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1. 发明专利

JP2010199037A Charged particle beam device 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2010199037A
公开(公告)日：2010-09-09
申请号：JP2009045869
申请日：2009-02-27
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： HIRANO KATSUNORI , TOBA TADANOBU , OSAKA HIDEKI , OHASHI MASAHIRO , WADA MASAJI
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/147 , H01J37/28
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam device without an influence (such as charging) by charged particle beam irradiation, or with the influence reduced.
SOLUTION: The charged particle beam device irradiating a charged particle beam 101 onto an object 106, converting a detected signal 104 from the object to image data to display on a screen, includes a charged particle beam control section 3 scanning the charged particle beam in an arbitrary direction and irradiating it to a discrete position on the object, and an image processing system 13 containing an image data rearranging section 5 rearranging the image data.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：通过带电粒子束照射提供无影响的带电粒子束装置（例如充电）或减小的影响。解决方案：将带电粒子束101照射到物体106上的带电粒子束装置将从对象检测的信号104转换为图像数据以在屏幕上显示，包括带电粒子束控制部分3扫描带电粒子沿任意方向射束并将其照射到物体上的离散位置，以及图像处理系统13，其包含重新排列图像数据的图像数据重排部分5。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2010141189A Inspection device for semiconductor wafer 有权
标题翻译：半导体波形检测装置
公开(公告)号：JP2010141189A
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：JP2008317105
申请日：2008-12-12
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： TOBA TADANOBU , HIRANO KATSUNORI , SATO NORIO , OHASHI MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/66 , G01B15/00
CPC分类号： G01B15/00 , G01R31/307 , H01L22/12
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve problems in an inspection device such as (1) complication of acceleration/deceleration control of a stage, (2) degradation of throughput and (3) vibration increase (resolution degradation) of a stage support base in stage reverse operation when the size of a semiconductor wafer is increased.
SOLUTION: A wafer 6 is rotated, an electron beam is emitted to the rotating wafer 6 from a scanning electron microscope 1, and secondary electrons 9 emitted from the wafer 6 are detected. The detected secondary electrons 9 are subjected to AD conversion 16 in an image processing part, rearranged in an image data rearrangement part 17, and subjected to image calculation 18 to be displayed. Thereby, image information of all dies of the wafer 6 can be obtained without widely moving a stage 4 in the X-direction and the Y-direction.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了解决检查装置中的问题，例如（1）级的加速/减速控制的并发性，（2）生产率的劣化和（3）级支架的振动增加（分辨率劣化）当半导体晶片的尺寸增加时，基于阶段反向操作。解决方案：旋转晶片6，电子束从扫描电子显微镜1发射到旋转晶片6，并且检测从晶片6发射的二次电子9。检测到的二次电子9在图像处理部中进行AD转换16，重新排列在图像数据重排部17中，并进行图像计算18的显示。由此，可以在X方向和Y方向上不使载物台4大幅度移动的情况下，获得晶片6的所有芯片的图像信息。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2015015161A ＳＥＭ式計測装置审中-公开
标题翻译： SEM型测量装置
公开(公告)号：JP2015015161A
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：JP2013141301
申请日：2013-07-05
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , Hitachi High-Technologies Corp
发明人： HIRANO KATSUNORI , TOBA TADANOBU , WADA MASAJI , KAWAMURA KATSUAKI , OHASHI MASAHIRO , TAKAHASHI HIROYUKI
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/22
摘要：【課題】本発明は高精度、高スループットな画像処理装置及びSEM式計測装置を実現することを目的とする。【解決手段】走査型電子顕微鏡装置を用い、電子ビームを照射して基板上の検査対象領域を走査し、出射される二次電子を検出して該検査対象領域の画像情報を取得するSEM式計測装置であって、電子ビームを任意の方向に走査し、被対象物上の離散的な位置に照射する照射部と、前記照射部を制御するスキャン制御部と、前記電子ビームが照射された前記被対象物上の離散的な位置から順次二次電子を検出する検出部と、前記検出された二次電子の信号を画像データに変換する変換部と、前記画像データを取込む画像取込み部と、前記離散的な位置から変換された画像データを並び替える並び替え部と、前記並び替えられた画像データを表示する表示部とを備え、前記スキャン制御部と前記変換部と前記並び替え部を前記走査型電子顕微鏡装置の筺体内に搭載したことを特徴とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：实现具有高精度和高产量的图像处理装置和SEM型测量装置。解决方案：使用扫描电子显微镜装置的SEM型测量装置，通过以下方式获取基板上的检查对象区域的图像信息通过用电子束进行照射来扫描检查对象区域，检测发射的二次电子。 SEM型测量装置包括：照射单元，用于在任意方向上用用于扫描的电子束照射目标上的离散位置; 扫描控制单元，用于控制照射单元; 检测单元，用于从照射电子束的目标上的离散位置顺序地检测二次电子; 转换单元，用于将来自检测到的二次电子的信号转换为图像数据; 用于捕获图像数据的捕获单元; 重新排列单元，用于从离散位置重新排列转换的图像数据; 以及用于显示重新排列的图像数据的显示单元。扫描控制单元，转换单元和重新排列单元安装在扫描电子显微镜装置的外壳中。

