einem inneren Magnetsystem (8) und/oder einem äusseren Magnetsystem (9), zum Erzeugen eines magnetischen Feldes im Bereich der Targetvorderseite. Dabei ist zumindest eines der Magnetsysteme (8) radial gepolt und bewirkt alleine oder in Verbindung mit dem jeweils anderen Magnetsystem, dass die Feldlinien des magnetischen Feldes dort im Wesentlichen parallel zur Targetvorderseite (2) verlaufen.

3. 发明申请

WO2011160766A1 ARC-VERDAMPFUNGSQUELLE MIT DEFINIERTEM ELEKTRISCHEM FELD 审中-公开
标题翻译：具有确定电场电弧蒸发源
公开(公告)号：WO2011160766A1
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：PCT/EP2011/002734
申请日：2011-06-03
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： C23C14/02 , C23C14/32 , C23C14/35 , C23C14/58 , C23C14/00
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/0089 , C23C14/021 , C23C14/325 , C23C14/5873
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine ARC-Verdampfungsvorrichtung mit einer Kathode, einer Anode, sowie einer Spannungsquelle um die Anode gegenüber der Kathode auf positives Potential zulegen. Die Vorrichtung umfasst auch magnetische Mittel welche zu einer Magnetfeld über der Kathodenoberfläche führen, wobei die Anode in der Nähe der Kathode so angeordnet ist, dass die aus der Kathodenoberfläche austretenden Magnetfeldlinien auf die Anode treffen.
摘要翻译：本发明涉及到具有阴极，阳极，和在正电位组的电压源相对于所述阴极的阳极的电弧式蒸发装置。该装置还包括磁性装置，该装置导致的磁场在阴极表面上，其中所述阳极被设置在阴极附近，使得从阴极表面的磁力线会遇到阳极新兴。

4. 发明申请

WO2010088947A1 MODIFIZIERBARE MAGNETKONFIGURATION FÜR ARC-VERDAMPUNGSQUELLEN 审中-公开
标题翻译：修改的磁铁配置电弧VERDAMPUNGSQUELLEN
公开(公告)号：WO2010088947A1
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：PCT/EP2009/009319
申请日：2009-12-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , GSTOEHL, Oliver
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg , GSTOEHL, Oliver
IPC分类号： H01J37/32 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3266 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3455 , H01J37/3458
摘要： ARC-Verdampfer Quelle zur Erzeugung von Hartstoff schichten auf Werkzeugen. Die Erfindung beinhaltet eine ARC - Verdampfer - Quelle bestehend aus zumindest einer elektrischen Magnetspule und einem bezüglich der Targetoberfläche beweglichem Permanetmagnet - Arrangement. Die Verdampferquelle kann an die unterschiedlichen Anforderungen von Oxid -, Nitrid -, oder Metallschichten angepasst werden. Der Ratenabfall während der Lebensdauer eines zu verdampfenden Targets kann durch einen angepassten Abstand des Permanent - Magneten zur Targetvorderseite konstant gehalten, oder eingestellt werden. Es kann ein Kompromiss zwischen Schichtrauhigkeit und Rate eingestellt werden.
摘要翻译：电弧蒸发源用于在工具的硬质材料层的产生。本发明包括一种ARC - 蒸发器 - 源包括至少一个电线圈，并相对于所述目标表面Permanetmagnet可动 - 布置。蒸汽源可以连接到氧化物的不同要求 - 氮化物 - ，或要调整的金属层。靶的寿命期间的速率下降可以通过永久的适于距离被蒸发 - 磁体到目标前保持恒定或可以被设置。您可以设置层粗糙度和速度之间的折衷。

5. 发明申请

WO2015003806A1 TARGET ZUR REAKTIVEN SPUTTER-ABSCHEIDUNG ELEKTRISCH-ISOLIERENDER SCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：目标反应溅射沉积电绝缘LAYERS
公开(公告)号：WO2015003806A1
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：PCT/EP2014/001884
申请日：2014-07-09
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： HAGMANN, Juerg , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34 , C23C14/00 , C23C14/35 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3429 , C23C14/0036 , C23C14/081 , C23C14/3407 , C23C14/3485 , C23C14/35 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3467 , H01J2237/3321 , H01J2237/3322
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Target, dessen Targetoberfläche derart gestaltet ist, dass durch die Verwendung des besagten Targets für reaktive Sputter-Abscheidung von elektrisch isolierenden Schichten in einer Beschichtungskammer, eine Ausbildung einer Funkelentladung von der Targetoberfläche zu einer Anode welche sich auch in den Beschichtungskammer befindet vermieden wird.
摘要翻译：本发明涉及一种目标，所述目标表面被配置为使得其是通过使用所述目标的一种用于在涂覆室的电绝缘层的反应性溅射沉积，从靶表面的闪烁放电到在涂层室中的阳极的结构是可以避免的。

