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1. 发明专利

JP2015031796A パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス有权
标题翻译：图案形成方法，抗紫外线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，电阻膜，使用其制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2015031796A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：JP2013160616
申请日：2013-08-01
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： TAKIZAWA HIROO , TSURUTA TAKUYA , TSUCHIMURA TOMOTAKA
IPC分类号： G03F7/038 , C08F212/14 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , C08F12/22 , C08F12/32 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0388 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , G03F7/2059
摘要：【課題】本発明は、活性光線又は放射線性を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、超微細領域(例えば線幅50nm以下の領域)において、高感度、高解像性(高解像力など)、高いラフネス性能、膜べり低減性能、高い露光ラチチュード、及び、高いドライエッチング耐性を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】(1)感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、(2)前記膜を活性光線又は放射線で露光することと、(3)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することと、を含んだパターン形成方法、これに供せられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスであって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、芳香環を有する特定構造の繰り返し単位と、酸分解性基を有する特定構造の繰り返し単位と、架橋性基を有する特定構造の繰り返し単位とを有する樹脂を含有する。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供同时满足高灵敏度，高分辨率（分辨率）的所有要求的图案形成方法，光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜，或类似物），用于解决技术问题的超细区域（例如，在线宽度为50nm以下的区域）中，降低膜的还原性，高曝光宽容性和高干蚀刻耐久性的高粗糙性，用于提高使用光化射线或辐射的半导体元件的微处理的性能，并提供使用上述方法和组合物制造电子器件的方法和电子器件。解决方案：图案形成方法包括：（1）形成通过使用光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物的膜; （2）将膜暴露于光化射线或辐射; 和（3）通过使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光的薄膜。光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜用于图案形成方法。电子装置的制造方法通过使用上述图案形成方法等进行; 并且由此制造电子设备。光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含具有特定结构的具有芳香环的重复单元的树脂，具有酸分解性基团的具体结构的重复单元和具有特定结构的重复单元，其具有交联基团。

2. 发明专利

JP2014240942A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、パターン形成方法、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス审中-公开
标题翻译：化学敏感或辐射敏感性组合物，耐蚀膜，图案形成方法，使用其制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014240942A
公开(公告)日：2014-12-25
申请号：JP2013169955
申请日：2013-08-19
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： KAWABATA KENJI , TSUBAKI HIDEAKI , TAKIZAWA HIROO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F8/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F8/32 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/325
摘要：【課題】本発明の目的は、電子線あるいは極紫外線(EUV光)を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性(高解像力など)、良好なパターン形状及びスカムの低減を高次元で同時に満足するパターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】本願明細書に記載の一般式(1)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する樹脂(A)と、本願明細書に記載の一般式(2)で表されるイオン性化合物とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题为了解决使用电子束或极紫外线（EUV光）的半导体微细加工性能的技术问题，提供图案形成方法，光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及同时高水平地满足高灵敏度，高分辨率（例如高分辨率），良好的图案轮廓和减少浮渣的抗蚀剂膜，并且提供使用上述方法和材料制造电子装置的方法和电子器件。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：具有由说明书中描述的通式（1）表示的重复单元的树脂（A），并具有由酸产生极性基团的作用; 和由说明书中描述的通式（2）表示的离子化合物。

