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1. 发明申请

WO2010057747A1 VERFAHREN ZUR VORBEHANDLUNG VON SUBSTRATEN FÜR PVD VERFAHREN 审中-公开
标题翻译：用于工艺用的衬底PVD方法制备
公开(公告)号：WO2010057747A1
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：PCT/EP2009/064137
申请日：2009-10-27
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RUDIGIER, Helmut , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , VOM BRAUCKE, Troy
发明人： RUDIGIER, Helmut , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , VOM BRAUCKE, Troy
IPC分类号： C23C14/02 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/022 , C23C14/025 , H01J37/32055 , H01J37/32064
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken in einer Vakuumbehandlungsanlage mit einer als Target ausgebildeten ersten Elektrode die Teil einer Arcverdampfungsquelle ist, wobei über der ersten Elektrode ein Funken mit Funkenstrom betrieben wird durch welchen Material vom Target verdampft wird welches sich zumindest teilweise und zeitweise auf den Werkstücken ablegt und mit einer zweiten Elektrode, die als Werkstückhalterung ausgebildet ist und zusammen mit den Werkstücken eine Biaselektrode bildet, wobei an die Biaselektrode mittels einer Spannungsversorgung eine Biasspannung angelegt wird, wobei die Biasspannung in Abstimmung mit dem Funkenstrom so angelegt wird, dass netto im Wesentlichen kein Materialaufbau auf der Oberfläche stattfindet.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在真空处理系统的工件的表面处理方法具有形成作为目标第一电极是Arcverdampfungsquelle的一部分，其中在所述第一电极操作，其中火花电流的火花，通过该材料从靶蒸发的是至少部分地延伸，并间歇性地沉积物的工件，并用其与工件的偏置电极，其特征在于，一个偏置电压由一个电压源的装置施加到偏置电极设计为工件保持器和一起的第二电极，其中，所述偏置电压在合作施加与广播流，使得净发生的表面上基本上没有材料结构。

2. 发明申请

WO2012167886A1 ENTSCHICHTUNGSVERFAHREN FÜR HARTE KOHLENSTOFFSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：去层用于硬质涂层
公开(公告)号：WO2012167886A1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：PCT/EP2012/002305
申请日：2012-05-31
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23G5/00
CPC分类号： C23G5/00
摘要： Verfahren zum Entschichten von Kohlenstoffschichten, insbesondere von ta-C Schichten von Substratoberflächen von Werkzeugen und Bauteilen. Das zu entschichtende Substrat wird demgemäß auf einen Substrathalter in einer Vakuumkammer angeordnet, die Vakuumkammer wird mit mindestens einem den Abtransport von Kohlenstoff in Gasform unterstützendem Reaktivgas beschickt und eine Niederspannungsplasmaentladung wird in der Vakuumkammer zur Anregung des Reaktivgases und somit zur Unterstützung der erforderlichen chemischen Reaktion bzw. Reaktionen zum Entschichten der beschichteten Substrat erzeugt. Dabei ist die Niederspannungsplasmaentladung eine Gleichstrom-Niedervoltbogenentladung, die zu entschichtenden Substratoberflächen im Wesentlichen werden ausschließlich mit Elektronen beschossen und als Reaktivgas werden Sauerstoff, Stickstoff und Wasserstoff verwendet.
摘要翻译：一种用于汽提的碳层，特别是工具和组件基板表面的TA-C层的方法。的被剥离基板被相应配置的基板支架上在真空室中，真空室中的至少一种加入气态形式支持反应气体中去除碳和低电压等离子放电在所述真空室的反应气体的激发，并因此支持所需的化学反应或创建用于经涂覆的基材的剥离反应。低压等离子体放电为直流低电压电弧放电，与电子轰击被剥离仅基底表面并基本上作为反应气体，氧，氮和氢被使用。

