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1. 发明申请

WO2006007895A1 RÜCKFLÄCHENSPIEGEL 审中-公开
标题翻译： BACK SPACE镜子
公开(公告)号：WO2006007895A1
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/EP2005/005350
申请日：2005-05-17
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHELER, Michael , STÖCKL, Wieland , UHLIG, Hein , KAISER, Norbert
发明人： SCHELER, Michael , STÖCKL, Wieland , UHLIG, Hein , KAISER, Norbert
IPC分类号： F21V7/22
CPC分类号： C03C17/3663 , C03C17/36 , C03C17/3618 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/3649 , C03C2218/154 , F21V7/22 , G02B5/0808 , G02B5/085 , Y10T428/26
摘要： Die Erfindung betrifft einen Rückflächenspiegel mit einem für das zu reflektierende Licht transparenten Substrat (2) und einer auf seiner Rückseite aufgebrachten Silberschicht (3), wobei zwischen dem Substrat und der Silberschicht zumindest bereichsweise eine erste Zwischenschicht (4) als Unterschicht eingebracht ist, die aus einem hochschmelzenden Oxid besteht oder dieses enthält und einen höheren Schmelzpunkt als Silber aufweist, und auf der dem Substrat abgewandten Seite der Silberschicht zumindest bereichsweise eine weitere Deckschicht (6) aufgebracht ist, die aus einem der hochschmelzenden Metalle Ruthenium, Iridium, Osmium, Palladium, Platin, Rhenium und/oder Rhodium besteht oder diese enthält.
摘要翻译：本发明涉及具有透明的光被反射基底的背表面反射镜（2）和施加到其背面侧的银层（3），至少局部地，在衬底和银层之间的第一中间层（4）被引入作为由一个子层的力施加高熔氧化物是或包含，并且具有比银更高的熔点，并且在银层的基板侧的相反侧的至少部分，（6）由耐熔金属中的一种钌，铱，锇，钯，铂的另一层，铼和/或铑，或包含。

2. 发明申请

WO2004024805A1 VERFAHREN ZUR REDUZIERUNG DER GRENZFLÄCHENREFLEXION VON KUNSTSTOFFSUBSTRATEN SOWIE DERART MODIFIZIERTES SUBSTRAT UND DESSEN VERWENDUNG 审中-公开
标题翻译：降低塑料基板边缘反射的方法及其改进的基板及其使用方法
公开(公告)号：WO2004024805A1
公开(公告)日：2004-03-25
申请号：PCT/EP2003/007583
申请日：2003-07-14
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHULZ, Ulrike , KAISER, Norbert , MUNZERT, Peter , SCHELER, Michael , UHLIG, Hein
发明人： SCHULZ, Ulrike , KAISER, Norbert , MUNZERT, Peter , SCHELER, Michael , UHLIG, Hein
IPC分类号： C08J7/10
CPC分类号： G02B1/12 , B29C59/14 , B29K2033/12 , B29K2995/0018 , B29L2011/005 , C08J7/123 , C08J2333/12 , C08J2369/00
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reduzierung der Grenzflächenreflexion von Polymersubstraten mittels Ionenbeschuss, bei dem mindestens eine Substratoberfläche mittels eines Argon/Sauerstoff-Plasmas unter Ausbildung einer Brechzahlgradientenschicht modifiziert wird.
摘要翻译：本发明涉及一种通过离子轰击来减少聚合物基质的界面反射的方法，其中借助于氩/氧等离子体改变至少一个基底表面以形成折射率梯度层

