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    • 6. 发明申请
    • LASER-BASED TERMINATION OF MINIATURE PASSIVE ELECTRONIC COMPONENTS
    • 微型无源电子元件的基于激光器的终止
    • WO2007137140A3
    • 2008-01-17
    • PCT/US2007069184
    • 2007-05-17
    • ELECTRO SCIENT IND INCSWENSON EDWARD JGARCIA DOUGLAS JGOLDWATER BRUCE STUART
    • SWENSON EDWARD JGARCIA DOUGLAS JGOLDWATER BRUCE STUART
    • H01C17/00G11C5/06H01C17/28H01G13/00
    • H01C17/006H01C17/281H01G13/00
    • Terminating the ends of passive electronic components entails applying a laser-removable coating (70) to one or both of the opposed major surfaces (14, 16; 36, 38) of a substrate (10, 34). A UV laser beam having a spot size and an energy distribution sufficient to remove the laser-removable coating from multiple selected regions of at least one of the major surfaces to which the laser-removable coating was applied is directed for incidence on the substrate. Relative motion between the UV laser beam and substrate effects removal of sufficient amounts of laser-removable coating to expose the multiple selected regions. The substrate is then broken into multiple rowbars (48, 50, 98) or individual components (100), each of which includes side margins. An electrically conductive material is applied to the side margins to form electrically conductive interconnects (56, 58, 96) between portions of the side margins spatially aligned with the multiple selected regions.
    • 终止无源电子部件的端部需要将激光可移除涂层(70)施加到衬底(10,34)的相对主表面(14,16; 36,38)中的一个或两个上。 具有足够的光斑尺寸和能量分布的UV激光束被引导到基底上以入射到激光可去除的涂层的至少一个主表面的多个选定区域中。 UV激光束和衬底之间的相对运动可以消除足够数量的激光可去除涂层以暴露多个选定区域。 然后将基板分解成多个行棒(48,50,98)或各个部件(100),每个部件包括侧边缘。 将导电材料施加到侧边缘,以在与多个选定区域空间对准的侧边缘的部分之间形成导电互连(56,58,96)。
    • 9. 发明专利
    • Verfahren zum Lasertrimmen eines Schichtwiderstandes
    • DE10295946B4
    • 2013-09-26
    • DE10295946
    • 2002-01-31
    • ELECTRO SCIENT IND INC
    • SWENSON EDWARD JHARRIS RICHARD SSUN YUNLONG
    • B23K26/00B23K26/06B23K26/073B23K26/36B23K101/36H01C17/242
    • Verfahren zum Lasertrimmen eines Schichtwiderstands (10a) zum Ändern eines Parameters des Schichtwiderstands, der ein auf einem Substrat (18) getragenes Schichtwiderstandsmaterial enthält, von einem Anfangswert in einen Nennwert, wobei das Schichtwiderstandsmaterial zur Bestimmung des Anfangswertes des Parameters beiträgt, wobei das Verfahren umfasst: Erzeugen eines Gaußschen Strahls von mindestens einem Laserpuls (54) mit UV-Strahlung mit einem räumlichen Energiedichteprofil mit Gaußscher Gestalt; Ausbreiten des Gaußschen Strahls entlang eines optischen Weges durch ein Strahlformgebungselement (90) zum Umwandeln des Gaußschen Strahls in einen transformierten Strahl mit einem gleichmäßigeren räumlichen Energiedichteprofil, das gleichmäßiger als das Energiedichteprofil mit Gaußscher Gestalt ist; Ausbreiten eines Hauptteils des transformierten Strahls durch eine Apertur (98) zum Umwandeln desselben in einen Zielstrahl, der einen Ziellichtfleck mit einem gleichmäßigen räumlichen Energiedichteprofil bildet; Lenken des Zielstrahls auf ein Zielgebiet des Schichtwiderstandsmaterials zum Abtragen des Schichtwiderstandsmaterials in dem Zielgebiet des Schichtwiderstands (10a) und Ändern seines Anfangswertes in den Nennwert und Eindringen in das Substrat (18), um eine Kerbe (30, 30b) durch das Schichtwiderstandsmaterial zu bilden und einen Hauptteil des Substrats (18) in dem Zielgebiet gleichmäßig freizulegen, wobei das gleichmäßige räumliche Energiedichteprofil des Ziellichtfleckes einen effektiven Energiedichtewert hat, der Bildungen von Mikrorissen in dem Substrat (18) minimiert.