3. 发明申请

WO2008009619A9 VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN ELEKTRISCH ISOLIERENDER SCHICHTEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2008009619A9
公开(公告)日：2008-01-24
申请号：PCT/EP2007/057179
申请日：2007-07-12
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , WOHLRAB, Christian
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , WOHLRAB, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/08
摘要： Verfahren zur Herstellung schlecht leitender, insbesondere isolierender Schichten auf zumindest einem Werkstück mittels Vakuumbeschichtung, wobei eine elektrische Bogenentladung zwischen mindestens einer Anode und einer Kathode einer Arcquelle, in reaktivgashaltiger Atmosphäre betrieben wird und an der Oberfläche eines mit der Kathode elektrisch verbundenen Targets kein oder nur ein kleines, im Wesentlichen zur Targetoberfläche senkrechtes, äusseres Magnetfeld zur Unterstützung des Verdampfungsprozesses erzeugt wird, wobei der Wiederbeschichtungsgrad der Oberfläche durch andere Beschichtungsquellen kleiner 10 % ist, bzw. das Magnetfeld mit einem Magnetsystem, das zumindest eine axial gepolten Spule mit einer dem Targetumfang ähnlichen Geometrie umfasst, erzeugt wird.

4. 发明申请

WO2006099758A3 VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER GEPULSTEN ARCQUELLE 审中-公开
公开(公告)号：WO2006099758A3
公开(公告)日：2006-09-28
申请号：PCT/CH2006/000123
申请日：2006-03-01
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , GSTOEHL, Oliver , WIDRIG, Beno , LENDI, Daniel
发明人： RAMM, Jürgen , GSTOEHL, Oliver , WIDRIG, Beno , LENDI, Daniel
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/32
摘要： Die Erfindung betrifft ein Arcverfahren zum Abscheiden isolierender Schichten sowie ein Arcverfahren zum Tieftemperaturbeschichten, wobei eine elektrische Funkenentladung die auf einer Oberfläche eines Targets (5) einer Arcquelle gezündet bzw. betrieben wird gleichzeitig mit einem Gleichstrom als auch mit einem Puls- bzw. Wechselstrom gespeist wird. Weiters betrifft die Erfindung eine Arcquelle bei der das Target (5) an eine Stromversorgungseinheit (13) angeschlossen ist, die entweder, zumindest eine erste gepulste Hochstromversorgung 18, 18' sowie eine weitere Stromversorgung 13', 18' ', oder eine in Schaltnetzteiltechnik ausgeführte Stromversorung 21, 21', 22 angeschlossen ist.

5. 发明申请

WO2012055485A1 MOLYBDÄNMONOXIDSCHICHTEN UND DEREN HERSTELLUNG MITTELS PVD 审中-公开
标题翻译： MOLYBDÄNMONOXIDSCHICHTEN及生产用PVD
公开(公告)号：WO2012055485A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/EP2011/004990
申请日：2011-10-06
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , GLÄNTZ, Kerstin , SEIBERT, Florian
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , GLÄNTZ, Kerstin , SEIBERT, Florian
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/32 , C23C14/34 , C23C30/00 , C23C14/54
CPC分类号： C10M103/06 , C23C14/0084 , C23C14/024 , C23C14/027 , C23C14/0676 , C23C14/08 , C23C14/325 , C23C14/3414 , C23C14/548 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C28/322 , C23C28/3455 , C23C28/347 , C23C28/36 , C23C28/42
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Beschichtung, die mindestens eine molybdänhaltige Schicht mit Molybdänoxid umfasst, wobei das Molybdänoxid im Wesentlichen Molybdänmonoxid ist. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein PVD-Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemässen Beschichtung, wobei die das Molybdänmonoxid umfassende Schicht mittels Funkenverdampfen hergestellt wird. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein Bauteil, welches oben genannte Beschichtung aufweisst.
摘要翻译：本发明涉及一种涂层，该涂层包含至少一种具有钼氧化物，其中氧化钼基本上Molybdänmonoxid层含钼。本发明还涉及用于制备本发明的涂料，其中包含所述Molybdänmonoxid层是通过电弧蒸发产生的PVD方法。本发明还涉及一种aufweisst上述涂层的成分。