3. 发明申请

WO2008064663A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER NANOSTRUKTUR AN EINER KUNSTSTOFFOBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：一种用于生产纳米结构塑料表面
公开(公告)号：WO2008064663A1
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/DE2007/002151
申请日：2007-11-28
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , MUNZERT, Peter , SCHELER, Michael , SCHULZ, Ulrike , KAISER, Norbert
发明人： MUNZERT, Peter , SCHELER, Michael , SCHULZ, Ulrike , KAISER, Norbert
IPC分类号： B29C59/00 , B29C59/14 , C23C14/58
CPC分类号： B29C59/14 , C08J7/12 , C23C14/0652 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/5873 , G02B1/12
摘要： Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Erzeugung einer Nanostruktur (6) an einer Oberfläche eines Substrats (1) aus einem Kunststoff mit einem Plasmaätzprozess wird ein dünne Schicht (2) auf das Kunststoffsubstrat (1) aufgebracht und anschließend der Plasmaätzprozess durchgeführt. Durch die mit dem Verfahren erzeugte Nanostruktur (6) wird insbesondere die Reflexion der Oberfläche des Kunststoffsubstrats (1) vermindert.
摘要翻译：在用于在基板的表面上产生纳米结构（6）本发明的方法（1）由塑料材料制成的具有等离子体蚀刻工艺中，薄层（2）在塑料基板上（1）被施加，然后进行的等离子体蚀刻处理。特别地，在塑料基板（1）的表面的由所述热通过纳米结构（6）的方法所产生的反射降低。

4. 发明申请

WO2006026975A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRAHLUNGSABSORBIERENDEN OPTISCHEN ELEMENTS UND STRAHLUNGSABSORBIERENDES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：用于生产辐射光学元件和光辐射元素
公开(公告)号：WO2006026975A2
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：PCT/DE2005/001572
申请日：2005-09-08
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , KAISER, Norbert , KALESS, Antje , MUNZERT, Peter , SCHELER, Michael , SCHULZ, Ulrike
发明人： KAISER, Norbert , KALESS, Antje , MUNZERT, Peter , SCHELER, Michael , SCHULZ, Ulrike
CPC分类号： G02B5/003 , B29C59/14 , B29K2033/12 , B29K2995/0031 , B29L2011/00 , Y10T428/31678
摘要： Bei einem Verfahren zur Herstellung eines strahlungsabsorbierenden optischen Elements, das ein Substrat (1) aus einem Kunststoff enthält, wird auf mindestens einer Oberfläche (2) des Substrats (1) mittels eines Plasmaätzprozesses eine Brechzahlgradientenschicht (4) erzeugt und nachfolgend eine Metallschicht (7) auf die Brechzahlgradientenschicht (4) aufgebracht.
摘要翻译：在用于制造包含基材辐射吸收光学元件的方法（1）由塑料制成，折射率梯度层（4）的至少一个表面（2）上的基板（1）所产生的等离子体的装置和随后的金属层（7）的折射率梯度层（4）被施加。

5. 发明申请

WO2003078345A1 METALLISCHES FLUORID IN PULVER- ODER GRANULATFORM, VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG UND DEN NACHWEIS DER REINHEIT 审中-公开
标题翻译：在生产IT粉末或颗粒状，工艺金属氟化物和纯洁的证明
公开(公告)号：WO2003078345A1
公开(公告)日：2003-09-25
申请号：PCT/DE2003/000809
申请日：2003-03-07
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , INSTITUT FÜR PHYSIKALISCHE HOCHTECHNOLOGIE E.V. , HEBER, Jörg , KAISER, Norbert , MÜHLIG, Christian , TRIEBEL, Wolfgang
发明人： HEBER, Jörg , KAISER, Norbert , MÜHLIG, Christian , TRIEBEL, Wolfgang
IPC分类号： C03C17/22
CPC分类号： C01B9/08 , C01F5/28 , C01P2002/84 , C01P2006/80 , C03C17/22 , C03C2217/285
摘要： Die Erfindung betrifft metallische Fluoride in Pulver- oder Granulatform sowie Verfahren zur Herstellung und den Nachweis der Reinheit solcher Pulver. Diese metallischen Fluoride werden für optische Elemente, insbesondere im kurzen ultravioletten Wellenlängenbereich eingesetzt. Mit der Erfindung sollen die optischen Eigenschaften verbessert und insbesondere lumineszenzbedingte Stärlichteinflüsse zumindest reduziert werden. Die für die Schichten eingesetzten metallischen Fluoride sollen dabei erfindungsgemäss einen Anteil eines zusätzlichen Elementes, das innerhalb mindestens eines vorgegebenen Wellenlängenbereiches elektromagnetische Strahlung luminesziert, der ≤ 10 Masse-ppm ist, enthalten. Bei diesen Elementen handelt es sich im Wesentlichen um Übergangsmetalle und/oder Seltenerdmetalle. Bei der Herstellung solcher metallischen Fluoride können diese vor der letztendlichen Schichtbildung auf optischen Elementen entsprechend gereinigt und so der unerwünschte Anteil solcher Elemente reduziert werden. Vor der Herstellung der optischen Elemente sollen die metallischen Fluoride mit elektromagnetischer Strahlung mit vorgebbarer Wellenlänge bestrahlt und die Intensität gegebenenfalls auftretender Lumineszenz mit einem optischen Detektor bestimmt werden.
摘要翻译：本发明涉及一种以粉末或颗粒形式的金属氟化物以及用于制备和检测这种粉末的纯度的方法。这些金属氟化物可用于光学元件，特别是在短紫外波长范围内。本发明的目的是改善光学特性，特别是lumineszenzbedingteStärlichteinflüsse被至少减少。用于层中的金属氟化物，由此包括在本发明，其发冷光的至少一个预定波长范围内的电磁辐射的附加元件的比例，则= <10质量ppm英寸这些元素主要是过渡金属和/或稀土金属。在生产这样的金属氟化物，这可以在光学元件的最终层形成前被清洁，因此对应于这样的元件的不希望的量可以减少。金属氟化物照射可预先确定的波长的电磁辐射，前光学元件的制造和存在的任选地与光检测器来确定发光强度。

