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1. 发明申请

WO2011009573A1 METHOD FOR PRODUCING COATINGS WITH A SINGLE COMPOSITE TARGET 审中-公开
标题翻译：用单一复合材料制造涂料的方法
公开(公告)号：WO2011009573A1
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：PCT/EP2010/004365
申请日：2010-07-16
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUDIGIER, Helmut
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , RUDIGIER, Helmut
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0084 , C23C14/06
摘要： The invention pertains to a method for the production of coatings by physical vapor deposition (PVD), wherein a binary target or a target with more than two constituents is evaporated in a curvilinear cathodic arc discharge, causing the ions with different masses (elements) to be splitted and the ion splitting results in variations for the ratio of the different masses (elements) at different positions in the deposition chamber.
摘要翻译：本发明涉及通过物理气相沉积（PVD）制备涂层的方法，其中在曲线阴极电弧放电中蒸发具有多于两种成分的二元靶或靶，导致具有不同质量（元素）的离子被分裂并且离子分裂导致沉积室中不同位置处的不同质量（元素）的比率的变化。

2. 发明申请

WO2010057747A1 VERFAHREN ZUR VORBEHANDLUNG VON SUBSTRATEN FÜR PVD VERFAHREN 审中-公开
标题翻译：用于工艺用的衬底PVD方法制备
公开(公告)号：WO2010057747A1
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：PCT/EP2009/064137
申请日：2009-10-27
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RUDIGIER, Helmut , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , VOM BRAUCKE, Troy
发明人： RUDIGIER, Helmut , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , VOM BRAUCKE, Troy
IPC分类号： C23C14/02 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/022 , C23C14/025 , H01J37/32055 , H01J37/32064
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken in einer Vakuumbehandlungsanlage mit einer als Target ausgebildeten ersten Elektrode die Teil einer Arcverdampfungsquelle ist, wobei über der ersten Elektrode ein Funken mit Funkenstrom betrieben wird durch welchen Material vom Target verdampft wird welches sich zumindest teilweise und zeitweise auf den Werkstücken ablegt und mit einer zweiten Elektrode, die als Werkstückhalterung ausgebildet ist und zusammen mit den Werkstücken eine Biaselektrode bildet, wobei an die Biaselektrode mittels einer Spannungsversorgung eine Biasspannung angelegt wird, wobei die Biasspannung in Abstimmung mit dem Funkenstrom so angelegt wird, dass netto im Wesentlichen kein Materialaufbau auf der Oberfläche stattfindet.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在真空处理系统的工件的表面处理方法具有形成作为目标第一电极是Arcverdampfungsquelle的一部分，其中在所述第一电极操作，其中火花电流的火花，通过该材料从靶蒸发的是至少部分地延伸，并间歇性地沉积物的工件，并用其与工件的偏置电极，其特征在于，一个偏置电压由一个电压源的装置施加到偏置电极设计为工件保持器和一起的第二电极，其中，所述偏置电压在合作施加与广播流，使得净发生的表面上基本上没有材料结构。

3. 发明申请

WO2011036246A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON KUBISCHEN ZIRKONOXIDSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：用于生产立方氧化锆层
公开(公告)号：WO2011036246A2
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：PCT/EP2010/064136
申请日：2010-09-24
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23C14/00
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/0021 , C23C14/0036 , C23C14/0042 , C23C14/0676 , C23C14/083 , C23C14/325 , C23C14/3485
摘要： Zur Herstellung von Zirkonoxid-basierten Schichten auf einem Ablege-Substrat bei welchem reaktives Funkenverdampfen mit gepulstem Funkenstrom und/oder Anlegen eines zum Funkentarget senkrechten Magnetfeldes eingesetzt wird, wird ein ein elementares Zirkon und mindestens einen Stabilisator umfassendes Mischtarget eingesetzt oder ein Zirkoniumtarget aus elementarem Zirkonium wobei dann nebst Sauerstoff, Stickstoff als reaktiv Gas eingesetzt wird. Alternativ kann, kombiniert mit dem Einsatz des Mischtargets, auch, nebst Sauerstoff, Stickstoff als Reaktivgas eingesetzt werden.
摘要翻译：用于在沉积基底上生产氧化锆类层，其中反应性电弧蒸镀脉冲正常的电弧电流和/或应用到无线电目标磁场，一个元素锆和至少一种稳定剂的综合混合靶使用或元素锆，其中的一个Zirkoniumtarget 然后用氧气，氮气作为反应性气体一起使用。可替代地，通过使用混合靶的组合，也可用于除氧气，氮气作为反应性气体。