6. 发明申请

WO2009129879A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON METALLOXIDSCHICHTEN DURCH FUNKENVERDAMPFUNG 审中-公开
标题翻译： METHOD TO无线电扩展制备金属氧化物的
公开(公告)号：WO2009129879A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/EP2009/000851
申请日：2009-02-06
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/08 , C23C14/32 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C1/0416 , C23C14/0036 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/325 , Y10T428/12028 , B22F3/15
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung oxidischer Schichten mittels PVD (pysical vapor deposition), insbesondere mittels kathodischer Funkenverdampfung, wobei ein pulvermetallurgisches Target verdampft wird und das pulvermetallurgische Target aus zumindest zwei metallischen oder halbmetallischen Bestandteilen ausgebildet ist, wobei die Zusammensetzung der metallischen oder halbmetallischen Bestandteile bzw. des Targets so gewählt ist, dass beim Aufheizen im Übergang von Raumtemperatur in die Flüssigphase keine Phasengrenze rein fester Phasen bezogen auf das Phasendiagramm einer geschmolzenen Mischung der zumindest zwei metallischen oder halbmetallischen Bestandteile überschritten wird.
摘要翻译：本发明涉及一种通过阴极电弧蒸发，由此粉末冶金靶蒸发并粉末冶金靶的装置通过PVD（身体属性气相沉积），在特定的方法生成氧化层中的至少两个金属或从半金属成分，该金属或半金属成分的组合物的形成或目标的被选择为使得在加热过程中从室温过渡超过所述至少两个金属或半金属成分在液相中的熔融混合物的相图基于纯粹固相无相边界。

7. 发明申请

WO2008145459A1 VAKUUMBEHANDLUNGSANLAGE UND VAKUUMBEHANDLUNGSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：真空处理厂和真空处理过程
公开(公告)号：WO2008145459A1
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/EP2008/054851
申请日：2008-04-22
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , KASEMANN, Stephan , PIMENTA, Marcelo, Dornelles , MASSLER, Orlaw , HANSELMANN, Barbara
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , KASEMANN, Stephan , PIMENTA, Marcelo, Dornelles , MASSLER, Orlaw , HANSELMANN, Barbara
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/22 , C23C14/02 , C23C30/00 , C23C28/00 , C23C16/26
CPC分类号： H01J37/3255 , C23C14/325 , C23C16/0245 , C23C16/503 , H01J37/32055
摘要： Vakuumbehandlungsanlage bzw. Vakuumbehandlungsverfahren zur Durchführung eines Plasmaverfahrens, wobei die Behandlung in einer Vakuumkammer (1) durchgeführt wird, in der eine Vorrichtung zur Erzeugung einer elektrischen Niedervoltbogenentladung (15) (NVBE), bestehend aus einer Kathode (10) und einer mit der Kathode über einen Bogengenerator elektrisch verschaltbaren Anode (13), und ein elektrisch mit einem Biasgenerator (16) verschaltbarer Werkstückträger (7) zur Aufnahme und Bewegung von Werkstücken (2), sowie zumindest eine Zuleitung (8) für Inert- und/oder Reaktivgas angeordnet sind. Dabei ist zumindest ein Teil der Oberfläche der Anode aus Graphit gefertigt und wird bei hoher Temperatur betrieben.
摘要翻译：一个通过连接到所述阴极用于进行等离子体处理，其特征在于，在真空腔室中的处理（1）中的装置用于产生电场低电压电弧放电（15）（NVBE）由阴极（10）的执行的真空处理装置或真空处理方法及电弧发生器电互连的阳极（13）和电连接到一偏压发生器（16）互相连接的工件托架（7），用于（2），以及用于惰性和/或反应性气体的至少一个进料管线（8）接收并移动工件布置。由石墨制成的阳极的表面的一部分被至少制造并在高温度下操作。