3. 发明专利

JP2014167564A Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film using the same, method for manufacturing electronic device, and electronic device 有权
标题翻译：图案形成方法，电子束敏感或极端超紫外线敏感性树脂组合物，使用其的电阻膜，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014167564A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：JP2013039705
申请日：2013-02-28
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： HIRANO SHUJI , TAKIZAWA HIROO
IPC分类号： G03F7/038 , C08F12/24 , C08F20/30 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2059 , C08F12/24 , C08F20/30 , C08F20/58 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/325 , C08F212/14 , C08F220/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method which simultaneously and sufficiently exhibits a favorable pattern shape and a high outgas performance in the formation of a pattern having an ultrafine line width or space width (for example, in an order of several tens nanometers), and to provide an electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, a resist film using the same, a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: The pattern forming method includes, in the following order: a step (1) of forming a film by using an electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition described below; a step (2) of exposing the film by using an electron beam or extreme ultraviolet rays; and a step (3) of developing the film after exposure by using a developing solution containing an organic solvent to form a negative pattern. The resin composition comprises: a resin (Aa) having at least one group selected from a set consisting of a fluorine atom, a group having a fluorine atom, a group having a silicon atom, an alkyl group having 6 or more carbon atoms, a cycloalkyl group having 6 or more carbon atoms, an aryl group having 9 or more carbon atoms, an aralkyl group having 10 or more carbon atoms, an aryl group substituted with at least one alkyl group having 3 or more carbon atoms, and an aryl group substituted with at least one cycloalkyl group having 5 or more carbon atoms; and a resin (Ab) which shows changes in the polarity by an action of an acid. The content percentage of the resin (Aa) is 31 to 90 mass% with respect to the solid content of the electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在形成具有超细线宽度或空间宽度的图案（例如，几十纳米的数量级）的同时充分显示良好的图案形状和高排气性能的图案形成方法），并提供电子束敏感或极紫外线敏感性树脂组合物，使用其的抗蚀剂膜，电子器件和电子器件的制造方法。解决方案：图案形成方法按以下顺序包括：使用下述的电子束敏感性或极紫外线敏感性树脂组合物形成膜的工序（1）通过使用电子束或极紫外线曝光所述膜的步骤（2）; 以及通过使用含有有机溶剂的显影液形成负图案而使曝光后的膜显影的工序（3）。树脂组合物包含：具有至少一个选自氟原子，具有氟原子的基团，具有硅原子的基团，具有6个或更多个碳原子的烷基的基团的树脂（Aa），具有6个或更多个碳原子的环烷基，具有9个或更多个碳原子的芳基，具有10个或更多个碳原子的芳烷基，被至少一个具有3个或更多个碳原子的烷基取代的芳基和芳基被至少一个具有5个或更多个碳原子的环烷基取代; 和通过酸的作用显示极性变化的树脂（Ab）。相对于电子束敏感性或极紫外线敏感性树脂组合物的固体成分，树脂（Aa）的含有率为31〜90质量％。

4. 发明专利

JP2014059543A Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device 有权
标题翻译：图案形成方法，电子束敏感或极端超紫外线敏感性树脂组合物，电阻膜，使用其制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014059543A
公开(公告)日：2014-04-03
申请号：JP2013054401
申请日：2013-03-15
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TAKIZAWA HIROO , HIRANO SHUJI , YOKOGAWA NATSUMI , FUTAHASHI WATARU
IPC分类号： G03F7/038 , C08F20/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F14/185 , C08F16/10 , C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/26 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/325 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method showing excellent sensitivity, resolution and space width roughness in forming a fine isolated space pattern, showing high resolution, high EL (exposure latitude) and local dimensional uniformity in forming a hole pattern having a fine hole diameter, and to provide an electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition, a resist film using the composition, and a method for manufacturing an electronic device.SOLUTION: The pattern forming method includes at least steps of: (1) forming a film by using an electron beam-sensitive or extreme ultraviolet ray-sensitive resin composition containing a resin (A) having a repeating unit expressed by general formula (1-0) and a repeating unit expressed by general formula (1-2); (2) exposing the film by use of an electron beam or extreme ultraviolet rays; and (3) developing the film with a developing solution containing an organic solvent to form a negative pattern. The content of the repeating unit expressed by general formula (1-0) is 45 mol% or more with respect to the whole repeating units in the resin (A).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在形成精细隔离空间图形时显示出优异的灵敏度，分辨率和空间宽度粗糙度的图案形成方法，显示高分辨率，高EL（曝光宽容度）和形成具有微细孔的图案的局部尺寸均匀性孔径，并且提供电子束敏感或极紫外线敏感性树脂组合物，使用该组合物的抗蚀剂膜和电子器件的制造方法。解决方案：图案形成方法至少包括以下步骤：（1 ）通过使用含有具有由通式（1-0）表示的重复单元的树脂（A）和由通式（1-2）表示的重复单元）的电子束敏感或极紫外线敏感性树脂组合物形成膜）; （2）通过使用电子束或极紫外线使膜曝光; 和（3）用含有机溶剂的显影溶液显影该膜以形成负型图案。由通式（1-0）表示的重复单元的含量相对于树脂（A）中的全部重复单元为45摩尔％以上。

