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    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER ÜBERSCHUSSLADUNGSTRÄGERLEBENSDAUER IN EINER HALBLEITERSCHICHT
    • 方法用于确定过负荷CARRIERS LIFE在半导体层中
    • WO2010022922A1
    • 2010-03-04
    • PCT/EP2009/006166
    • 2009-08-26
    • FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.ALBERT-LUDWIGS-UNIVERSITÄT FREIBURGROSENITS, PhilippROTH, ThomasGLUNZ, Stefan
    • ROSENITS, PhilippROTH, ThomasGLUNZ, Stefan
    • G01R31/265G01R31/26
    • G01R31/2656G01R31/2648
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der Überschussladungsträgerlebensdauer in einer Halbleiterschicht, folgende Verfahrensschritte umfassend: A) Beaufschlagen der Halbleiterschicht mit Anregungsstrahlung zum Erzeugen von Lumineszenzstrahlung in der Hableiterschicht und B) Messen der Intensität der Lumineszenzstrahlung der Halbleiterschicht mittels eines Detektors. Wesentlich ist, dass die Verfahrensschritte A und B an einer ersten Messprobe, umfassend eine erste Halbleiterschicht mit einer ersten Schichtdicke D 1 zur Messung einer ersten Lumineszenzintensität l M,1 und zusätzlich mindestens an einer zweiten Messprobe, umfassend eine zweite Halbleiterschicht mit einer zweiten Schichtdicke D 2 zur Messung einer zweiten Lumineszenzintensität I M,2 durchgeführt werden, wobei die Schichtdicken D 1 und D 2 unterschiedlich sind, die erste und die zweite Halbleiterschicht im Wesentlichen gleiche Überschussladungsträgerlebensdauern und die gleichen Rekombinationseigenschaften an den jeweiligen Oberflächen der Halbleiterschichten aufweisen und die Überschussladungsträgerlebensdauer der Halbleiterschichten durch Vergleich des Verhältnisses der gemessenen Lumineszenzintensitäten mit einem theoretischen Modell bestimmt wird.
    • 本发明涉及一种方法,用于确定过量载流子寿命在半导体层中,下面的方法步骤,其包括:A)使用激发辐射照射所述半导体层,以产生在Hableiterschicht发光和B)通过一个检测器来测量所述半导体层的发光的强度。 至关重要的是,该方法在第一测定试样步骤A和B,其包括至少在第二测定试样具有用于测量第一发光强度L M,1的第一层厚度D 1和另外的第一半导体层,其包括具有第二层厚度D的第二半导体层 2,用于测量的第二发光强度IM,2,其中,所述层厚度进行D1和D2 2是不同的,所述第一和具有基本在半导体层的各自表面和由所述半导体层的过剩电荷载流子寿命相同的过剩电荷载流子的寿命,并且在同一重组所述第二半导体层 比较所测量的发光的比例通过理论模型来确定。