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1. 发明申请

WO2011159725A3 DISCRETE POLARIZATION SCATTEROMETRY 审中-公开
标题翻译：离散极化分析
公开(公告)号：WO2011159725A3
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：PCT/US2011040389
申请日：2011-06-14
申请人： KLA TENCOR CORP , HILL ANDREW V , MANASSEN AMNON , KANDEL DANIEL , LEVINSKI VLADIMIR , SELIGSON JOEL , SVIZHER ALEXANDER , WANG DAVID Y , ROTTER LAWRENCE D , DE VEER JOHANNES D
发明人： HILL ANDREW V , MANASSEN AMNON , KANDEL DANIEL , LEVINSKI VLADIMIR , SELIGSON JOEL , SVIZHER ALEXANDER , WANG DAVID Y , ROTTER LAWRENCE D , DE VEER JOHANNES D
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G02B27/141 , G01N21/474 , G01N21/4788 , G01N2021/4792 , G02B27/145 , G03F7/70633
摘要： Systems and methods for discrete polarization scatterometry are provided. One embodiment relates to an optical subsystem of a scatterometer. The optical subsystem includes one or more light sources configured to produce light having different polarizations. The optical subsystem also includes a polarizing beam splitter configured to separate the light into two different light beams having orthogonal and mutually exclusive polarizations. The optical subsystem further includes one or more second optical elements configured to control which one of the two different light beams illuminates the wafer during measurements. The optical subsystem also includes a detection subsystem configured to separately detect two different scattered light beams resulting from illumination of the wafer. The two different scattered light beams have orthogonal and mutually exclusive polarizations. All optical surfaces of the optical subsystem used for the measurements are stationary during the measurements.
摘要翻译：提供了离散极化散射法的系统和方法。一个实施例涉及一种散射仪的光学子系统。光学子系统包括被配置为产生具有不同偏振的光的一个或多个光源。光学子系统还包括偏振分束器，其被配置为将光分离成具有正交和相互排斥的极化的两个不同光束。光学子系统还包括一个或多个第二光学元件，其被配置为在测量期间控制两个不同光束中的哪一个照射晶片。光学子系统还包括被配置为分别检测由晶片的照明产生的两个不同散射光束的检测子系统。两个不同的散射光束具有正交和相互排斥的偏振。用于测量的光学子系统的所有光学表面在测量期间是静止的。

2. 发明申请

WO2011008478A2 SYSTEM AND METHOD FOR PERFORMING PHOTOTHERMAL MEASUREMENTS AND RELAXATION COMPENSATION 审中-公开
标题翻译：用于执行光热测量和放松补偿的系统和方法
公开(公告)号：WO2011008478A2
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：PCT/US2010040063
申请日：2010-06-25
申请人： KLA TENCOR CORP , ROTTER LAWRENCE D , WANG DAVID Y , SHAUGHNESSY DERRICK , SENKO MARK
发明人： ROTTER LAWRENCE D , WANG DAVID Y , SHAUGHNESSY DERRICK , SENKO MARK
IPC分类号： G01N25/72 , G01N21/63 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/1717 , G01N2021/1731 , G01N2021/1761
摘要： A device and methods for performing a photothermal measurement and relaxation compensation of a sample are disclosed. The device may include a probe beam source, a pump beam source, a sample, and a detector array. A method may include adjusting an intensity modulated pump beam power, adjusting a probe beam power to increase a response measurement location temperature and increase a modulated optical reflectance signal, directing the intensity modulated pump beam and the probe beam along a measurement path to a response measurement location on a sample for periodically exciting a region on the sample, detecting a reflected portion of the probe beam, and calculating an implantation dose.
摘要翻译：公开了一种用于对样品进行光热测量和松弛补偿的装置和方法。该装置可以包括探测光束源，泵浦光束源，样本和检测器阵列。方法可以包括调整强度调制的泵浦光束功率，调整探测光束功率以增加响应测量位置温度并增加经调制的光反射信号，将强度调制的泵浦光束和探测光束沿测量路径引导到响应测量样品上的位置，用于周期性地激发样品上的区域，检测探测光束的反射部分，以及计算植入剂量。