4. 发明申请

WO2012167886A1 ENTSCHICHTUNGSVERFAHREN FÜR HARTE KOHLENSTOFFSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：去层用于硬质涂层
公开(公告)号：WO2012167886A1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：PCT/EP2012/002305
申请日：2012-05-31
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23G5/00
CPC分类号： C23G5/00
摘要： Verfahren zum Entschichten von Kohlenstoffschichten, insbesondere von ta-C Schichten von Substratoberflächen von Werkzeugen und Bauteilen. Das zu entschichtende Substrat wird demgemäß auf einen Substrathalter in einer Vakuumkammer angeordnet, die Vakuumkammer wird mit mindestens einem den Abtransport von Kohlenstoff in Gasform unterstützendem Reaktivgas beschickt und eine Niederspannungsplasmaentladung wird in der Vakuumkammer zur Anregung des Reaktivgases und somit zur Unterstützung der erforderlichen chemischen Reaktion bzw. Reaktionen zum Entschichten der beschichteten Substrat erzeugt. Dabei ist die Niederspannungsplasmaentladung eine Gleichstrom-Niedervoltbogenentladung, die zu entschichtenden Substratoberflächen im Wesentlichen werden ausschließlich mit Elektronen beschossen und als Reaktivgas werden Sauerstoff, Stickstoff und Wasserstoff verwendet.
摘要翻译：一种用于汽提的碳层，特别是工具和组件基板表面的TA-C层的方法。的被剥离基板被相应配置的基板支架上在真空室中，真空室中的至少一种加入气态形式支持反应气体中去除碳和低电压等离子放电在所述真空室的反应气体的激发，并因此支持所需的化学反应或创建用于经涂覆的基材的剥离反应。低压等离子体放电为直流低电压电弧放电，与电子轰击被剥离仅基底表面并基本上作为反应气体，氧，氮和氢被使用。

5. 发明申请

WO2008009619A9 VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN ELEKTRISCH ISOLIERENDER SCHICHTEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2008009619A9
公开(公告)日：2008-01-24
申请号：PCT/EP2007/057179
申请日：2007-07-12
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , WOHLRAB, Christian
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , WOHLRAB, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/08
摘要： Verfahren zur Herstellung schlecht leitender, insbesondere isolierender Schichten auf zumindest einem Werkstück mittels Vakuumbeschichtung, wobei eine elektrische Bogenentladung zwischen mindestens einer Anode und einer Kathode einer Arcquelle, in reaktivgashaltiger Atmosphäre betrieben wird und an der Oberfläche eines mit der Kathode elektrisch verbundenen Targets kein oder nur ein kleines, im Wesentlichen zur Targetoberfläche senkrechtes, äusseres Magnetfeld zur Unterstützung des Verdampfungsprozesses erzeugt wird, wobei der Wiederbeschichtungsgrad der Oberfläche durch andere Beschichtungsquellen kleiner 10 % ist, bzw. das Magnetfeld mit einem Magnetsystem, das zumindest eine axial gepolten Spule mit einer dem Targetumfang ähnlichen Geometrie umfasst, erzeugt wird.

