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1. 发明授权

US07562336B2 Contrast based resolution enhancement for photolithographic processing 有权
标题翻译：用于光刻处理的对比度分辨率增强
公开(公告)号：US07562336B2
公开(公告)日：2009-07-14
申请号：US11669100
申请日：2007-01-30
申请人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
发明人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/36 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： A contrast-based resolution enhancing technology (RET) determines a distribution of contrast values for edge fragments in a design layout or portion thereof. Resolution enhancement is applied to the edge fragments in a way that increases the number of edge fragments having a contrast value that exceeds a predetermined threshold.
摘要翻译：基于对比度的分辨率增强技术（RET）确定设计布局或其部分中边缘片段的对比度值的分布。以增加具有超过预定阈值的对比度值的边缘片段的数量的方式对边缘片段应用分辨率增强。

2. 发明授权

US08108806B2 Contrast-based resolution enhancement for photolithographic processing 有权
标题翻译：用于光刻处理的基于对比度的分辨率增强
公开(公告)号：US08108806B2
公开(公告)日：2012-01-31
申请号：US12501349
申请日：2009-07-10
申请人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
发明人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/36 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： A contrast-based resolution enhancing technology (RET) determines a distribution of contrast values for edge fragments in a design layout or portion thereof. Resolution enhancement is applied to the edge fragments in a way that increases the number of edge fragments having a contrast value that exceeds a predetermined threshold.
摘要翻译：基于对比度的分辨率增强技术（RET）确定设计布局或其部分中边缘片段的对比度值的分布。以增加具有超过预定阈值的对比度值的边缘片段的数量的方式对边缘片段应用分辨率增强。

3. 发明申请

US20110047519A1 Layout Content Analysis for Source Mask Optimization Acceleration 审中-公开
标题翻译：源掩码优化加速的布局内容分析
公开(公告)号：US20110047519A1
公开(公告)日：2011-02-24
申请号：US12778083
申请日：2010-05-11
申请人： Juan Andres Torres Robles , Oberdan Otto , Yuri Granik
发明人： Juan Andres Torres Robles , Oberdan Otto , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G01R31/26 , G03F1/0069 , G03F1/0092 , G03F1/36 , G03F1/38 , G03F1/70 , G03F7/70125 , G03F7/70441 , G06F17/5068 , G06F19/00 , G06F2217/12 , G06F2217/14 , G06K9/00 , G21K5/00 , H01L21/00 , H01L22/00
摘要： The invention provides for the acceleration of a source mask optimization process. In some implementations, a layout design is analyzed by a pattern matching process, wherein sections of the layout design having similar patterns are identified and consolidated into pattern groups. Subsequently, sections of the layout design corresponding to the pattern groups may be analyzed to determine their compatibility with the optical lithographic process, and the compatibility of these sections may be classified based upon a “cost function.” With further implementations, the analyzed sections may be classified as printable or difficult to print, depending upon the particular lithographic system. The compatibility of various sections of a layout design may then be utilized to optimize the layout design during a lithographic friendly design process. For example, during the design phase, sections categorized as difficult to print may be flagged for further optimization, processing, or redesign. In further implementations, the difficult-to-print sections may be subjected to a source mask optimization process. Subsequently, the entire layout design may receive a conventional resolution enhancement treatment using the optimized source.
摘要翻译：本发明提供了源掩码优化过程的加速。在一些实现中，通过模式匹配过程来分析布局设计，其中具有相似图案的布局设计的部分被识别并且被合并到模式组中。随后，可以分析对应于图案组的布局设计的部分以确定它们与光学平版印刷工艺的兼容性，并且可以基于“成本函数”对这些部分的兼容性进行分类。通过进一步的实施，分析的部分可以根据特定的光刻系统，可分类为可印刷或难以印刷。然后可以利用布局设计的各个部分的兼容性来在光刻友好的设计过程期间优化布局设计。例如，在设计阶段，分类为难以打印的部分可能被标记以进一步优化，处理或重新设计。在进一步的实现中，难以打印的部分可以经受源掩码优化处理。随后，整个布局设计可以使用优化的源接收常规的分辨率增强处理。

4. 发明申请

US20090271759A1 CONTRAST-BASED RESOLUTION ENHANCEMENT FOR PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESSING 有权
标题翻译：基于对比度的分辨率增强图像处理
公开(公告)号：US20090271759A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：US12501349
申请日：2009-07-10
申请人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
发明人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/36 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： A contrast-based resolution enhancing technology (RET) determines a distribution of contrast values for edge fragments in a design layout or portion thereof. Resolution enhancement is applied to the edge fragments in a way that increases the number of edge fragments having a contrast value that exceeds a predetermined threshold.
摘要翻译：基于对比度的分辨率增强技术（RET）确定设计布局或其部分中边缘片段的对比度值的分布。以增加具有超过预定阈值的对比度值的边缘片段的数量的方式对边缘片段应用分辨率增强。

5. 发明授权

US07293249B2 Contrast based resolution enhancement for photolithographic processing 有权
标题翻译：用于光刻处理的对比度分辨率增强
公开(公告)号：US07293249B2
公开(公告)日：2007-11-06
申请号：US10888444
申请日：2004-07-09
申请人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
发明人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/36 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： A contrast-based resolution enhancing technology (RET) determines a distribution of contrast values for edge fragments in a design layout or portion thereof. Resolution enhancement is applied to the edge fragments in a way that increases the number of edge fragments having a contrast value that exceeds a predetermined threshold.
摘要翻译：基于对比度的分辨率增强技术（RET）确定设计布局或其部分中边缘片段的对比度值的分布。以增加具有超过预定阈值的对比度值的边缘片段的数量的方式对边缘片段应用分辨率增强。