6. 发明申请

WO2007098843A1 KRAFTFESTE ENTSPIEGELTE OBERFLÄCHE MIT ANTIFOG-EIGENSCHAFTEN 审中-公开
标题翻译：强大的反射表面和ANTIFOG功能
公开(公告)号：WO2007098843A1
公开(公告)日：2007-09-07
申请号：PCT/EP2007/001013
申请日：2007-02-06
申请人： RODENSTOCK GMBH , FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHERG, Gerd-Peter , STOLZ, Cécille , GÖTZ, Bärbel , FÜCHSEL, Kevin , KAISER, Norbert , SCHULZ, Ulrike
发明人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHERG, Gerd-Peter , STOLZ, Cécille , GÖTZ, Bärbel , FÜCHSEL, Kevin , KAISER, Norbert , SCHULZ, Ulrike
IPC分类号： G02B1/10 , G02B1/11
CPC分类号： G02B1/18 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/12 , G02B1/14 , G02B27/0006 , G02C11/08 , Y10T428/24322
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element bzw. Bauteil mit ausgezeichnetem Antifog-Effekt, welches darüber hinaus eine ausgezeichnete Kratzfestigkeit und/oder Ent Spiegelungswirkung aufweist und sogar hydrophobe und/oder oleophobe Eigenschaften aufweisen kann, und ein Verfahren zu dessen Herstellung. Das Element umfasst in der nachfolgenden Reihenfolge ein Glassubstrat, eine wasseraufnehmende erste Schicht und eine zweite Schicht, ausgewählt aus (i) einer Antireflexbeschichtung, einer Verspiegelungsbeschichtung oder einer Hartschicht oder (ii) einem Verbund bzw. einer Kombination aus Hartschicht und Antireflexbeschichtung oder (iii) einem Verbund bzw. einer Kombination aus Hartschicht und Verspiegelungsbeschichtung, wobei in die zweite Schicht und die wasseraufnehmende erste Schicht Sacklöcher eingebracht sind, weiche ausgehend von der zweiten Schicht eingebracht sind und die zweite Schicht vollständig durchdringen und zumindest teilweise in die wasseraufnehmende erste Schicht eindringen.
摘要翻译：本发明涉及具有优异防雾效果的光学元件，其也具有优异的耐刮擦性和/或防反射效果，并且甚至可以具有疏水性和/或疏油性，并且一种生产方法。按以下顺序，所述元件包括：玻璃基板，吸水第一层和拾取的第二层AUML; HLT（i）抗反射涂层，反射镜涂层或硬涂层或（ii）的化合物或硬质涂层和抗反射涂层的组合，或（ ⅲ）化合物或硬质层和镜面涂层的组合，其中，在所述第二层和所述吸水第一层Sackl＆oUML;谢尔引入，软开始从第二层引入和第二层完全BEAR不断并至少部分地渗透到穿透吸水的第一层。