5. 发明专利

JP2013228681A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the same 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及使用它们的丙烯酸类敏感或辐射敏感性膜和图案形成方法
公开(公告)号：JP2013228681A
公开(公告)日：2013-11-07
申请号：JP2013033638
申请日：2013-02-22
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： HIRANO SHUJI , TAKIZAWA HIROO , TSUBAKI HIDEAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F216/02 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C07D235/12 , C07D235/16 , C07D235/22 , C07D235/26 , C07D235/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/2002 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can form a pattern with high sensitivity, resolution and defocus latitude (DOF), and with an excellent shape, and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a nitrogen-containing compound (N) which is represented by the following general formula (N1). In the general formula (N1), X represents a group including a hetero atom, and L represents a single bond or an alkylene group.
摘要翻译：要解决的问题：提供可以形成具有高灵敏度，分辨率和散焦纬度（DOF）的图案的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并具有优异的形状，以及光化射线敏感或辐射敏感膜和图案形成方法，各自使用它们。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物含有由以下通式（N1）表示的含氮化合物（N）。在通式（N1）中，X表示包含杂原子的基团，L表示单键或亚烷基。

6. 发明专利

JP2013195844A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性组合物，使用它们的电阻膜，图案形成方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2013195844A
公开(公告)日：2013-09-30
申请号：JP2012064522
申请日：2012-03-21
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： YOKOGAWA NATSUMI , TAKIZAWA HIROO , TSUBAKI HIDEAKI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F212/14 , C08F220/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F8/02 , C08F8/12 , C08F8/14 , C08F8/34 , C08F8/36 , C08F12/20 , C08F12/24 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F216/10 , C08F216/38 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/30 , C08F232/08 , C08F2800/10 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/322 , C08F112/14 , C08F120/20 , C08F2220/283 , C08F2220/382 , C08F2220/305 , C08F2220/301
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition satisfying a high resolution property, a high sensitivity, a good pattern shape, a good roughness characteristic, a good flare resistance and a good exposure latitude (EL) at the same time, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the same, a pattern forming method, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin (P) having a repeating unit represented by the specified general formula (A) and having at least two of specific repeating units. Ar represents a divalent aromatic ring group or, when a ring is formed by bonding to R, a trivalent aromatic ring group.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供满足高分辨率，高灵敏度，良好图案形状，良好的粗糙度特性，良好的防火性和良好的曝光宽容度（EL）的光化射线敏感或辐射敏感性组合物同时，使用它的光化射线敏感或辐射敏感膜，图案形成方法，电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：提供光化学敏感或辐射敏感的光敏含有具有由特定通式（A）表示的重复单元并且具有至少两个特定重复单元的树脂（P）的树脂组合物。 Ar表示二价芳环基，或者当通过与R键合形成环时，可以使用三价芳环基。