3. 发明专利

DE112017002925T5 Simultane Mehrwinkel-Spektroskopie 未知
公开(公告)号：DE112017002925T5
公开(公告)日：2019-03-07
申请号：DE112017002925
申请日：2017-06-07
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： KRISHNAN SHANKAR , BÜTTNER ALEXANDER , PURRUCKER KERSTIN , WANG DAVID Y
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/67
摘要： Verfahren und System zur Durchführung gleichzeitiger spektroskopischer Messungen von Halbleiterstrukturen über einen breiten Einfallswinkelbereich (AOI), einen Azimutwinkel oder beides sind dargestellt. Spektren mit zwei oder mehr Teilbereichen von Einfallswinkeln, Azimutwinkeln, oder beiden, können gleichzeitig über verschiedene Sensorflächen bei hohem Durchsatz gemessen werden. Das gesammelte Licht wird linear über unterschiedliche, lichtempfindliche Bereiche von einem oder mehreren Detektoren gemäß der Wellenlänge für jeden Subbereich, von AOIs, Azimutwinkeln oder beiden verteilt. Auf diese Weise ergibt sich ein breites Spektrum von AOIs, Azimutwinkeln, oder beides mit einem hohen Signal-zu-Rausch-Verhältnis, die gleichzeitig erfasst werden. Dieser Ansatz ermöglicht Messungen mit hohem Durchsatz von Strukturen mit hohem Aspektverhältnis bei einem hohem Durchsatz, Präzision und Genauigkeit.

4. 发明专利

DE112016000853T5 Optische Metrologie mit reduzierter Empfindlichkeit gegenüber Fokus-Fehlern 未知
公开(公告)号：DE112016000853T5
公开(公告)日：2017-11-09
申请号：DE112016000853
申请日：2016-02-10
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： KRISHNAN SHANKAR , ZHUANG GUORONG VERA , LIU XUEFENG , WANG DAVID Y
IPC分类号： H01L21/66
摘要： Verfahren und Systeme zur Durchführung breitbandiger spektroskopischer Metrologie mit reduzierter Empfindlichkeit gegenüber Fokus-Fehlern werden hierin vorgestellt. Signifikante Reduzierungen der Empfindlichkeit gegen einen Fehler in der Fokusposition werden erzielt, indem der Messbereich auf den Detektor derart abgebildet wird, dass die Richtung, die auf der Waferoberfläche in der Einfallsebene ausgerichtet ist, senkrecht zu der Richtung der Wellenlängendispersion auf der Detektoroberfläche orientiert ist. Diese Reduktion in der Fokus-Fehler-Empfindlichkeit ermöglicht verringerte Anforderungen an die Fokus-Genauigkeit und -Wiederholbarkeit, kürzere Fokussierzeiten und reduzierte Empfindlichkeit gegenüber Wellenlängenfehlern, ohne die Messgenauigkeit zu beeinträchtigen. In einem weiteren Aspekt wird die Abmessung des auf die Waferebene projizierten Beleuchtungsfeldes in der Richtung senkrecht zu der Einfallsebene angepasst, um die sich ergebende Messgenauigkeit und Geschwindigkeit basierend auf der Art des vermessenen Zieles zu optimieren.

5. 发明专利

DE112017000384T5 Systeme und Verfahren für erweiterte infrarotspektroskopische Ellipsometrie 未知
公开(公告)号：DE112017000384T5
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：DE112017000384
申请日：2017-01-06
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： KRISHNAN SHANKAR , WANG DAVID Y
IPC分类号： H01L21/66 , G03F7/20
摘要： Verfahren und Systeme zur Durchführung gleichzeitiger spektroskopischer Messungen von Halbleiterstrukturen bei ultravioletten, sichtbaren und infraroten Wellenlängen werden hierin dargelegt. In einem anderen Aspekt werden Wellenlängenfehler reduziert, indem die Richtung der Wellenlängendispersion auf der Detektoroberfläche senkrecht zu der Projektion der Einfallsebene auf die Detektoroberfläche orientiert ist. In einem anderen Aspekt wird ein breiter Bereich an Infrarotwellenlängen von einem Detektor detektiert, der mehrere lichtempfindliche Bereiche beinhaltet, die unterschiedliche Empfindlichkeitscharakteristiken aufweisen. Erfasstes Licht wird linear über die Oberfläche auf dem Detektor gestreut, abhängig von der Wellenlänge. Jeder der unterschiedlichen lichtempfindlichen Bereiche ist auf dem Detektor angeordnet, um einen anderen Bereich einfallender Wellenlängen zu detektieren. Auf diese Weise wird ein breiter Bereich von Infrarotwellenlängen mit einem hohen Signal-Rausch-Verhältnis durch einen einzigen Detektor detektiert. Diese Merkmale ermöglichen Messungen von Strukturen mit hohem Seitenverhältnis mit hohem Durchsatz, hoher Präzision und hoher Genauigkeit.