8. 发明申请

WO2011009573A1 METHOD FOR PRODUCING COATINGS WITH A SINGLE COMPOSITE TARGET 审中-公开
标题翻译：用单一复合材料制造涂料的方法
公开(公告)号：WO2011009573A1
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：PCT/EP2010/004365
申请日：2010-07-16
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUDIGIER, Helmut
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUDIGIER, Helmut
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0084 , C23C14/06
摘要： The invention pertains to a method for the production of coatings by physical vapor deposition (PVD), wherein a binary target or a target with more than two constituents is evaporated in a curvilinear cathodic arc discharge, causing the ions with different masses (elements) to be splitted and the ion splitting results in variations for the ratio of the different masses (elements) at different positions in the deposition chamber.
摘要翻译：本发明涉及通过物理气相沉积（PVD）制备涂层的方法，其中在曲线阴极电弧放电中蒸发具有多于两种成分的二元靶或靶，导致具有不同质量（元素）的离子被分裂并且离子分裂导致沉积室中不同位置处的不同质量（元素）的比率的变化。

9. 发明申请

WO2012139707A1 KOHLENSTOFFFUNKENVERDAMPFUNG 审中-公开
标题翻译：碳无线电扩展
公开(公告)号：WO2012139707A1
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：PCT/EP2012/001322
申请日：2012-03-26
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Bruno , RUHM, Kurt
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Bruno , RUHM, Kurt
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32064 , H05B7/148 , H05B7/20 , H05H2001/4682
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Betreiben einer gepulsten diskontinuierlichen Funkenentladung. Der Funken wird über einen Kondensator gespiesen. Es gibt zwischen den Pulsen abgeschaltete Zeitintervalle, während denen kein Funkenstrom fliesst. Innerhalb der Pulse, also während der zugeschalteten Zeitintervalle wird die Ladungszufuhr bei erreichen einer Stromschwelle abgestellt und erneut angestellt, so dass es zu Subpulsen innerhalb der Pulse kommt. Die Zeitintervalle und Subpulse sind erfindungsgemäss so gewählt, dass bei erneutem Zuschalten des Kondensators die Funkenentladung ohne weiteres erneut zündet.
摘要翻译：本发明涉及一种操作脉冲间歇火花放电的方法。火花通过电容器供给。有在这期间流过无火花电流脉冲的时间间隔之间关闭。内的脉冲，在期间被激活的时间间隔即在电荷供给将实现电流阈值断开并再次接通，从而将有脉冲内的子脉冲。的时间间隔和子脉冲被创造性地选择，使得当所述电容器的一个新的连接时，火花放电再次容易点燃。

10. 发明申请

WO2011103955A1 SYNTHESIS OF METAL OXIDES BY REACTIVE CATHODIC ARC EVAPORATION 审中-公开
标题翻译：通过反应性阴极弧蒸发合成金属氧化物
公开(公告)号：WO2011103955A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：PCT/EP2011/000383
申请日：2011-02-10
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Benno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Benno
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/08 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0021 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/083
摘要： This application relates to the reactive cathodic arc evaporation of the composite Al-Cr targets and the nucleation and phase formation of the synthesized Al-Cr-O layers. The oxygen partial pressure and the pulsed operation of the arc current influence the formation of intermetallic phases and solid solutions at the target surface. The nucleation of the ternary oxides at the substrate site appears to be, to some extent, controllable by the intermetallics or solid solutions formed at the target surface. A specific nucleation process at substrate site can therefore be induced by the free choice of target composition in combination with the partial pressure of the oxygen reactive gas. It also allows the control over the oxide island growth at the target surface which occurs occasionally at higher oxygen partial pressure. This is supported by the X-ray diffraction analysis of the layers as well as of the target surface.
摘要翻译：本申请涉及复合Al-Cr靶的反应阴极电弧蒸发和合成的Al-Cr-O层的成核和相形成。氧分压和电弧电流的脉冲操作影响目标表面上金属间相和固溶体的形成。在基底部位的三元氧化物的成核似乎在某种程度上可以通过在靶表面形成的金属间化合物或固溶体来控制。因此，可以通过与氧反应气体的分压结合的目标组合物的自由选择来诱导底物位置处的特定成核过程。它还允许控制目标表面上的氧化物岛生长偶尔在更高的氧分压下发生。这通过层以及目标表面的X射线衍射分析来支持。

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