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    • 9. 发明授权
    • Evaluation method and exposure apparatus
    • 评价方法和曝光装置
    • US08319948B2
    • 2012-11-27
    • US12561536
    • 2009-09-17
    • Shu WatanabeMasato Hagiri
    • Shu WatanabeMasato Hagiri
    • G03B27/62G03B27/32
    • G03B27/32G03F7/70258G03F7/70591
    • An exposure apparatus includes an original stage mounted with an exposure original having a pattern used for exposure, and an evaluation original having a pattern used to evaluate an optical performance of a projection optical system, a first drive mechanism configured to drive the original stage in a first direction that is a scan direction, and a second drive mechanism configured to drive the evaluation original on the original stage in a second direction orthogonal to the first direction, a width of the evaluation original in the second direction is smaller than that of the exposure original in the second direction.
    • 曝光装置包括安装有具有用于曝光的图案的曝光原稿的原稿台和具有用于评估投影光学系统的光学性能的图案的评估原稿,被配置为将原稿台驱动在第一驱动机构中的第一驱动机构 作为扫描方向的第一方向和第二驱动机构,被配置为在与第一方向正交的第二方向上在原始台上驱动评价原稿,第二方向上的评价原稿的宽度小于曝光的宽度 原来在第二个方向。