6. 发明专利

SG11201706232UA OPTICAL METROLOGY WITH REDUCED FOCUS ERROR SENSITIVITY 未知
公开(公告)号：SG11201706232UA
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：SG11201706232U
申请日：2016-02-10
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： KRISHNAN SHANKAR , ZHUANG GUORONG VERA , WANG DAVID Y , LIU XUEFENG
IPC分类号： H01L21/66
摘要： Methods and systems for performing broadband spectroscopic metrology with reduced sensitivity to focus errors are presented herein. Significant reductions in sensitivity to focus position error are achieved by imaging the measurement spot onto the detector such that the direction aligned with the plane of incidence on the wafer surface is oriented perpendicular to the direction of wavelength dispersion on the detector surface. This reduction in focus error sensitivity enables reduced focus accuracy and repeatability requirements, faster focus times, and reduced sensitivity to wavelength errors without compromising measurement accuracy. In a further aspect, the dimension of illumination field projected on the wafer plane in the direction perpendicular to the plane of incidence is adjusted to optimize the resulting measurement accuracy and speed based on the nature of target under measurement.

7. 发明公开

EP2766693A4 OPTICAL METROLOGY TOOL EQUIPPED WITH MODULATED ILLUMINATION SOURCES 有权
标题翻译：与调制光EQUIPPED光学测量工具
公开(公告)号：EP2766693A4
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：EP12839434
申请日：2012-10-11
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： SHCHEGROV ANDREI V , ROTTER LAWRENCE D , WANG DAVID Y , VELDMAN ANDREI , PETERLINZ KEVIN , BRADY GREGORY , SHAUGHNESSY DERRICK
IPC分类号： G01B11/06 , G03F7/20
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/0616 , G01N21/4738 , G01N21/55 , G01N2021/213 , G03F7/70608 , G03F7/70625 , G03F7/70633

8. 发明公开

EP3047520A4 MULTIPLE ANGLES OF INCIDENCE SEMICONDUCTOR METROLOGY SYSTEMS AND METHODS 有权
标题翻译： HALBLEITERMETROLOGIESYSTEME MIT MEHREREN EINFALLSWINKELN UND VERFAHREN
公开(公告)号：EP3047520A4
公开(公告)日：2017-07-12
申请号：EP14843577
申请日：2014-09-15
申请人： KLA-TENCOR CORP
发明人： WANG DAVID Y , FLOCK KLAUS , ROTTER LAWRENCE D , KRISHNAN SHANKAR , DE VEER JOHANNES D , FILIP CATALIN , BRADY GREGORY , ARAIN MUZAMMIL , SHCHEGROV ANDREI
IPC分类号： H01L21/66 , G01B11/00 , G01B11/06 , G01N21/21 , G01N21/88 , G01N21/95
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/0641 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , H01L22/12
摘要： An apparatus includes (i) a bright light source for providing an illumination beam at multiple wavelengths selectable with a range from a deep ultraviolet wavelength to an infrared wavelength, (ii) illumination optics for directing the illumination beam towards a sample at selectable sets of angles of incidence (AOI's) or azimuth angles (AZ's) and polarization states to provide spectroscopic ellipsometry, wherein the illumination optics include an apodizer for controlling a spot size of the illumination beam on the sample at each of the selectable AOI/AZ sets, (iii) collection optics for directing an output beam from the sample in response to the illumination beam at each of the selectable AOI/AZ sets and polarization states towards a detector that generates an output signal or image based on the output beam, and (v) a controller for characterizing a feature of the sample based on the output signal or image.
摘要翻译：一种设备包括：（i）用于提供可选范围从深紫外波长到红外波长的多个波长的照明光束的明亮光源，（ii）照明光学器件，用于将照明光束以可选择的角度集合朝向样品（AOI）或方位角（AZ）以及偏振态来提供光谱椭圆偏振法，其中所述照明光学器件包括用于在所述可选AOI / AZ集合中的每一个处控制所述样本上的所述照明光束的光斑尺寸的变迹器，（iii ）收集光学器件，用于响应于在每个可选择的AOI / AZ集合处的照明光束和来自基于输出光束生成输出信号或图像的检测器的偏振状态的来自样本的输出光束，以及（v）控制器，用于基于输出信号或图像来表征样本的特征。

9. 发明公开

EP2583300A4 DISCRETE POLARIZATION SCATTEROMETRY 有权
标题翻译：基于离散极化散射
公开(公告)号：EP2583300A4
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：EP11796320
申请日：2011-06-14
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： HILL ANDREW V , MANASSEN AMNON , KANDEL DANIEL , LEVINSKI VLADIMIR , SELIGSON JOEL , SVIZHER ALEXANDER , WANG DAVID Y , ROTTER LAWRENCE D , DE VEER JOHANNES D
IPC分类号： G01N21/47 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/141 , G01N21/474 , G01N21/4788 , G01N2021/4792 , G02B27/145 , G03F7/70633
摘要： Systems and methods for discrete polarization scatterometry are provided.

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