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1. 发明申请

US20080100813A1 Cleanup method for optics in immersion lithography 有权
标题翻译：浸没光刻中光学的清理方法
公开(公告)号：US20080100813A1
公开(公告)日：2008-05-01
申请号：US12003038
申请日：2007-12-19
申请人： Andrew Hazelton , Hidemi Kawai , Douglas Watson , W. Novak
发明人： Andrew Hazelton , Hidemi Kawai , Douglas Watson , W. Novak
IPC分类号： G03B27/52
CPC分类号： G03F7/70341 , B08B3/04 , B08B3/12 , G03F7/70891 , G03F7/70916 , G03F7/70925
摘要： A liquid immersion exposure apparatus includes an optical system via which a substrate is exposed with an exposure beam, and a cleaning device which performs a cleaning operation by filling a space adjacent the optical system with a liquid including bubbles.
摘要翻译：液浸曝光装置包括通过曝光用光线曝光基板的光学系统和通过用包含气泡的液体填充与光学系统相邻的空间进行清洁操作的清洁装置。

2. 发明申请

US20070171390A1 Cleanup method for optics in immersion lithography 审中-公开
标题翻译：浸没光刻中光学的清理方法
公开(公告)号：US20070171390A1
公开(公告)日：2007-07-26
申请号：US11703802
申请日：2007-02-08
申请人： Andrew Hazelton , Hidemi Kawai , Douglas Watson , W. Novak
发明人： Andrew Hazelton , Hidemi Kawai , Douglas Watson , W. Novak
IPC分类号： G03B27/52
CPC分类号： G03F7/70341 , B08B3/04 , B08B3/12 , G03F7/70891 , G03F7/70916 , G03F7/70925
摘要： A lens cleaning module is provided for a lithography system having an exposure apparatus including an objective lens. The system includes a scanning stage for supporting a wafer beneath the objective lens. A cleaning module coupling with the lithography system is provided for cleaning the objective lens in a non-manual cleaning process.
摘要翻译：提供一种用于具有包括物镜的曝光装置的光刻系统的透镜清洁模块。该系统包括用于在物镜下方支撑晶片的扫描台。提供与光刻系统耦合的清洁模块，用于在非手动清洁过程中清洁物镜。

3. 发明申请

US20060258214A1 Seal assembly for an exposure apparatus 审中-公开
标题翻译：曝光装置的密封组件
公开(公告)号：US20060258214A1
公开(公告)日：2006-11-16
申请号：US11125783
申请日：2005-05-10
申请人： Douglas Watson
发明人： Douglas Watson
IPC分类号： H01R13/40
CPC分类号： H01L21/67126 , G03F7/70808 , G03F7/70816
摘要： A seal assembly (44) for sealing a connector gap (274) between a connector (248) and a frame (258) includes a first subassembly (260) that seals the connector gap (274) and a second subassembly (262) that selectively seals the connector gap (274). With this design, the second subassembly (262) can seal the connector gap (274) in the event the first subassembly (260) fails and does not seal the connector gap (274). The second subassembly (262) can include a seal (382) that is movable between a first configuration (286) in which the seal (382) does not seal the connector gap (274) and a second configuration (288) in which the seal (382) does seal the connector gap (274).
摘要翻译：用于密封连接器（248）和框架（258）之间的连接器间隙（274）的密封组件（44）包括密封连接器间隙（274）和第二子组件（262）的第一子组件（260），所述第二子组件密封连接器间隙（274）。通过该设计，在第一子组件（260）发生故障并且不密封连接器间隙（274）的情况下，第二子组件（262）可以密封连接器间隙（274）。第二子组件262可包括密封件382，该密封件可在其中密封件（382）不密封连接器间隙（274）的第一构型（286）和第二构型（288）之间移动，在第二构型（382）确实密封连接器间隙（274）。