6. 发明授权

US07013439B2 Contrast based resolution enhancing technology 有权
标题翻译：基于对比度的分辨率增强技术
公开(公告)号：US07013439B2
公开(公告)日：2006-03-14
申请号：US10356382
申请日：2003-01-31
申请人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
发明人： Juan Andres Torres Robles , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F1/36
摘要： A contrast-base resolution enhancing technology (RET) receives an indication of an edge fragment in a photolithographic design. The edge fragment has a tag classification that defines a contrast of the edge fragment. The contrast-based RET applies a resolution enhancement to the edge fragment based on the tag classification. The resolution enhancement introduces an additional feature in the photolithographic design. The additional feature changes the contrast of the edge fragment.
摘要翻译：对比度分辨率增强技术（RET）在光刻设计中接收边缘片段的指示。边缘片段具有定义边缘片段对比度的标签分类。基于对比度的RET基于标签分类对边缘片段应用分辨率增强。分辨率增强在光刻设计中引入了一个附加特征。附加功能会更改边缘片段的对比度。

7. 发明申请

US20110138343A1 Pattern Transfer Modeling for Optical Lithographic Processes 审中-公开
标题翻译：光学平版印刷工艺的图案转移建模
公开(公告)号：US20110138343A1
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：US12710353
申请日：2010-02-22
申请人： Yuri Granik
发明人： Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F7/70625 , G03F7/705
摘要： Various implementations of the invention provide for the optimization of etch induced pattern transfer across a significant portion of a design. In various implementations, an entire design, that is a “full-chip” may be optimized. With some implementations, the invention may be employed to detect etch hotspots. Further implementations may be employed in either or both a mask data preparation process (“MDP”) or to determine the etch effects of including various patterns in a design.
摘要翻译：本发明的各种实施方案提供跨越设计的重要部分的蚀刻诱导图案转移的优化。在各种实现中，可以优化整个设计，即“全芯片”。通过一些实现方式，可以采用本发明来检测蚀刻热点。掩模数据准备过程（“MDP”）中的一个或两者可以采用进一步的实施方式，或者确定在设计中包括各种图案的蚀刻效果。

8. 发明授权

US07623220B2 Source optimization for image fidelity and throughput 有权
标题翻译：源图像保真度和吞吐量优化
公开(公告)号：US07623220B2
公开(公告)日：2009-11-24
申请号：US11824558
申请日：2007-06-28
申请人： Yuri Granik
发明人： Yuri Granik
IPC分类号： G03B27/54 , G03B27/58 , G03B27/72 , G03B27/32
CPC分类号： G03F7/70491 , G03F7/70108 , G03F7/70441 , G03F7/705
摘要： A system and method for optimizing an illumination source to print a desired pattern of features dividing a light source into pixels and determining an optimum intensity for each pixel such that when the pixels are simultaneously illuminated, the error in a printed pattern of features is minimized. In one embodiment, pixel solutions are constrained from solutions that are bright, continuous, and smooth. In another embodiment, the light source optimization and resolution enhancement technique(s) are iteratively performed to minimize errors in a printed pattern of features.
摘要翻译：一种用于优化照明源以打印将光源分成像素并且为每个像素确定最佳强度的特征的特征图案的系统和方法，使得当像素同时被照亮时，特征的印刷图案中的误差被最小化。在一个实施例中，像素解决方案受限于明亮，连续和平滑的解决方案。在另一个实施例中，迭代地执行光源优化和分辨率增强技术以最小化特征的打印图案中的错误。

9. 发明申请

US20070124708A1 CONTRAST BASED RESOLUTION ENHANCEMENT FOR PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESSING 有权
标题翻译：基于对比度的分辨率增强图像处理
公开(公告)号：US20070124708A1
公开(公告)日：2007-05-31
申请号：US11669100
申请日：2007-01-30
申请人： Juan Torres Robles , Yuri Granik
发明人： Juan Torres Robles , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/36 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： A contrast-based resolution enhancing technology (RET) determines a distribution of contrast values for edge fragments in a design layout or portion thereof. Resolution enhancement is applied to the edge fragments in a way that increases the number of edge fragments having a contrast value that exceeds a predetermined threshold.
摘要翻译：基于对比度的分辨率增强技术（RET）确定设计布局或其部分中边缘片段的对比度值的分布。以增加具有超过预定阈值的对比度值的边缘片段的数量的方式对边缘片段应用分辨率增强。

10. 发明申请

US20060200790A1 Model-based SRAF insertion 有权
标题翻译：基于模型的SRAF插入
公开(公告)号：US20060200790A1
公开(公告)日：2006-09-07
申请号：US11241732
申请日：2005-09-30
申请人： Shumay Shang , Lisa Swallow , Yuri Granik
发明人： Shumay Shang , Lisa Swallow , Yuri Granik
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/36
摘要： A system for producing mask layout data retrieves target layout data defining a pattern of features, or portion thereof and an optimized mask layout pattern that includes a number of printing and non-printing features. Mask layout data for one or more subresolution assist features (SRAFs) is then defined to approximate one or more non-printing features of the optimized mask layout pattern.
摘要翻译：用于产生掩模布局数据的系统检索定义特征图案或其一部分的图案的目标布局数据以及包括多个打印和非打印特征的优化的掩模布局图案。然后定义一个或多个子分解辅助特征（SRAF）的掩模布局数据以近似优化的掩模布局图案的一个或多个非打印特征。

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