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    • 10. 发明公开
    • SEMICONDUCTOR PACKAGE ASSEMBLY WITH A METAL-INSULATOR-METAL CAPACITOR STRUCTURE
    • 具有金属 - 绝缘体 - 金属电容器结构的半导体封装组件
    • EP3073525A2
    • 2016-09-28
    • EP16159135.9
    • 2016-03-08
    • MediaTek, Inc
    • Lin, Tzu-HungPENG, I-HsuanHSIAO, Ching-Wen
    • H01L23/522H01L23/538H01L25/16H01L25/10H01L25/065
    • The invention provides a semiconductor package assembly. The semiconductor package assembly includes a first semiconductor package including a first semiconductor die (302). A first redistribution layer (RDL) structure (308) is coupled to the first semiconductor die. The first redistribution layer (RDL) structure includes a first conductive trace (452b) disposed at a first layer-level. A second conductive trace (454b) is disposed at a second layer-level. A first inter-metal dielectric (IMD) layerc (318) and a second intermetal dielectric (IMD) layer (456b), which is beside the first inter-metal dielectric (IMD) layer, are disposed between the first conductive trace and the second conductive trace, resulting in a metal-insulator-metal (MIM) capacitor structure.
    • 本发明提供了一种半导体封装组件。 该半导体封装组件包括包含第一半导体管芯(302)的第一半导体封装。 第一重新分布层(RDL)结构(308)耦合到第一半导体管芯。 第一再分布层(RDL)结构包括布置在第一层级的第一导电迹线(452b)。 第二导电迹线(454b)设置在第二层级。 在第一金属间电介质(IMD)层旁边的第一金属间电介质(IMD)层c(318)和第二金属间电介质(IMD)层(456b)设置在第一导电迹线与第二导电迹线 导电迹线,导致金属 - 绝缘体 - 金属(MIM)电容器结构。