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    • 2. 发明申请
    • LICHT EMITTIERENDE HALBLEITERVORRICHTUNGEN MIT VERÄNDERBARER EMISSIONSWELLENLÄNGE
    • 具有可变发射波长发光半导体器件
    • WO2005067065A1
    • 2005-07-21
    • PCT/EP2004/014713
    • 2004-12-24
    • HUMBOLDT-UNIVERSITÄT ZU BERLINHATAMI, FaribaMASSELINK, William, Ted
    • HATAMI, FaribaMASSELINK, William, Ted
    • H01L33/00
    • H01L33/30B82Y20/00H01L33/06H01L2924/0002H01L2924/00
    • Eine erfindungsgemässe Halbleitervorrichtung zum Emittieren von Licht bei anlegen einer Spannung umfasst - einen ersten Hableiterbereich (3), dessen Leitfähigkeit auf Ladungsträgern eines ersten Leitfähigkeitstyps, also bspw. Elektronen beruht, - einen zweiten Halbleiterbereich (5), dessen Leitfähigkeit auf Ladungsträgern eines zweiten Leitfähigkeitstyps, welche eine den Ladungsträgern des ersten Leitfähigkeitstyps entgegengesetzte Ladung besitzen, also bspw. Löchern, beruht, und - einen zwischen dem ersten Halbleiterbereich (3) dem zweiten Halbleiterbereich (5) angeordneten aktiven Halbleiterbereich (7A - 7C), in welchem die Lichtemission stattfindet und in den Quantenstrukturen (13, 15) eines Halbleitermaterials mit direkter Bandlücke in mindestens zwei unterschiedlichen miteinander gekoppelten Konfigurationen eingebettet sind. Ausserdem ist der erfindungsgemässen Halbleitervorrichtung eine Schalteinrichtung (20) zum direkten oder indirekten Beeinflussen des durch den aktiven Halbleiterbereich (7A - 7C) fliessenden Stromes zugeordnet, die derart ausgestaltet ist, dass zumindest zwischen einem Stromfluss durch den aktiven Halbleiterbereich mit einer Stromstärke (H1) unterhalb einer bestimmten Schwellenstromstärke und einem Stromfluss durch den aktiven Halbleiterbereich mit einer Stromstärke (H2) oberhalb der Schwellenstromstärke hin und her zu schalten ist.
    • 在包括施加电压发光的本发明的半导体器件 - 第一Hableiterbereich(3)基于其导电率上的第一导电类型的载流子,即,例如,电子, - 一个第二半导体区域(5),第二导电类型的导电性的电荷载体, 其具有一个相反于该第一导电型的电荷的载流子,因此,例如通孔是基于,和 - 一个第一半导体区域(3)至所述第二半导体区域(5)设置在有源半导体区之间(7A - 7C),在其中发生的光发射和 与至少两种不同的相互耦合的配置的直接带隙的半导体材料的量子结构(13,15)被嵌入。 此外,本发明的半导体器件是开关装置(20),用于直接或间接影响因素穿过有源半导体区域(7A - 7C)流动的电流分配,其被设计为使得至少低于电流流过有源半导体区与电流强度之间(H1) 是某一阈值的电流,并且电流流过有源半导体区与所述阈值电流以上的电流强度(H2)到来回切换。
    • 4. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES LASERS
    • 制造激光器的方法
    • WO2013044913A2
    • 2013-04-04
    • PCT/DE2012/200062
    • 2012-09-12
    • HUMBOLDT-UNIVERSITÄT ZU BERLINMASSELINK, William, TedSEMTSIV, Mykhaylo, PetrovychCHASHNIKOVA, Mikaela
    • MASSELINK, William, TedSEMTSIV, Mykhaylo, PetrovychCHASHNIKOVA, Mikaela
    • H01S5/0425H01S5/02461H01S5/2072H01S5/2214H01S5/2224H01S5/2275
    • Die Erfindung bezieht sich u. a. auf ein Verfahren zum Herstellen eines Lasers. Erfindungsgemäß ist bei dem Verfahren vorgesehen, dass auf oder über einem auf einem Träger (10) befindlichen Halbleiterkörper (40), der einen wellenführenden und zur Erzeugung von Photonen geeigneten aktiven Laserabschnitt (41) und einen darüber befindlichen, eine niedrigere Brechzahl als der Laserabschnitt aufweisenden Mantelabschnitt (42) umfasst, eine Materialschicht (50, 120) ganzflächig unselektiv aufgebracht wird, deren Brechzahl kleiner als die Brechzahl des aktiven Laserabschnitts ist, die elektrische Leitfähigkeit der Materialschicht (50, 120) derart lokal verändert wird, dass der über dem aktiven Laserabschnitt befindliche Schichtabschnitt (51, 122) eine größere elektrische Leitfähigkeit als der oder die seitlich neben dem aktiven Laserabschnitt befindlichen Schichtabschnitte (52, 121) aufweist, und zumindest auf dem über dem aktiven Laserabschnitt (41) befindlichen Schichtabschnitt (51, 122) der Materialschicht (50, 120) eine Kontaktschicht (70) zum elektrischen Kontaktieren des Halbleiterkörpers (40) aufgetragen wird.
    • 本发明涉及u。 一。 涉及制造激光的方法。 发明Ä大街 体(40),其具有的光子的波导航用途hrenden和产生合适的活性激光部(41)和一个表示OVER;在此,上或上方一个上的支撑BEAR位于GER(10)Halbleiterk&OUML该方法提供 ,位于低的折射率比具有激光器部鞘部(42)包括材料层(50,120)ganzfl BEAR被chig非选择性施加其折射率比所述激光器激活部分的折射率小,所述材料层的导电性的承受能力(50, 120),使得在本地一个版本BEAR被改变时,该导航使用位于有源激光部层部(51,122)上方的GRö道路ERE电导率BEAR能力大于或位于横向相邻的活性激光部分的层区段(52,121) 并且至少在有源激光器部分(41)上的材料层(50,120)上, 用于电接触半导体本体(40)的接触层(70)被应用