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1. 发明申请

WO2005093125A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR AUSBILDUNG DÜNNER SCHICHTEN AUS SILIZIUMNITRID AUF SUBSTRATOBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译： METHOD AND APPARATUS FOR在基板表面上形成的氮化硅薄层
公开(公告)号：WO2005093125A1
公开(公告)日：2005-10-06
申请号：PCT/DE2005/000549
申请日：2005-03-22
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZÜR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , ROGLER, Daniela , HOPFE, Volkmar , MÄDER, Gerrit
发明人： ROGLER, Daniela , HOPFE, Volkmar , MÄDER, Gerrit
IPC分类号： C23C16/34
CPC分类号： C23C16/345 , C23C16/452 , C23C16/45519 , C23C16/45595
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung dünner Schichten aus Siliziumnitrid auf Substratoberflächen (3), wobei die Schichtausbildung aus der Gasphase bei dem jeweiligen Atmosphärendruck entsprechenden Bedingungen erfolgen soll. Erfindungsgemäss wird dabei einer Plasmaquelle (82) zur Plasmabildung ein aus einem atomaren und einem molekularen Gas gebildetes Gasgemisch zugeführt. Letztlich in das gebildete und auf die jeweilige zu beschichtende Oberfläche strömende Plasma eine Precursormischung, die Ammoniak, Stickstoff und/oder Argon enthält sowie ein elementorganisches Silan zugeführt werden. Das jeweilige elemDie Erfindung betrifft ein Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung dünner Schchten aus Siliziumnitrid auf Substratoberflächen, wobei die Schichtausbildung aus der Gasphase bei dem jeweiligen Atmosphärendruck entsprechenden Bedingungen erfolgen soll. Gemäss der gestellten Aufgabe sollen solche Schichten verbesserte optische, mechanische Eigenschaften und eine relativ hohe Reinheit des die Schicht bildenden Siliziumnitrides aufweisen und ausserdem eine erhöhte Abscheiderate erreicht werden können. Erfindungsgemäss wird dabei einer Plasmaquelle zur Pla abildung ein aus einem atomaren molekularen Gas gebildetes Gasgemisch zugeführt. Letztlich in das gebildete und auf die jeweilige zu beschichtende Oberfläche strömende Plasma eine Precursormischung, die Ammoniak, Stickstoff und/oder Argon enthält sowie ein elementorganisches Silan zugeführt werden. Das jeweilige elementorganiscIpe Silan kann aber auch unmittelbar in die Plasmaquelle als weiterer Precursor zugegeben werden. Dabei soll der Volumenstrom für zugeführtes Ammoniak mindestens 200-fach grösser, als der Volumenstrom für zugeführtes elementorganisches Silan sein und es soll auch eine Relativbewegung einer Vorrichtung mit der dis Plasma gebildet wird und der zu beschichtenden Substratoberfläche durchgeführt werden.
摘要翻译：本发明涉及一种用于形成氮化物在基板表面（3）的硅，其中，从所述气相中的膜形成来进行适当的条件与相应的大气压的薄层的方法和装置。根据本发明，而用于形成等离子体的等离子体源（82）从一个原子和分子的气体形成的气体混合物中供应的。最终，在形成并流到各自的表面要涂覆含含有元素氨，氮和/或氩气的等离子前体混合物，以及有机硅烷被馈送。相应elemDie发明涉及一种用于形成氮化物衬底表面上的硅，其中，从所述气相中的膜形成来进行适当的条件与相应的大气压力的薄Schchten的方法和装置。根据所陈述的问题应具有这样的层改善的光学性能，机械性能和形成氮化硅层的相对高的纯度，并且还可以达到增加的沉积速率。根据本发明，同时等离子源用于播例证从供给的原子分子的气体的气体混合物形成的聚合物。最终，在形成并流到各自的表面要涂覆含含有元素氨，氮和/或氩气的等离子前体混合物，以及有机硅烷被馈送。但各个elementorganiscIpe硅烷也可以直接加入到等离子体源作为进一步前体。用于供给的氨的体积流量应该比体积流速供给元素的有机硅烷是大至少200倍，并且还执行将被涂覆有DIS形成等离子体和衬底表面的装置的相对运动。