6. 发明申请

WO2014090389A1 PLASMAQUELLE 审中-公开
标题翻译：等离子体源
公开(公告)号：WO2014090389A1
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：PCT/EP2013/003704
申请日：2013-12-09
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3233 , C23C16/50 , H01J37/3244 , H01J37/32596 , H01J2237/3321 , H05H1/50
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaerzeugungsvorrichtung umfassend - eine Plasmaquelle mit Plasmaquellenhohlkörper (1) und Elektronenemissionseinheit (5) welche es ermöglicht freie Elektronen in den Plasmaquellenhohlkörper zu emittieren wobei der Plasmaquellenhohlkörper (1) einen ersten Gaseinlass (7a) und eine Plasmaquellenöffnung (10) aufweist, welche eine Öffnung zu einer Vakuumkammer bildet - sowie eine Anode mit Anodenhohlkörper (2), wobei der Anodenhohlkörper (2) einen zweiten Gaseinlass (7b) und eine Anodenöffnung (11) aufweist welche eine Öffnung zu der Vakuumkammer bildet - und eine Spannungsquelle (8) deren negativer Pol mit der Elektronenemissionseinheit (5) verbunden ist und deren positiver Pol mit dem Anodenhohlkörper (2) verbunden ist, wobei der positive Pol der Spannungsquelle (8) zusätzlich über einen ersten Nebenwiderstand (6a) mit dem Plasmaquellenhohlkörper elektrisch verbunden ist.
摘要翻译：本发明涉及一种等离子体生成装置，其包括： - 用等离子体源空心体（1）和电子发射单元（5），它允许在等离子体源的空心体的自由电子发射等离子体源中空体的等离子源（1）具有第一气体入口（7a）和一个等离子体源开口（10），其形成的开口的真空室 - 与阳极空心体与阳极（2），阳极空心体（2）的第二气体入口（7B）和形成的开口到真空室的阳极孔（11） - 和电压源（8）其负极连接到电子发射单元（5）和其正极到阳极的中空体（2）连接，其中，所述电压源（8）的正极另外经由第一分流电阻器（图6a），其连接被电连接到所述等离子体源空心体。

7. 发明申请

WO2011128004A1 TARGET FÜR FUNKENVERDAMPFUNG MIT RÄUMLICHER BEGRENZUNG DER AUSBREITUNG DES FUNKENS 审中-公开
标题翻译：目标属地LIMIT火花蔓延无线电扩展
公开(公告)号：WO2011128004A1
公开(公告)日：2011-10-20
申请号：PCT/EP2011/000057
申请日：2011-01-10
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/12 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , H01J37/305 , H01J37/32614
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Target für eine ARC-Quelle mit einem ersten Körper (3) aus einem zu verdampfenden Material welcher im Wesentlichen in einer Ebene eine zur Verdampfung vorgesehene Oberfläche umfasst, wobei die Oberfläche in dieser Ebene einen zentralen Bereich umgibt, dadurch gekennzeichnet, dass in dem zentralen Bereich ein von dem ersten Körper (3) elektrisch dergestalt isolierter zweiter Körper (7) der vorzugsweise in Scheibenform ausgebildet ist, vorgesehen ist, dass vom zweiten Körper (7) im Wesentlichen keine Elektronen zur Aufrechterhaltung eines Funkens bereitgestellt werden können.
摘要翻译：本发明涉及一种靶用于具有第一主体（3）的材料制成的一种包括提供用于在一个平面中的蒸发表面基本上，所述表面围绕在该平面的中心部分被汽化电弧源，其特征在于在于，在所述第一本体的所述中心区域中的（3），以便分离第二主体（7），其优选地为圆盘状的电形成，它提供了从第二主体（7）设置基本上没有电子用于维持火花可以。