7. 发明专利

JP2013174715A Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using these, and electronic device 有权
标题翻译：图案形成方法，抗紫外线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，电阻膜，使用这些的电子器件的制造方法和电子器件
公开(公告)号：JP2013174715A
公开(公告)日：2013-09-05
申请号：JP2012038923
申请日：2012-02-24
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： FUTAHASHI WATARU , TAKIZAWA HIROO , HIRANO SHUJI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0384 , C08F212/14 , C08F220/28 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolving power, dry etching resistance and outgas performance in negative pattern formation by organic solvent development, a resist film using the same, a pattern forming method, a manufacturing method of an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: Provided is a pattern forming method comprising: (A) forming a film by using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin comprising a repeating unit having a phenol skeleton and a repeating unit having a group that decomposes by action of an acid to produce an alcoholic hydroxy group; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer. Also provided are a resist film using the same, a pattern forming method, a manufacturing method of an electronic device, and an electronic device.
摘要翻译：要解决的问题：提供通过有机溶剂显影在阴图案形成中的灵敏度，分辨率，耐干蚀刻性和排气性能优异的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用其的抗蚀剂膜，图案形成方法，电子设备的制造方法和电子设备。解决方案：提供一种图案形成方法，包括：（A）通过使用含有树脂的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜，所述树脂包含重复具有酚骨架的单元和具有通过酸作用分解以产生醇羟基的基团的重复单元; （B）将薄膜曝光; 和（C）通过使用含有机溶剂的显影剂显影所述曝光的膜。还提供了使用其的抗蚀剂膜，图案形成方法，电子设备的制造方法和电子设备。

8. 发明专利

JP2013167825A Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device 有权
标题翻译：图案形成方法，抗紫外线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，电阻膜，使用其制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2013167825A
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：JP2012032098
申请日：2012-02-16
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TAKIZAWA HIROO , TSUCHIMURA TOMOTAKA
IPC分类号： G03F7/039 , C08F12/22 , C08F20/18 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a resist film, in which a pattern can be formed with high sensitivity, while suppressing pattern collapse or generation of outgas and preventing digging in a pattern lower part, in microprocessing such as for formation of a fine pattern in a semiconductor device, particularly, for formation of a negative pattern by development with an organic solvent, and to provide a method for manufacturing an electronic device and an electronic device using the above method and composition.SOLUTION: The pattern forming method includes the steps of: (1) forming a film by using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) resin in which the solubility for a developing solution including an organic solvent decreases by an action of an acid, (B) a compound expressed by a specific general formula (Z1) that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent; (2)exposing the film by use of actinic rays or radiation; and (4) forming a negative pattern by developing the film after exposure by use of the developing solution containing an organic solvent. The present invention also discloses an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition to be used for the above pattern forming method, a resist film formed by using the composition, and a method for manufacturing an electronic device and an electronic device using the above pattern forming method.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供图案形成方法，光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜，其中可以以高灵敏度形成图案，同时抑制图案塌陷或产生排气并防止在图案下部挖掘，在半导体装置中用于形成精细图案的微加工，特别是通过用有机溶剂显影形成负图案，并提供一种用于制造电子装置和电子装置的方法使用上述方法和组合物的装置。方案：图案形成方法包括以下步骤：（1）通过使用光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜，所述树脂组合物包含（A）树脂，其中显影包含有机溶剂的溶液通过酸的作用而降低，（B）由通过照射产生酸的特定通式（Z1）表示的化合物光化射线或辐射，和（C）溶剂; （2）使用光化射线或辐射使膜曝光; 和（4）通过使用含有机溶剂的显影液曝光后显影膜形成负图案。本发明还公开了用于上述图案形成方法的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，使用该组合物形成的抗蚀剂膜，以及使用上述方法制造电子器件和电子器件的方法图案形成方法。