2. 发明申请

WO2005119213A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR OPTISCHEN DETEKTION VON IN ABGASEN CHEMISCHER PROZESSE ENTHALTENEN STOFFEN 审中-公开
标题翻译：用于化学过程中气体的光学检测装置及方法含有化学物质
公开(公告)号：WO2005119213A1
公开(公告)日：2005-12-15
申请号：PCT/DE2005/000985
申请日：2005-05-27
申请人： FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FOSCHUNG E.V. , DANI, Ines , GRÄHLERT, Wulf , HOPFE, Volkmar , MÄDER, Gerrit
发明人： DANI, Ines , GRÄHLERT, Wulf , HOPFE, Volkmar , MÄDER, Gerrit
IPC分类号： G01N21/35
CPC分类号： G01N21/3504 , G01N21/15 , G01N21/59 , G01N21/85
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur optischen Detektion von in Abgasen chemischer Prozesse enthaltenen Stoffen. Sie kann insbesondere bei Abgasströmen aus Reaktions- oder Vakuumkammern geführten Gasströmen zeitnah zum jeweiligen Prozess eingesetzt werden. Dabei können in den jeweiligen Gasströmen unterschiedliche Stoffe auch in Partikelform enthalten sein. Gemäss der gestellten Aufgabe soll eine entsprechende Detektion über grosse Zeiträume betriebssicher durchgeführt werden können und dabei eine ausreichend genaue Erfassung von Stoffen in einem solchen Gasstrom ermöglicht sein. Die erfindungsgemässe Vorrichtung ist daher so ausgebildet, dass Abgase durch ein eine optische Messstrecke bildendes Kanalelement hindurchgeführt werden. Am Kanalelement sind zwei gegenüber der Umgebung verschlossene Flansche vorhanden, an denen wiederum jeweils mindestens ein Fensterelement, durch die elektromagnetische Strahlung zur optischen Detektion von einer Strahlungsquelle zu einem optischen Detektor durch das Kanalelement gerichtet werden kann. Durch die Flansche wird ausserdem ein Spülgas in das Kanalelement eingeführt, wobei mit einem in einen der Flansche eingeführten Spülgas im Bodenbereich des Inneren des Kanalelementes eine geschlossene laminare Spülgasströmung ausgebildet werden soll.
摘要翻译：本发明涉及一种装置和用于在的化学过程的材料的废气的光学检测方法。它可以在反应或真空室废气流被用于运行气流中及时尤其是每个过程。不同的材料也可存在在气流中的颗粒的形式。根据所设定的任务是在可靠的长时间来执行相应的检测和在那里允许的物质的足够精确的检测这样的气体流。因此形成本发明的装置使得废气通过通道形成元件的光学测量路径通过。在从设置关闭凸缘环境两个信道单元，向其中依次在每个具有至少一个窗口元件可以通过由信道元件的辐射源的光学检测的光学检测器的电磁辐射被引导。由凸缘也吹扫气体被引入到通道构件，其特征在于，封闭层净化气流是与插入所述凸缘中的一个的密钥来形成在沟道元件的内部的底部区域吹扫气体。

3. 发明申请

WO2009080010A1 BESCHICHTUNGSVORRICHTUNG ZUR BESCHICHTUNG EINES SUBSTRATES BEI ATMOSPHÄRENBEDINGUNGEN 审中-公开
标题翻译：涂布装置涂层与大气条件衬底
公开(公告)号：WO2009080010A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/DE2008/002122
申请日：2008-12-15
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , MÄDER, Gerrit , ROCH, Julius , KAPHENGST, Felix
发明人： MÄDER, Gerrit , ROCH, Julius , KAPHENGST, Felix
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/453 , C23C16/513
CPC分类号： C23C16/45589 , C23C16/453 , C23C16/511 , C23C16/513
摘要： Die vorliegende Erfindung beschreibt eine Beschichtungsvorrichtung zur Beschichtung eines Substrates bei Atmosphärenbedingungen sowie ein Verfahren für die Modifizierung von Substratoberflächen bei Atmosphärenbedingungen. Aufgabe der Erfindung ist es, einen Atmosphärendruckdurchlaufreaktor bzw. eine Beschichtungsvorrichtung zur Verfügung zu stellen, der bzw. die so ausgebildet ist, dass eine homogene Schichtabscheidung in einem im Vergleich zum Stand der Technik deutlich erweiterten Parameterfeld möglich ist, und dass eine deutlich erhöhte Flexibilität in Bezug auf die Verwendung für unterschiedliche Beschichtungen oder Schichtsysteme vorliegt. Die Beschichtungsvorrichtung weist eine ortsfest angeordnete Plasmaquelle, einen relativ zur Plasmaquelle in eine erste Bewegungsrichtung (Vorschubrichtung) bewegbaren Substratträger, welcher auf einer der Plasmaquelle zugewandten Seite ausgebildet ist, zum Tragen und zum Transport eines zu beschichtenden Substrats und eine relativ zur Plasmaquelle in einer zweiten Bewegungsrichtung (B2), welche zumindest teilweise nicht der ersten Bewegungsrichtung entspricht, bewegbare Austrittsvorrichtung für das Plasma der Plasmaquelle, wobei die Austrittsvorrichtung mindestens eine Austrittsöffnung auf. Die Austrittsvorrichtung ist so angeordnet und entlang der zweiten Bewegungsrichtung bewegbar, dass über die mindestens eine Austrittsöffnung Plasma aus der Plasmaquelle in Richtung auf die Substratoberfläche richtbar ist.
摘要翻译：本发明描述了用于涂覆在大气条件下的衬底和用于基材表面的在大气条件下的变形例的方法的涂布装置。本发明的目的是提供一种常压流动反应器或涂布装置，是或被设计成使得均匀的膜沉积是可能在一个在与现有技术大大延长参数字段比较，并且显着增加的灵活性在参考关于使用不同的涂层和涂料体系的发送。所述涂覆装置包括一个固定地设置的等离子体源，相对于在第一运动方向上的等离子体源（进给方向）上移动衬底载具，其在面向所述等离子体源侧的一侧形成，用于支撑和运动的一个第二方向上传送待涂覆基片和相对于等离子体源（B2），其至少部分地对应于所述第一移动方向，可动排出装置用于等离子体源的等离子体，所述出口装置的至少一个出口开口。出口装置沿第二运动方向布置且可移动，经由从朝向衬底表面的等离子体源的所述至少一个出口开口等离子体可被引导。

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