4. 发明专利

JP2013224961A Inspection device for semiconductor wafer 审中-公开
标题翻译：半导体波形检测装置
公开(公告)号：JP2013224961A
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：JP2013146096
申请日：2013-07-12
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： TOBA TADANOBU , HIRANO KATSUNORI , SATO NORIO , OHASHI MASAHIRO
IPC分类号： G01B15/04 , G01B15/08 , H01L21/66
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problems, when size of a semiconductor wafer is increased, in an inspection device such as (1) complication of acceleration/deceleration control of a stage, (2) degradation of throughput and (3) vibration increase (resolution degradation) of a stage support base in stage reverse operation.SOLUTION: A wafer 6 is rotated, the rotating wafer 6 is irradiated with an electron beam from a scanning electron microscope 1, and secondary electrons 9 emitted from the wafer 6 are detected. The detected secondary electrons 9 are subjected to AD conversion 16 in an image processing unit, rearranged in an image data rearrangement unit 17, and subjected to image calculation 18 to be displayed. Thereby, image information of all dies of the wafer 6 can be obtained without widely moving a stage 4 in an X-direction and a Y-direction.
摘要翻译：要解决的问题：为了解决上述问题，当半导体晶片的尺寸增加时，在（1）级的加减速控制的复杂化的检查装置中，（2）生产量的劣化和（3）振动增加（分辨率降低）。解决方案：晶片6旋转，旋转晶片6用扫描电子显微镜1的电子束照射，从晶片6发射的二次电子9被检测到。检测到的二次电子9在图像处理单元中进行AD转换16，重新排列在图像数据重排单元17中，并进行图像计算18显示。由此，可以在X方向和Y方向上不使台架4广泛移动的情况下，获得晶片6的所有模具的图像信息。