9. 发明专利

JP2011256143A Carbazole-based compound having specific structure, and charge transport material and organic electroluminescent element using the same 有权
标题翻译：具有特定结构的基于CARBAZOLE的化合物，以及充电运输材料和使用其的有机电致发光元件
公开(公告)号：JP2011256143A
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：JP2010133375
申请日：2010-06-10
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ISE TOSHIHIRO , TAKIZAWA HIROO , YAMADA SATORU , KINOSHITA IKUO , TAKADA SAKI
IPC分类号： C07D209/86 , C07F15/00 , C09K11/06 , H01L51/50
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an organic electroluminescent element having excellent luminous efficiency and durability.SOLUTION: The organic electroluminescent element comprises a compound represented by general formula (1) (wherein R-Rand R-Rare each independently a hydrogen atom, alkyl which may contain a substituent Z, aryl which may contain a substituent Z, heteroaryl which may contain a substituent Z, alkoxy which may contain a substituent Z, substituent-containing amino, substituent-containing silyl, cyano or fluorine atom; Ris carbazolyl which may contain a substituent Z, fluorine atom, cyano or perfluoroalkyl; with proviso that when Ris carbazolyl which may contain a substituent Z, Rdoes not represent carbazolyl; substituent Z is alkyl, alkenyl, aryl, heteroaryl, alkoxy, phenoxy, a fluorine atom, silyl, amino, cyano or a group obtained by combining the groups and a plurality of substituents Z may be mutually bonded to form an aryl ring).
摘要翻译：要解决的问题：获得具有优异的发光效率和耐久性的有机电致发光元件。解决方案：有机电致发光元件包括由通式（1）表示的化合物（其中R C1 -R C16 并且R 1 -R 7 各自独立地为氢原子，可以含有取代基Z的烷基，可以含有取代基Z，可以含有取代基Z的杂芳基，可以含有取代基Z的烷氧基，含有取代基的氨基，含取代基的甲硅烷基，氰基或氟原子; R咔唑基其可以含有取代基Z，氟原子，氰基或全氟烷基;条件是当R“可以含有取代基Z的咔唑基时，R 6不代表咔唑基;取代基Z是烷基，烯基，芳基，杂芳基，烷氧基，苯氧基，氟原子，甲硅烷基，氨基，氰基或通过组合基团和多个取代基Z而获得的基团可以是相互键合形成芳基环）。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2011008179A Two-photon absorption recording material, and two-photon absorption optical recording and reproducing method and two-photon absorption recording medium using the same 审中-公开
标题翻译：双光子吸收记录材料和两光子吸收光学记录和再现方法和使用其的两光子吸收记录介质
公开(公告)号：JP2011008179A
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：JP2009153863
申请日：2009-06-29
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TAKAHASHI ERI , KITAMURA SATORU , YAMADA SATORU , ISHIDA TOSHIO , TAKIZAWA HIROO
IPC分类号： G03C1/72 , G11B7/005 , G11B7/24 , G11B7/244
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a simultaneous two-photon absorption recording material capable of performing reproduction with high sensitivity using reproduction laser light in a wavelength range of 400-550 nm by producing a fluorescent chromogen having a large molar extinction coefficient in a wavelength region near 400-550 nm; and to provide a two-photon absorption optical recording and reproducing method, a recording medium and the like using the recording material.SOLUTION: The simultaneous two-photon absorption recording material contains at least one two-photon absorption compound and at least one fluorescent dye precursor represented by general formula (I), wherein Rand Rrepresent H or the like; j and k represent an integer of 0-4; Lrepresents a divalent linking group or the like; Qrepresents a substituent or the like; and n represents an integer of 1-3. The recording material is subjected to recording by using two-photon absorption of the two-photon absorption compound, and the record can be reproduced by radiating laser light and detecting difference in the fluorescence intensity, therefore a two-photon absorption recording medium can be provided and a multilayer recording medium having a recording layer comprising the recording material can also be provided.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种同时的双光子吸收记录材料，其能够通过在波长范围内产生具有大的摩尔吸光系数的荧光色原子，以400-550nm的波长范围内的再现激光以高灵敏度进行再现接近400-550 nm; 并提供双光子吸收光学记录和再现方法，使用记录材料的记录介质等。解决方案：同时双光子吸收记录材料含有至少一个双光子吸收化合物和至少一种荧光染料由通式（I）表示的前体，其中兰德R代表H等; j和k表示0-4的整数; 代表二价连接基团等; Q表示取代基等; n表示1-3的整数。通过使用双光子吸收化合物的双光子吸收来对记录材料进行记录，并且可以通过照射激光并检测荧光强度的差异来再现记录，因此可以提供双光子吸收记录介质并且还可以提供具有包括记录材料的记录层的多层记录介质。

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