7. 发明申请

WO2005033750A2 OPTISCHES SYSTEM ZUR VERRINGERUNG DER REFLEXION OPTISCHER TRANSPARENTER SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：光学系统，用于减少反射光学透明基板
公开(公告)号：WO2005033750A2
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/DE2004/002091
申请日：2004-09-13
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHULZ, Ulrike , KAISER, Norbert , SCHALLENBERG, Uwe
发明人： SCHULZ, Ulrike , KAISER, Norbert , SCHALLENBERG, Uwe
IPC分类号： G02B1/00
CPC分类号： G02B1/115
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches System zur Verringerung der Reflexion optisch transparenter Substratrate. Dabei ist auf der Oberfläche des jeweiligen Substrates ein Schichtsystem aus alternierend angeordneten Schichten ausgebildet. Gemäß der gestellten Aufgabe soll der Anteil an reflektiertem Licht in einem breiten Wellenlängenbereich reduziert werden, wobei ein gezielter Einfluss auf den Wert der Reflexion selbst, den jeweiligen Wellenlängenbereich, in dem eine Reduzierung erreichbar ist und gegebenenfalls auch eine gezielte Einflussnahme auf einen sich ergebenden Farbeindruck möglich sein soll. Erfindungsgemäß bilden die alternierend angeordneten Schichten von Stoffen mit kleinerer und höherer optischer Brechzahl Schichtstapel. Diese Schichtstapel weisen in Bezug zu einer vorgebbaren Wellenlänge λ eine äquivalente optische Brechzahl auf, die kleiner als die optische Brechzahl des Substrates ist. Es sind dabei mindestens zwei Schichtstapel übereinander ausgebildet, wobei ausgehend vom Substrat die jeweilige äquivalente optische Brechzahl immer verkleinert ist. Außerdem weisen die einzelnen Schichtstapel eine optische Dicke auf, die mindestens dem 2-fachen von 1/4 der vorgebbaren Wellenlänge λ entspricht.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，用于减少光学透明基底率的反射。在这种情况下，形成各自的底物的表面上包括布置交替层的层系统。根据任务，比例在一个宽的波长范围，其中，在所述反射本身的值的目标效果，相应的波长区域中的降低是可以实现的减小的反射光的，并可选地还包括靶向影响产生的颜色印象可能应该是。根据本发明形成的具有较小和较高的光折射率层堆叠材料的交替布置的层。该层堆栈具有相对于预定的波长为λ的等效光学折射率比所述基板的光折射率小。形成有至少两个层堆叠在另一个的上面，从基板折射的各等效光学索引总是降低开始。此外，各个层堆叠的光学厚度是的预定波长为λ的1/4的至少2倍。

8. 发明申请

WO2006066563A1 THERMISCH STABILER MULTILAYER-SPIEGEL FÜR DEN EUV-SPEKTRALBEREICH 审中-公开
标题翻译：热安定性等多层镜的用于EUV光谱范围
公开(公告)号：WO2006066563A1
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：PCT/DE2005/002315
申请日：2005-12-23
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , BENOIT, Nicolas , FEIGL, Torsten , KAISER, Norbert , YULIN, Sergiy
发明人： BENOIT, Nicolas , FEIGL, Torsten , KAISER, Norbert , YULIN, Sergiy
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/10 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0833 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： Bei einem Multilayer-Spiegel (1) zur Reflexion von EUV- Strahlung, der eine Mehrzahl alternierender Molybdänschichten (4) und Siliziumschichten (3) enthält, ist an mehreren Grenzflächen zwischen den Molybdänschichten (4) und den Siliziumschichten (3) jeweils eine Barriereschicht (5) angeordnet, die ein Siliziumnitrid oder ein Siliziumborid enthält. Durch die Barriereschichten (5) aus einem Siliziumnitrid oder einem Siliziumborid wird eine hohe thermische Stabilität, insbesondere eine hohe Langzeitstabilität bei Temperaturen von mehr als 3000C, bei gleichzeitig hoher Reflexion des Multilayer- Spiegels erreicht. Ein derartiger Multilayer-Spiegel (1) kann insbesondere als heizbarer Kollektorspiegel einer EUV- Strahlungsquelle verwendet werden.
摘要翻译：在多层反射镜（1），用于EUV辐射的包括多个交替的钼层（4）和硅层（3）的反射，是在钼层（4）和所述硅层（3）各自具有的阻挡层之间的多个接口（放置5）含有硅氮化物或硅硼化物。通过由氮化硅或硼化物的阻挡层（5）是一个高的热稳定性，特别是在高于300℃更高的温度下具有高的长期稳定性，与所述多层反射镜的高反射率相结合。这种多层反射镜（1）可以用作特别是EUV辐射源的可加热的收集器反射镜。