5. 发明专利

JP2013045029A Exposure apparatus and exposure method 审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：JP2013045029A
公开(公告)日：2013-03-04
申请号：JP2011184270
申请日：2011-08-26
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： HIRANO KATSUNORI , TOBA TADANOBU , MOCHIZUKI MASAAKI , MAEDA YASUYUKI
IPC分类号： G03F7/20 , G02F1/13 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure apparatus capable of converting vector data into raster data at high speed in real time.SOLUTION: The exposure apparatus includes: a vector data memory 1 for storing vector data deleted with duplicated data; sequence control means 4 for reading desired vector data information from vector data stored in the vector data memory 1 on the basis of a sequence control instruction; coordinate arithmetic means 5 for converting the vector data information read by the sequence control means 4 into raster data; and a driver 11 for performing exposure on the basis of the raster data converted by the coordinate arithmetic means 5.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够实时地将矢量数据高速转换为光栅数据的曝光装置。解决方案：曝光装置包括：矢量数据存储器1，用于存储用重复数据删除的矢量数据; 序列控制装置4，用于根据序列控制指令从存储在矢量数据存储器1中的矢量数据中读出期望的矢量数据信息; 坐标运算装置5，用于将由顺序控制装置4读取的矢量数据信息转换成光栅数据; 以及用于基于由坐标运算装置5转换的光栅数据进行曝光的驱动器11.（C）2013，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2012054174A Scan electron microscope device and image obtaining method using the same 审中-公开
标题翻译：扫描电子显微镜装置和使用其的图像获取方法
公开(公告)号：JP2012054174A
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：JP2010197334
申请日：2010-09-03
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： HIRANO KATSUNORI , TOBA TADANOBU , OHASHI MASAHIRO , WADA MASAJI
IPC分类号： H01J37/22 , G01B15/00 , G01B15/04 , H01J37/147
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To enable high throughput in pattern dimension measurement or shape observation using an electron beam apparatus.SOLUTION: In a scan electron microscope apparatus and an image obtaining method thereof for processing an SEM image obtained by imaging a sample with a scan electron microscope (SEM) in which a converged electron beam of a scan electron microscope (SEM) is applied to and scanned along the surface of a sample to detect secondary electrons or reflection electrons occurring from the sample and obtain an SEM image of the sample, the obtained SEM image is processed to set an image achieving condition, an SEM image of the sample is obtained by the scan electron microscope on the basis of the set image obtaining condition, and the SEM image obtained on the basis of the set image obtaining condition is processed, the scan condition of the electron beam when the SEM image for setting the image achieving condition is obtained and the scan condition of the electron beam when the SEM image for setting the image achieving condition is obtained are changed to obtain an SEM image.
摘要翻译：要解决的问题：使用电子束装置实现图案尺寸测量或形状观察中的高通量。解决方案：在扫描电子显微镜装置及其图像获取方法中，用于通过扫描电子显微镜（SEM）对扫描电子显微镜（SEM）进行成像的SEM图像进行处理，其中扫描电子显微镜（SEM）的会聚电子束为应用于样品表面并扫描，以检测从样品发生的二次电子或反射电子，并获得样品的SEM图像，处理所得SEM图像以设置图像获得条件，样品的SEM图像为通过扫描电子显微镜基于设定图像获得条件获得，并且基于设定图像获得条件获得的SEM图像被处理，当用于设置图像获得条件的SEM图像时，电子束的扫描条件并且当获得用于设定图像获得条件的SEM图像时，电子束的扫描条件被改变以获得SEM图像。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2014096077A Inspection device 审中-公开
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2014096077A
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：JP2012248000
申请日：2012-11-12
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： SAKURAI YUICHI , TOBA TADANOBU , IIZUMI KEN , HIRANO KATSUNORI
IPC分类号： G06T1/00 , G01N21/64 , G01N21/956
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device capable of achieving high-speed and large-capacity data processing at a low cost and with low power consumption.SOLUTION: The inspection device comprises: an image detection part detecting the image of an inspection object; an information processing part processing image information detected by the image detection part; and an information distribution control part distributing and controlling the image information processed by the information processing part. The information distribution control part includes an information extraction part extracting control information based on the image information detected by the image detection part and transmitting the extracted control information, a transmission control part outputting the image information extracted by the information extraction part to the information processing part, and a distribution control unit outputting a transmission control signal to the transmission control part, according to the extracted control information outputted from the information extraction part.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够以低成本和低功耗实现高速和大容量数据处理的检查装置。解决方案：检查装置包括：检测检查对象的图像的图像检测部 ; 处理由所述图像检测部检测出的图像信息的信息处理部; 以及信息分发控制部分，分发和控制由信息处理部分处理的图像信息。信息分配控制部分包括：信息提取部分，基于由图像检测部分检测到的图像信息提取控制信息并发送所提取的控制信息;传输控制部分，将由信息提取部分提取的图像信息输出到信息处理部分以及分配控制单元，根据从所述信息提取部输出的所提取的控制信息，向所述发送控制部输出发送控制信号。