6. 发明申请

WO2008043606A1 SCHICHTSYSTEM MIT ZUMINDEST EINER MISCHKRISTALLSCHICHT EINES MEHRFACHOXIDS 审中-公开
标题翻译：与多氧化物中的至少一种化合物的液晶层的层系统
公开(公告)号：WO2008043606A1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/EP2007/059196
申请日：2007-09-03
申请人： OERLIKON TRADING, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , ANTE, Michael , WOHLRAB, Christian
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , ANTE, Michael , WOHLRAB, Christian
IPC分类号： C23C30/00 , C23C14/08 , C23C14/32
CPC分类号： C23C30/00 , C23C14/08 , C23C28/042
摘要： Ein PVD Schichtsystem zum Beschichten von Werkstücken umfasst zumindest eine Mischkristallschicht eines Mehrfachoxids mit folgender Zusammensetzung: (Me1 1-x Me2 x ) 2 O 3 . Dabei sind Me1 und Me2 jeweils zumindest eines der Elemente Al, Cr, Fe, Li, Mg, Mn, Nb, Ti, Sb oder V. Die Elemente von Me1 und Me2 sind jeweils verschieden. Das Kristallgitter der Mischkristallschicht im PVD Schichtsystem weist eine Korundstruktur auf, die in einem mittels Röntgendiffraktometrie gemessenen Spektrum der Mischkristallschicht durch mindestens drei der Korundstruktur zuzuordnenden Linien charakterisiert ist. Ferner ist offenbart ein Vakuumbeschichtungsverfahren zur Herstellung einer Mischkristallschicht eines Mehrfachoxids sowie entsprechend beschichtete Werkzeuge und Bauteile.
摘要翻译：用于涂覆工件甲PVD涂层系统，其包括具有以下组成的多氧化物中的至少一种混晶层：（ME1 _{1-x ME2 _{X ）_{2 0 _{3 。这里ME1和ME2分别元素Al，铬，铁，锂，镁，锰，铌，钛，锑，或V的元素中的至少一个是ME1和ME2分别是不同的。在PVD层系统中的混合晶层的晶格具有刚玉结构，可分配由至少三行刚玉结构的与所述混晶层的X射线衍射光谱测定的光谱表征。此外，还公开了一种制备多氧化物的混合晶体层和相应的涂覆工具和组件的真空涂覆过程。}}}}

7. 发明申请

WO2006099758A3 VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER GEPULSTEN ARCQUELLE 审中-公开
公开(公告)号：WO2006099758A3
公开(公告)日：2006-09-28
申请号：PCT/CH2006/000123
申请日：2006-03-01
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , GSTOEHL, Oliver , WIDRIG, Beno , LENDI, Daniel
发明人： RAMM, Jürgen , GSTOEHL, Oliver , WIDRIG, Beno , LENDI, Daniel
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/32
摘要： Die Erfindung betrifft ein Arcverfahren zum Abscheiden isolierender Schichten sowie ein Arcverfahren zum Tieftemperaturbeschichten, wobei eine elektrische Funkenentladung die auf einer Oberfläche eines Targets (5) einer Arcquelle gezündet bzw. betrieben wird gleichzeitig mit einem Gleichstrom als auch mit einem Puls- bzw. Wechselstrom gespeist wird. Weiters betrifft die Erfindung eine Arcquelle bei der das Target (5) an eine Stromversorgungseinheit (13) angeschlossen ist, die entweder, zumindest eine erste gepulste Hochstromversorgung 18, 18' sowie eine weitere Stromversorgung 13', 18' ', oder eine in Schaltnetzteiltechnik ausgeführte Stromversorung 21, 21', 22 angeschlossen ist.

8. 发明申请

WO2006099754A1 HARTSTOFFSCHICHT 审中-公开
标题翻译： HARTSTOFFTECHNIK LAYER
公开(公告)号：WO2006099754A1
公开(公告)日：2006-09-28
申请号：PCT/CH2006/000042
申请日：2006-01-19
申请人： UNAXIS BALZERS AG , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , KALSS, Wolfgang
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , KALSS, Wolfgang
IPC分类号： C23C14/32 , H01J37/32 , C23C14/28
CPC分类号： C23C14/083 , C23C14/024 , C23C14/0641 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/325 , F01D5/288 , F05D2230/313
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Hartstoffschicht welche als Funktionsschicht (32) mit einem Arc - PVD - Verfahren auf ein Werkstück (30) abgeschieden ist, wobei diese Schicht im wesentlichen als elektrisch isolierendes Oxid ausgebildet ist, aus mindestens einem der Metalle (Me) der Übergangsmetalle der Nebengruppen IV, V, VI des Periodensystems und Al, Si, Fe, Co, Ni, Co, Y, und die Funktionsschicht (32) kein Edelgas und kein Halogen enthält.
摘要翻译：本发明涉及一种为具有弧形的功能层（32）的硬质材料层 - PVD - 处理一个工件（30）被沉积，该层基本上形成为电绝缘的氧化物，的金属（Me）的中的至少一个的，镍，钴，Y，和功能层（32）包含子组的过渡金属IV，周期系的V，VI和铝，硅，铁，钴，无惰性气体和不含卤素。

