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    • 5. 发明申请
    • LEITERRAHMEN, OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT MIT EINEM LEITERRAHMEN UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS
    • 梯形框架,具有梯形框架的光电子部件以及用于制造光电子部件的方法
    • WO2018086909A1
    • 2018-05-17
    • PCT/EP2017/077491
    • 2017-10-26
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • LAMFALUSI, TamasRICHTER, Markus
    • H01L33/62H01L33/48H01L33/56H01L33/64
    • Es wird ein Leiterrahmen (1) für einen strahlungsemittierenden Halbleiterchip (7) mit einem ersten Element (2) mit einer ersten Haupterstreckungsebene, einem zweiten Element (3) mit einer zweiten Haupterstreckungsebene und einem dritten Element (4) mit einer dritten Haupterstreckungsebene angegeben, wobei -die erste Haupterstreckungsebene, die zweite Haupterstreckungsebene und die dritte Haupterstreckungsebene parallel zueinander angeordnet sind, -die drei Elemente (2, 3, 4) in einer Stapelrichtung (R) übereinander angeordnet sind, und -das dritte Element (4) eine Auflagefläche (9) für den Halbleiterchip (7) aufweist, die kleiner ist als eine Montagefläche (8) des Halbleiterchips (7). Weiterhin werden ein optoelektronisches Bauelement und ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben.
    • (7)具有第一主平面的第一元件(2)

      有一个引线框(1)F导航用途R A发射辐射的半导体芯片,(3),其具有延伸的第二主平面的第二构件和第三构件 (4)设置有第三主延伸平面,其中-the第一主平面,延伸的第二主平面,和延伸的第三主面被布置成平行于彼此,-the三个元件(2,3,4)的层叠方向(R)导航使用制备其他布置, 以及 - 第三元件(4)具有用于半导体芯片(7)的支撑表面(9),其小于半导体芯片(7)的安装表面(8)。 此外,指定了光电子部件和用于制造光电子部件的方法

    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES KONVERSIONSELEMENTS
    • 一种用于生产转换元件
    • WO2014202414A1
    • 2014-12-24
    • PCT/EP2014/061868
    • 2014-06-06
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • RICHTER, MarkusBURGER, Markus
    • H01L33/50
    • H01L33/505B05D1/32B05D1/322B05D3/02H01L33/50H01L2933/0041
    • Ein Verfahren zum Herstellen eines Konversionselements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Substrats mit einer Oberfläche, zum Ausbilden einer ersten Maskenstruktur über der Oberfläche, wobei die erste Maskenstruktur erste Stege und zwischen den ersten Stegen angeordnete erste Öffnungen aufweist, wobei die ersten Öffnungen Kavitäten bilden, in denen die Oberfläche des Substrats zugänglich ist, zum Anordnen einer zweiten Maskenstruktur über der ersten Maskenstruktur, wobei die zweite Maskenstruktur zweite Stege und zwischen den zweiten Stegen angeordnete zweite Öffnungen aufweist, wobei die ersten Stege durch die zweiten Stege zumindest teilweise abgedeckt werden, wobei die Kavitäten durch die zweiten Öffnungen zumindest teilweise zugänglich bleiben, zum Einsprühen eines Materials in die Kavitäten durch die zweiten Öffnungen, zum Entfernen der zweiten Maskenstruktur und zum Entfernen der ersten Maskenstruktur.
    • 制造包括提供具有用于形成表面,其中,所述第一掩模图案包括第一连接盘和设置在所述第一脊第一开口之间在第一掩模图案的表面的衬底的步骤的转换元件的方法,所述第一开口,以形成空腔,其中 所述衬底的所述表面是用于在第一掩模图案,其中所述第二掩模图案包括第二纤维网和布置的第二开口,其中,第一纤维网被第二腹板至少部分覆盖所述第二腹板之间,空腔通过设置第二掩模图案访问 第二开口保持至少部分开放的,用于喷射到材料通过第二开口空腔用于除去第二掩模图案,并去除所述第一掩模图案。
    • 9. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS
    • 方法制造光电子器件
    • WO2014180697A1
    • 2014-11-13
    • PCT/EP2014/058612
    • 2014-04-28
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • RICHTER, Markus
    • H01L33/50H01L33/44
    • H01L33/50H01L33/44H01L2224/48091H01L2224/97H01L2933/0025H01L2933/0041H01L2924/00014
    • Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (10) umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Substrats (100) mit einem auf einer Oberfläche (101) des Substrats (100) angeordneten optoelektronischen Halbleiterchip (200), zum Bereitstellen einer Maske (300) mit einer unteren Lage (310) und einer oberen Lage (330), wobei die untere Lage (310) eine untere Öffnung (320) und die obere Lage (330) eine obere Öffnung (340) aufweist, die gemeinsam eine durchgehende Maskenöffnung (350) bilden, wobei die untere Öffnung (320) eine größere Fläche aufweist als die obere Öffnung (340), zum Anordnen der Maske (300) über der Oberfläche (101) des Substrats (100) derart, dass die untere Lage (310) der Oberfläche (101) des Substrats (100) zugewandt und die Maskenöffnung (350) über dem optoelektronischen Halbleiterchip (200) angeordnet ist, zum Aufsprühen einer Schicht (400) auf den optoelektronischen Halbleiterchip (200) durch die Maskenöffnung (350), und zum Entfernen der Maske (300).
    • 制造光电子器件(10)的方法,包括在所述基板的一个表面(101)提供衬底(100)与一种的步骤(100),其布置的光电子半导体芯片(200),用于提供具有较低层的掩模(300) (310)和上部层(330),其中,所述下层(310)具有下部开口(320)和顶片(330)的上部开口(340),它们一起形成一个连续的掩模开口(350),其特征在于 下部开口(320)具有比用于布置在基板(100)的表面(101)上方的掩模(300)的上部开口(340)更大的面积,使得所述表面的下层(310)(101) 所述基板(100)的面和设置在所述掩模开口(350)到所述光电子半导体芯片(200),用于喷涂的层(400)到所述光电子半导体芯片(200)通过掩模开口(350),和DE去除 ř马斯克(300)。