8. 发明专利

JP2013200686A Data processing device, and data volume increase alleviation method 有权
标题翻译：数据处理设备和数据容量增加方法
公开(公告)号：JP2013200686A
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：JP2012068221
申请日：2012-03-23
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： SAKURAI YUICHI , TOBA TADANOBU , IIZUMI KEN , HIRANO KATSUNORI , OSAKA HIDEKI
IPC分类号： G06F13/362
CPC分类号： G06F13/1673 , G06F13/36 , G06T1/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a data processing device with which, when a temporary network congestion occurs, it is possible to avoid a buffer overflow and sustain a process.SOLUTION: When a request for retransmission of the same data with respect to a processor element from a buffer occurs continuously a prescribed number of iterations, a data processing device according to the present invention determines that it is possible that a buffer overflow occurs, and suppresses an increase in the volume of data which is accumulated in the buffer.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种数据处理装置，当发生临时网络拥塞时，可以避免缓冲区溢出并维持进程。解决方案：当关于处理器重发相同数据时，来自缓冲器的元件连续地发生规定次数的迭代，根据本发明的数据处理装置确定可能发生缓冲器溢出，并且抑制缓冲器中累积的数据量的增加。

9. 发明专利

JP2009087202A Image processing part and semiconductor test device 审中-公开
标题翻译：图像处理部件和半导体测试装置
公开(公告)号：JP2009087202A
公开(公告)日：2009-04-23
申请号：JP2007258515
申请日：2007-10-02
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： TOBA TADANOBU , HIRANO KATSUNORI , SATO NORIO , KOYAMA SUSUMU
IPC分类号： G06F15/80 , G06T1/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the man-hour for creation steps of an operation program of an SEM (search engine marketing) test device and to improve maintenance efficiency by providing a master and a slave attributes with respect to an operation processing means and simultaneously describing processing of an operating means having the slave attribute with an operation processing means having the master attribute.
SOLUTION: Not only a self processing program but also a program code of a slave operation part are written to a pipeline description in a processing sequence program of a master operation part. A call command of an operation library is written to the program code. As an argument of the program code of the slave operation part, it is defined whether operation of the program code is synchronous or asynchronous, so that processing is separated from synchronous control.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了减少SEM（搜索引擎营销）测试设备的操作程序的创建步骤的工时，并且通过提供关于操作处理的主和从属性来提高维护效率用具有主属性的操作处理装置来表示并同时描述具有从属属性的操作装置的处理。解决方案：在主操作部分的处理顺序程序中，不仅将自动处理程序，而且将从操作部件的程序代码写入流水线描述。操作库的调用命令被写入程序代码。作为从操作部件的程序代码的参数，定义了程序代码的操作是同步还是异步，从而使处理与同步控制分离。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2009070686A Inspection device 有权
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2009070686A
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：JP2007237988
申请日：2007-09-13
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： HIRANO KATSUNORI , TOBA TADANOBU , OHASHI MASAHIRO , WADA MASAJI
IPC分类号： H01J37/147 , G01N23/225 , H01J37/24 , H01J37/28 , H01L21/66
CPC分类号： G01N23/2251 , H01J2237/221 , H01J2237/2817
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device capable of scanning in the arbitrary direction of an inspection object region of a sample and using high throughput electron beams.
SOLUTION: Conversion parts 8, 9 which individually perform coordinate-conversion in each horizontal (X) direction and vertical direction (Y) are provided at a scan control part 12 to form two dimensional coordinates for scanning electron beams of a scanning electron microscope, and the electron beams are scanned in the arbitrary direction in the inspection object region of the sample. These conversion parts 8, 9 are constituted of small capacity conversion tables (LUT) capable of high speed operation individually in each of the horizontal (X) direction and the vertical (Y) direction, and by being combined with a large capacity conversion table (LUT) storing coordinate conversion data corresponding to a plurality of scanning types, an inspection device which is can be adapted to a plurality of types of scanning, has multiple functions, and can perform high-speed scan control can be obtained.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在样本的检查对象区域的任意方向上扫描并使用高通量电子束的检查装置。解决方案：在扫描控制部分12处设置在每个水平（X）方向和垂直方向（Y）上单独执行坐标转换的转换部分8,9，以形成扫描电子束的扫描电子束的二维坐标显微镜，并且在样品的检查对象区域中沿任意方向扫描电子束。这些转换部分8,9由能够在水平（X）方向和垂直（Y）方向中的每一个中单独进行高速运行的小容量转换表（LUT）构成，并且通过与大容量转换表 LUT）存储对应于多种扫描类型的坐标转换数据，可以适应于多种扫描类型的检查装置具有多种功能，并且可以获得执行高速扫描控制。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

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