4. 外观设计

USD310820S Combined dimmer, fan speed control switches and cover plate 失效
公开(公告)号：USD310820S
公开(公告)日：1990-09-25
申请号：US230926
申请日：1988-08-11
申请人： Douglas Watson , Lester Rivera , Joseph G. Justiniano , Saul Rosenbaum , Lawrence Mellyn , Thomas A. Blumberg
设计人： Douglas Watson , Lester Rivera , Joseph G. Justiniano , Saul Rosenbaum , Lawrence Mellyn , Thomas A. Blumberg

5. 外观设计

USD310819S Combined dimmer, fan speed control switches and cover plate 失效
公开(公告)号：USD310819S
公开(公告)日：1990-09-25
申请号：US230925
申请日：1988-08-11
申请人： Douglas Watson , Lester Rivera , Joseph G. Justiniano , Saul Rosenbaum , Lawrence Mellyn , Thomas A. Blumberg
设计人： Douglas Watson , Lester Rivera , Joseph G. Justiniano , Saul Rosenbaum , Lawrence Mellyn , Thomas A. Blumberg

6. 外观设计

USD310815S Combined sound activated switch and cover plate 失效
公开(公告)号：USD310815S
公开(公告)日：1990-09-25
申请号：US230930
申请日：1988-08-11
申请人： Douglas Watson , Saul Rosenbaum , Joseph G. Justiniano , Lester Rivera
设计人： Douglas Watson , Saul Rosenbaum , Joseph G. Justiniano , Lester Rivera

7. 发明申请

US20070211352A1 Aperture changing apparatus and method 审中-公开
标题翻译：孔径改变装置和方法
公开(公告)号：US20070211352A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：US11372824
申请日：2006-03-09
申请人： Alton Phillips , Douglas Watson
发明人： Alton Phillips , Douglas Watson
IPC分类号： G02B9/00
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B5/005 , G03F7/70091 , G03F7/701 , G21K1/04
摘要： An apparatus for rotating apertures from a storage position not in a desired plane to a “in use” position in a desired plane. The stored position of the apertures does not interfere with a radiation beam path of an optical system. The apparatus may compactly store multiple apertures and may position a smaller aperture in a desired plane without removing a larger aperture from the desired plane.
摘要翻译：一种用于将孔从不在所需平面的存储位置旋转到期望平面中的“使用中”位置的装置。孔的存储位置不干涉光学系统的辐射束路径。该设备可以紧凑地存储多个孔，并且可以在期望的平面中定位较小的孔，而不从期望的平面移除较大的孔。

8. 发明申请

US20070211237A1 System for controlling a dual mover assembly for an exposure apparatus 有权
标题翻译：用于控制用于曝光装置的双推动器组件的系统
公开(公告)号：US20070211237A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：US11369493
申请日：2006-03-07
申请人： Yi-Ping Hsin , Hideyuki Hashimoto , Jin Nishikawa , Bausan Yuan , Douglas Watson
发明人： Yi-Ping Hsin , Hideyuki Hashimoto , Jin Nishikawa , Bausan Yuan , Douglas Watson
IPC分类号： G03B27/58
CPC分类号： G03F7/70725
摘要： A precision assembly (210) for positioning a device (226) includes a stage (260) that retains the device (226), a dual mover assembly (228) that moves the stage (260), and the device (226) along a movement axis (266), a measurement system (222) and a control system (224). The dual mover assembly (228) includes a first mover (262) that moves the stage (260) along the movement axis (266) and a second mover (264) that moves the device (226) along the movement axis (266). The second mover (264) is rigidly coupled to the first mover (262) so that movement of the first mover (262) results in movement of the second mover (264). Further, the total output of the dual mover assembly (228) along the movement axis (266) is equal to the sum of the movement of the first mover (262) and the movement of the second mover (264). The measurement system (222) measures a movement position along the movement axis (266). The control system (224) controls the dual mover assembly (228) utilizing the movement position. The control system (224) is designed to effectively decouple the control of the first mover (262) from the control of the second mover (264). Further, the control system (224) includes a quantization feedforward loop.
摘要翻译：用于定位设备（226）的精密组件（210）包括保持所述设备（226）的平台（260），使所述平台（260）移动的所述双推进器组件（228），以及沿着运动轴（266），测量系统（222）和控制系统（224）。双推动器组件（228）包括沿着移动轴线（266）移动平台（260）的第一移动器（262）和沿着移动轴线（266）移动设备（226）的第二移动器（264）。第二移动器（264）刚性地联接到第一移动器（262），使得第一移动器（262）的运动导致第二移动器（264）的运动。此外，沿着移动轴线（266）的双推动器组件（228）的总输出等于第一移动器（262）与第二移动器（264）的运动的总和。测量系统（222）测量沿着移动轴线（266）的移动位置。控制系统（224）利用移动位置控制双推动器组件（228）。控制系统（224）被设计成有效地将第一移动器（262）的控制与第二移动器（264）的控制分离。此外，控制系统（224）包括量化前馈回路。

