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1. 发明申请

WO2009080010A1 BESCHICHTUNGSVORRICHTUNG ZUR BESCHICHTUNG EINES SUBSTRATES BEI ATMOSPHÄRENBEDINGUNGEN 审中-公开
标题翻译：涂布装置涂层与大气条件衬底
公开(公告)号：WO2009080010A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/DE2008/002122
申请日：2008-12-15
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , MÄDER, Gerrit , ROCH, Julius , KAPHENGST, Felix
发明人： MÄDER, Gerrit , ROCH, Julius , KAPHENGST, Felix
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/453 , C23C16/513
CPC分类号： C23C16/45589 , C23C16/453 , C23C16/511 , C23C16/513
摘要： Die vorliegende Erfindung beschreibt eine Beschichtungsvorrichtung zur Beschichtung eines Substrates bei Atmosphärenbedingungen sowie ein Verfahren für die Modifizierung von Substratoberflächen bei Atmosphärenbedingungen. Aufgabe der Erfindung ist es, einen Atmosphärendruckdurchlaufreaktor bzw. eine Beschichtungsvorrichtung zur Verfügung zu stellen, der bzw. die so ausgebildet ist, dass eine homogene Schichtabscheidung in einem im Vergleich zum Stand der Technik deutlich erweiterten Parameterfeld möglich ist, und dass eine deutlich erhöhte Flexibilität in Bezug auf die Verwendung für unterschiedliche Beschichtungen oder Schichtsysteme vorliegt. Die Beschichtungsvorrichtung weist eine ortsfest angeordnete Plasmaquelle, einen relativ zur Plasmaquelle in eine erste Bewegungsrichtung (Vorschubrichtung) bewegbaren Substratträger, welcher auf einer der Plasmaquelle zugewandten Seite ausgebildet ist, zum Tragen und zum Transport eines zu beschichtenden Substrats und eine relativ zur Plasmaquelle in einer zweiten Bewegungsrichtung (B2), welche zumindest teilweise nicht der ersten Bewegungsrichtung entspricht, bewegbare Austrittsvorrichtung für das Plasma der Plasmaquelle, wobei die Austrittsvorrichtung mindestens eine Austrittsöffnung auf. Die Austrittsvorrichtung ist so angeordnet und entlang der zweiten Bewegungsrichtung bewegbar, dass über die mindestens eine Austrittsöffnung Plasma aus der Plasmaquelle in Richtung auf die Substratoberfläche richtbar ist.
摘要翻译：本发明描述了用于涂覆在大气条件下的衬底和用于基材表面的在大气条件下的变形例的方法的涂布装置。本发明的目的是提供一种常压流动反应器或涂布装置，是或被设计成使得均匀的膜沉积是可能在一个在与现有技术大大延长参数字段比较，并且显着增加的灵活性在参考关于使用不同的涂层和涂料体系的发送。所述涂覆装置包括一个固定地设置的等离子体源，相对于在第一运动方向上的等离子体源（进给方向）上移动衬底载具，其在面向所述等离子体源侧的一侧形成，用于支撑和运动的一个第二方向上传送待涂覆基片和相对于等离子体源（B2），其至少部分地对应于所述第一移动方向，可动排出装置用于等离子体源的等离子体，所述出口装置的至少一个出口开口。出口装置沿第二运动方向布置且可移动，经由从朝向衬底表面的等离子体源的所述至少一个出口开口等离子体可被引导。

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