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1. 发明专利

JP2014240342A 充電装置有权
标题翻译：充电设备
公开(公告)号：JP2014240342A
公开(公告)日：2014-12-25
申请号：JP2013262473
申请日：2013-12-19
申请人：エルジー・シルトロン・インコーポレーテッド , Lg Siltron Inc
发明人： JANG SO YOUNG , HONG YOUNG HO
IPC分类号： C30B15/02
CPC分类号： C30B15/002 , C30B11/001 , C30B15/02 , C30B15/04 , Y10T117/1056
摘要：【課題】溶融液による汚染を防ぎ、かつ周辺に位置する構成物の破損を防止することができる充電装置を提供する。【解決手段】実施例に係る充電装置は、投入口及び排出口を有するボディーと;複数個に分割された蓋を含み、前記蓋のそれぞれは前記ボディーの一端に連結され、前記ボディーの一端を軸に回転する蓋部と;前記蓋のそれぞれの一面を支持し、前記蓋のそれぞれを前記ボディーの一端と連結された部分を軸に回転させる開閉調節部と;を含む。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够防止由熔融液体引起的污染的充电装置，并且防止位于周边的部件的断裂。解决方案：一个实施例中的充电装置包括：主体，具有输入端口和排出端口 ; 盖部分，其包括被分成多个盖的盖，每个盖连接到主体的一端并围绕主体的一端旋转; 以及用于支撑每个盖的一个表面并且围绕连接到主体的一端的部分旋转每个盖的打开/关闭调节部。

2. 发明专利

DE112013002642T5 Einkristall-Silizium-lngot und Wafer und Vorrichtung und Verfahren zum Wachsenlassen des Ingots 未知
公开(公告)号：DE112013002642T5
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：DE112013002642
申请日：2013-04-02
申请人： LG SILTRON INC
发明人： HONG YOUNG HO , HWANG JUNG HA , CHA II SEON
IPC分类号： C30B15/00 , C30B15/20 , C30B29/06
摘要： Der Einkristall-Silizium-Ingot und Wafer einer Ausführungsform hat einen Übergangsbereich darin ausgebildet, der unter Kristalldefekten, die in einer Zone einer defektfreien Zone, in der Lücken überwiegen, und/oder einer defektfreien Zone, in der Zwischengitterplätze überwiegen, vorhanden sind, vorherrschend Kristalldefekte mit einer Größe von 10 nm bis 30 nm hat.

3. 发明专利

DE112014002501T5 Einkristall-Siliziumblock und Wafer für Halbleiter 未知
公开(公告)号：DE112014002501T5
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：DE112014002501
申请日：2014-01-23
申请人： LG SILTRON INC
发明人： HONG YOUNG HO , PARK HYUN WOO
IPC分类号： C30B13/00 , C30B15/00 , C30B29/06
摘要： Ein Einkristall-Siliziumblock und ein Wafer für einen Halbleiter umfassen in einer Ausführungsform einen Übergangsbereich, der unter den Kristalldefekten, die in einer zwischengitterstellendominierten defektfreien Zone enthalten sind, überwiegend Kristalldefekte mit einer Größe von 10 nm bis 30 nm hat. Die Differenz zwischen der Anfangssauerstoffkonzentration, bevor wenigstens eine Wärmebehandlung des Blocks und des Wafers durchgeführt wird, und einer Endsauerstoffkonzentration, nachdem die Wärmebehandlung des Blocks und des Wafers wenigstens einmal ausgeführt wurde, ist 0,5 ppma oder weniger.

4. 发明专利

DE102013224402B4 Auffüllanlage und Wachstumsanlage 未知
公开(公告)号：DE102013224402B4
公开(公告)日：2018-05-09
申请号：DE102013224402
申请日：2013-11-28
申请人： LG SILTRON INC
发明人： JANG SO YOUNG , HONG YOUNG HO
IPC分类号： C30B15/02 , B01J4/00 , C30B35/00
摘要： Auffüllanlage (9) aufweisend:ein Hauptteil (10), das mit einem Einführungsstutzen (13-1, 13-2) und einem Austrittsstutzen (15) versehen ist;eine Abdeckeinheit (20) aufweisend eine Vielzahl von geteilten Abdeckungen (20-1, ... 20-4; 21-1, 21-2), wobei jede der Abdeckungen (20-1, ... 20-4; 21-1, 21-4) mit einem Ende (14) des Hauptteils (10) verbunden und so ausgebildet ist, dass sie sich um das eine Ende (14) des Hauptteils (10) dreht; undeine Öffnungs- (24) und Schließ-Einstellvorrichtung (30), um eine Fläche jeder der Abdeckungen (20-1, ... 20-4; 21-1, 21-2) abzustützen, und jede der Abdeckungen (20-1, ... 20-4; 21-1, 21-2) um einen Teil jeder der Abdeckungen (20-1, ... 20-4; 21-1, 21-2), die mit dem einen Ende (14) des Hauptteils (10) verbunden sind, zu drehen,dadurch gekennzeichnet, dass jede der Abdeckungen (20-1, ... 20-4; 21-1, 21-2) eine mit einer Oberseite (401) und einer Unterseite (402) versehene Abdeckplatte (310, 320, 330, 410, 420) aufweist; und die Öffnungs- (24) und Schließ-Einstellvorrichtung (30) folgendes aufweist:einen Stützkegel (32) zum Abstützen eines Bereichs der Unterseite (402) jeder der Abdeckplatten (310, 320, 330, 410, 420); undeinen Träger (34), der mit einem oberen Ende des Stützkegels (32) verbunden ist, wobei der Träger (34) den Stützkegel (32) abstützt, wobeiein Drehwinkel der Abdeckplatten (310, 320, 330, 410, 420) durch vertikale Bewegung des Stützkegels (32) verstellt wird.

5. 发明专利

DE102013224402A1 WIEDERAUFFÜLLANLAGE 未知
公开(公告)号：DE102013224402A1
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：DE102013224402
申请日：2013-11-28
申请人： LG SILTRON INC
发明人： JANG SO YOUNG , HONG YOUNG HO
IPC分类号： C30B15/02 , B01J4/00 , C30B35/00
摘要： Eine Auffüllanlage wird offenbart. Die Auffüllanlage umfasst ein Hauptteil, das mit einem Einführungsstutzen und einem Austrittsstutzen versehen ist, eine Abdeckeinheit mit einer Vielzahl von geteilten Abdeckungen, wobei jede der Abdeckungen mit einem Ende des Hauptteils verbunden ist, und so ausgebildet ist, dass sie sich um das eine Ende des Hauptteils dreht, und eine Öffnungs- und Schließ-Einstellvorrichtung, um eine Fläche jeder der Abdeckungen abzustützen, und jede der Abdeckungen um einen Teil jeder der Abdeckungen, die mit dem einen Ende des Hauptteils verbunden sind, zu drehen.

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