9. 发明申请

WO2012055485A1 MOLYBDÄNMONOXIDSCHICHTEN UND DEREN HERSTELLUNG MITTELS PVD 审中-公开
标题翻译： MOLYBDÄNMONOXIDSCHICHTEN及生产用PVD
公开(公告)号：WO2012055485A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/EP2011/004990
申请日：2011-10-06
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , GLÄNTZ, Kerstin , SEIBERT, Florian
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno , GLÄNTZ, Kerstin , SEIBERT, Florian
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/32 , C23C14/34 , C23C30/00 , C23C14/54
CPC分类号： C10M103/06 , C23C14/0084 , C23C14/024 , C23C14/027 , C23C14/0676 , C23C14/08 , C23C14/325 , C23C14/3414 , C23C14/548 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C28/322 , C23C28/3455 , C23C28/347 , C23C28/36 , C23C28/42
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Beschichtung, die mindestens eine molybdänhaltige Schicht mit Molybdänoxid umfasst, wobei das Molybdänoxid im Wesentlichen Molybdänmonoxid ist. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein PVD-Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemässen Beschichtung, wobei die das Molybdänmonoxid umfassende Schicht mittels Funkenverdampfen hergestellt wird. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein Bauteil, welches oben genannte Beschichtung aufweisst.
摘要翻译：本发明涉及一种涂层，该涂层包含至少一种具有钼氧化物，其中氧化钼基本上Molybdänmonoxid层含钼。本发明还涉及用于制备本发明的涂料，其中包含所述Molybdänmonoxid层是通过电弧蒸发产生的PVD方法。本发明还涉及一种aufweisst上述涂层的成分。

10. 发明申请

WO2009129879A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON METALLOXIDSCHICHTEN DURCH FUNKENVERDAMPFUNG 审中-公开
标题翻译： METHOD TO无线电扩展制备金属氧化物的
公开(公告)号：WO2009129879A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/EP2009/000851
申请日：2009-02-06
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
发明人： RAMM, Jürgen , WIDRIG, Beno
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/08 , C23C14/32 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C1/0416 , C23C14/0036 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/325 , Y10T428/12028 , B22F3/15
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung oxidischer Schichten mittels PVD (pysical vapor deposition), insbesondere mittels kathodischer Funkenverdampfung, wobei ein pulvermetallurgisches Target verdampft wird und das pulvermetallurgische Target aus zumindest zwei metallischen oder halbmetallischen Bestandteilen ausgebildet ist, wobei die Zusammensetzung der metallischen oder halbmetallischen Bestandteile bzw. des Targets so gewählt ist, dass beim Aufheizen im Übergang von Raumtemperatur in die Flüssigphase keine Phasengrenze rein fester Phasen bezogen auf das Phasendiagramm einer geschmolzenen Mischung der zumindest zwei metallischen oder halbmetallischen Bestandteile überschritten wird.
摘要翻译：本发明涉及一种通过阴极电弧蒸发，由此粉末冶金靶蒸发并粉末冶金靶的装置通过PVD（身体属性气相沉积），在特定的方法生成氧化层中的至少两个金属或从半金属成分，该金属或半金属成分的组合物的形成或目标的被选择为使得在加热过程中从室温过渡超过所述至少两个金属或半金属成分在液相中的熔融混合物的相图基于纯粹固相无相边界。

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