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    • 1. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON GRAPHEN
    • 用于生产GRAPH
    • WO2014019561A1
    • 2014-02-06
    • PCT/DE2013/000367
    • 2013-07-05
    • FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
    • MANTL, SiegfriedZHAO, Qing-TaiLIU, Linjie
    • C01B31/04
    • B82Y40/00B82Y30/00C01B32/184
    • Bei dem Verfahren wird Kohlenstoff oder eine Kohlenstoffverbindung in ein Trägermaterial eingebracht, und das Graphen wird durch Temperaturbehandlung an der Oberfläche oder an einer Grenzfläche des Trägermaterials segregiert. Unter Segregation durch Temperaturbehandlung ist jede Segregation zu verstehen, die kausal dadurch verursacht wird, dass das Trägermaterial auf eine Temperatur von 200 °C oder höher aufgeheizt und anschließend wieder unter diese Temperatur abgekühlt wird. Es ist dabei unerheblich, ob die Segregation während der Aufheizphase, während der Haltezeit oder während der Abkühlphase eintritt. Erfindungsgemäß wird das Trägermaterial in Kontakt mit einem Stabilisierungsmaterial gebracht und durch Temperaturbehandlung bei 200 °C oder höher, bevorzugt bei 500 °C oder höher, ganz oder teilweise in eine chemische Verbindung mit dem Stabilisierungsmaterial überführt. Es wurde erkannt, dass die Stabilität der chemischen Verbindung dafür sorgt, dass die Fläche, auf der die Graphenschicht gebildet wird, durch die für die Segregation notwendige Temperaturbehandlung deutlich geringere Schäden erleidet als nach dem bisherigen Stand der Technik.
    • 在这个过程中,碳或碳的化合物被结合到载体材料,并且该图是通过热处理在表面上或在所述基板的界面分离。 下通过温度处理偏析,每个偏析是可以理解的是有因果的事实,所述载体材料为200℃或更高加热和然后的温度再次冷却低于该温度引起的。 它是否是在加热阶段的偏析,持有期间或在冷却发生无关紧要的。 根据本发明,载体材料被带入与稳定化材料接触,并通过加热处理在200℃以上,在500℃或更高的全部或与稳定材料的化学化合物的一部分转化,优选。 人们已经认识到,该化学化合物的稳定性保证了在其上形成石墨烯层的表面经历由需要对偏析温度处理作为在现有技术中更少显著损坏。