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    • 8. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUTEIL
    • 光电半导体器件
    • WO2010105865A2
    • 2010-09-23
    • PCT/EP2010/050647
    • 2010-01-20
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHMÜLLER, MartinSTRAUSS, Uwe
    • MÜLLER, MartinSTRAUSS, Uwe
    • H01S5/4031H01S3/094096H01S3/0941H01S5/0425H01S5/1053H01S5/3095H01S5/4043H01S5/405H01S5/4087H01S5/423
    • In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) umfasst dieses einen epitaktisch gewachsenen Halbleiterkörper (2) mit mindestens einer aktiven Schicht (3). Weiterhin weist der Halbleiterkörper (2) des Halbleiterbauteils (1) mindestens eine Barriereschicht (4) auf, wobei die Barriereschicht (4) direkt an die aktive Schicht (3) grenzt. Entlang einer Variationsrichtung oder einer Längsrichtung (L), senkrecht zu einer Wachstumsrichtung (G) des Halbleiterkörpers (2), ist eine Materialzusammensetzung und/oder eine Schichtdicke der aktiven Schicht (3) und/oder der Barriereschicht (4) variiert. Durch die Variation der Materialzusammensetzung und/oder der Schichtdicke der aktiven Schicht (3) und/oder der Barriereschicht (4) ist eine Emissionswellenlänge (λ) einer in der aktiven Schicht (3) erzeugten Strahlung (R), ebenfalls entlang der Variationsrichtung oder entlang der Längsrichtung (L), eingestellt.
    • 在外延生长的半导体本体的光电子半导体器件(1)中的至少一个实施例中(2)具有至少一个有源层(3)。 此外,半导体主体(2)的半导体元件(1)的至少一个阻挡层(4),其中所述阻挡层(4)相邻的有源层(3)。 沿变化的方向或长度方向(L),垂直于所述半导体主体(2),材料组合物和/或活性层(3)和/或阻挡层(4)被改变的层厚度的生长方向(G)。 通过改变材料的组成和/或活性层(3)和/或阻挡层的层厚度(4)是一种发射波长(λ)的辐射所产生的在所述有源层(3)(R),也沿着变化或沿的方向 纵向方向(L),被设置。