8. 发明申请

WO2010054726A1 ZÜNDVORRICHTUNG FÜR ARC QUELLEN 审中-公开
标题翻译：为弧形源点火装置
公开(公告)号：WO2010054726A1
公开(公告)日：2010-05-20
申请号：PCT/EP2009/007227
申请日：2009-10-08
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , GSTOEHL, Oliver , HAGMANN, Juerg
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , GSTOEHL, Oliver , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32 , C23F1/08 , H01J37/32009 , H01J37/32055
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Zündeinrichtung zum Zünden einer Hochstromentladung eines elektrischen Lichtbogenverdampfers in einer Vakuumbeschichtungsanlage. Die Zündung erfolgt mittels mechanischem Schliessen und Öffnen eines Kontakts zwischen Kathode und Anode. Der Kontakt wird mittels eines auf einer Zwangsbahn beweglichen Zündfingers hergestellt. Aufgrund der Zwangsbahn kann der Zündfinger mittels eines einfachen mechanischen Antriebs in eine vor Beschichtung geschützte Parkposition gefahren werden und ausserdem zur Zündung eines zweiten Targets genutzt werden.
摘要翻译：本发明涉及一种点火装置用于在真空涂层系统点燃电弧蒸发器的大电流放电。点火通过机械闭合和在阴极和阳极之间的接触的开口的手段进行。的接触是通过在铁路被迫点火手指的移动的手段制备。由于点火手指的强制路径，可以移动到涂覆停车位置之前被保护的，并且也用于第二目标点火简单的机械驱动装置。

9. 发明申请

WO2013149692A1 AN EINE INDIREKTE KÜHLVORRICHTUNG ANGEPASSTES TARGET 审中-公开
标题翻译：间接COOLER目标FITTED
公开(公告)号：WO2013149692A1
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：PCT/EP2013/000623
申请日：2013-03-05
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01J37/3497 , C09J7/22 , C23C14/34 , C23C14/3407 , C23C14/54 , H01J37/3411 , H01J37/3417 , H01J37/3435 , H01J2237/002
摘要： Die Erfindung betrifft ein Target, welches als Materialquelle für ein Abscheideverfahren aus der Gasphase ausgebildet ist mit einer Vorderseite und einer Rückseite, das dadurch gekennzeichnet ist, dass an der Rückseite eine selbstklebende Karbonfolie aufgeklebt ist. Das Target kann als Materialquelle für ein Sputtering-Verfahren und/oder für ein Funkenverdampfungs-verfahren ausgebildet sein. Besonders vorteilhaft wird das Target in einer Beschichtungsquelle mit indirekter Kühlung eingesetzt, wobei die die selbstklebende Karbonfolie flächig in Kontakt mit einer Membrane steht welche Teil eines Kühlkanals ist.
摘要翻译：本发明涉及一种形成为材料的，用于从具有前侧的气相和背面，其在后部的自粘碳箔是粘的特征在于，一个沉积源的靶。目标可以被配置为材料的溅射工艺和/或用于无线电蒸发方法的源。特别有利地，目标是与间接冷却，由此在与膜其是冷却通道的部分相接触的自粘碳箔表面的涂料源使用。

10. 发明申请

WO2013034258A1 PLASMAQUELLE 审中-公开
标题翻译：等离子体源
公开(公告)号：WO2013034258A1
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：PCT/EP2012/003623
申请日：2012-08-29
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , HAGMANN, Juerg
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H05H1/24 , H01J27/022 , H01J37/32045 , H01J37/32064
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaquelle die floatend an einer Vakuumkammer angeordnet ist wobei die Plasmaquelle ein Quellengehäuse umfasst und in dem Quellengehäuse ein von diesem isoliert angeordnetes Filament vorgesehen ist, wobei Mittel zu Messung des Potentialabfalls zwischen dem Quellengehäuse und dem Filament vorgesehen. Der Gemessene Potentialabfall kann zur Regelung der das Filament heizenden Spannung verwendet werden. Erfindungsgemäss sind entsprechende Mittel vorgesehen.
摘要翻译：本发明涉及一种在真空室中，其中，所述等离子体源包括源室以及设置在该绝缘长丝的阀在源壳体设置布置成浮动的等离子体源，装置被提供以测量源壳体和被设置在灯丝之间的电势降。所测量的电势降可以被用来控制的灯丝加热电压。根据本发明，提供了适当的装置。

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