9. 发明申请

US20070139635A1 Lithography apparatus and method utilizing pendulum interferometer system 失效
标题翻译：利用摆锤干涉仪系统的平版印刷设备和方法
公开(公告)号：US20070139635A1
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：US11546368
申请日：2006-10-12
申请人： Michael Binnard , Douglas Watson , W. Novak , Hiroto Horikawa , Yoshifumi Nakakoji , Hideaki Sakamoto
发明人： Michael Binnard , Douglas Watson , W. Novak , Hiroto Horikawa , Yoshifumi Nakakoji , Hideaki Sakamoto
IPC分类号： G03B27/80
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70775 , G03F7/70833
摘要： Reticle and/or wafer stage interferometers are mounted to a supporting body that is separate from the body that supports the projection optical system of a lithography apparatus. This enables the size of the body supporting the projection optical system to be reduced so that it has more favorable dynamic characteristics.
摘要翻译：标线片和/或晶片台干涉仪安装到与支撑光刻设备的投影光学系统的主体分离的支撑体上。这使得能够减小支撑投影光学系统的主体的尺寸，使其具有更有利的动态特性。

10. 发明申请

US20060258153A1 Barrier assembly for an exposure apparatus 失效
标题翻译：用于曝光设备的屏障组件
公开(公告)号：US20060258153A1
公开(公告)日：2006-11-16
申请号：US11126444
申请日：2005-05-10
申请人： Douglas Watson
发明人： Douglas Watson
IPC分类号： H01L21/44 , H01L21/4763 , H01L23/48
CPC分类号： G03F7/70841 , G03F7/70808 , Y10T29/41
摘要： A barrier assembly (58) for sealing an assembly gap (274) between a first assembly (266) and a second assembly (268) includes a first barrier (270) that seals the assembly gap (274) and a second barrier (272) that seals the assembly gap (274). The barriers (270) (272) can be spaced apart. Further, the first barrier (270) provides a flexible pressure barrier that seals the assembly gap (268) and the second barrier (272) provides a flexible barrier that inhibits the first barrier (270) from contaminating a chamber environment within the assemblies (266) (268). Additionally, the barrier assembly (58) includes a barrier source (62) that controls a barrier environment between the barriers (270) (272).
摘要翻译：用于密封第一组件（266）和第二组件（268）之间的组件间隙（274）的阻挡组件（58）包括密封组件间隙（274）和第二屏障（272）的第一屏障（270）密封组件间隙（274）。障碍物（270）（272）可以间隔开。此外，第一屏障（270）提供密封组件间隙（268）的柔性压力屏障，并且第二屏障（272）提供柔性屏障，其阻止第一屏障（270）污染组件内的室环境（266））（268）。另外，阻挡组件（58）包括控制屏障（270）（272）之间的屏障环境的阻挡源（62）。

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