9. 发明申请

WO2006000445A1 HOCHREFLEKTIV BESCHICHTETER MIKROMECHANISCHER SPIEGEL, VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG SOWIE DESSEN VERWENDUNG 审中-公开
标题翻译：高反射镀膜微机械视镜，其制造方法相同，及其用途
公开(公告)号：WO2006000445A1
公开(公告)日：2006-01-05
申请号：PCT/EP2005/006901
申请日：2005-06-27
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHMIDT, Jan, Uwe , SANDNER, Thilo , SCHENK, Harald , GATTO, Alexandre , YANG, Minghong , HEBER, Jörg , KAISER, Norbert
发明人： SCHMIDT, Jan, Uwe , SANDNER, Thilo , SCHENK, Harald , GATTO, Alexandre , YANG, Minghong , HEBER, Jörg , KAISER, Norbert
IPC分类号： G02B26/08
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B5/08
摘要： Die Erfindung betrifft hochreflektiv beschichtete mikromechanische Spiegel für den tief-ultravioletten (DUV)- und vakuum-ultravioletten (VUV)-Spektralbereich, basierend auf einem Substrat, das mit einer Aluminium-Schicht und einer transparenten Vergütungsschicht überzogen ist. Ebenso betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung derartiger hochreflektiv beschichteter mikromechanischer Spiegel sowie deren Verwendung zur Herstellung von Mikrosensoren, optischen Datenspeichern oder Video- und Datenprojektionsdisplays.
摘要翻译：本发明涉及用于深紫外线（DUV）的高反射涂层的微机械镜 - 基于其上涂覆有铝层和透明涂层的基材上，并在真空紫外（VUV）光谱。本发明还涉及一种用于制造这种高反射涂布的微机械镜以及它们用于生产微型传感器，光学数据储存或数据和视频投影显示器的使用的方法。

10. 发明申请

WO2009127581A1 REFLEXIONSMINDERNDES INTERFERENZSCHICHTSYSTEM UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：降低反射的干扰层的系统和方法及其
公开(公告)号：WO2009127581A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2009/054253
申请日：2009-04-08
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHULZ, Ulrike , MUNZERT, Peter , KAISER, Norbert
发明人： SCHULZ, Ulrike , MUNZERT, Peter , KAISER, Norbert
IPC分类号： G02B1/11 , G02B1/12
CPC分类号： G02B1/111 , G02B1/118 , G02B1/12 , G02B1/14
摘要： Es wird ein reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem angegeben, das mindestens drei alternierende Schichten (2, 3) aufweist, die unterschiedliche Brechungsindizes aufweisen, wobei mindestens eine nanostrukturierte Schicht (4) aus einem organischen Material oder einem organisch-anorganischem Hybridmaterial auf die alternierenden Schichten aufgebracht ist. Mit dem Interferenzschichtsystem kann eine sehr geringe Reflexion über einen weiten Wellenlängen- und Einfallswinkelbereich erzielt werden.
摘要翻译：提供了一种减反射干涉层系统，其包含至少三个交替层（2，3）具有不同的折射率，至少一个纳米结构层（4）由上所述交替层的有机材料或有机 - 无机混合材料施加。随着干涉层系统具有在宽的波长和入射角度范围内的反射率非常低，可以得到。

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