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1. 发明申请

WO2012099882A2 METHOD FOR PRODUCING SILYL-FUNCTIONALIZED POLYOLEFINS AND SILYL-FUNCTIONALIZED POLYOLEFINS WITH SILYL MONOMER INCORPORATION 审中-公开
标题翻译：用SILYL MONOMER INCORPORATION生产硅官能化聚烯烃和硅烷官能化聚烯烃的方法
公开(公告)号：WO2012099882A2
公开(公告)日：2012-07-26
申请号：PCT/US2012021558
申请日：2012-01-17
申请人： DOW CORNING , UNIV NORTHWESTERN , BURNS GARY , DE BUYL FRANCOIS , FU PENG-FEI , MARKS TOBIN J , SMITS VALERIE
发明人： BURNS GARY , DE BUYL FRANCOIS , FU PENG-FEI , MARKS TOBIN J , SMITS VALERIE
IPC分类号： C08F210/00 , C08L43/04
CPC分类号： C08F230/08 , C08F4/65908 , C08F4/65912 , C08F4/6592 , C08F4/65925 , C08F210/02 , C08F210/06 , C08J9/04 , C08J2323/08 , C08J2323/14 , C08J2343/04 , C08F2500/03 , C08F2230/085
摘要： Methods for producing a silyl-functionalized polyolefin with silyl monomer incorporation are provided. The method includes reacting a silicon-containing olefin with an a-olefin, in the presence of a catalytic amount of a group IV catalyst for a time sufficient to produce a silyl-functionalized polyolefin.
摘要翻译：提供了用甲硅烷基单体掺入制备甲硅烷基官能化聚烯烃的方法。该方法包括使含硅烯烃与α-烯烃在催化量的IV族催化剂存在下反应足以产生甲硅烷基官能化聚烯烃的时间。

2. 发明申请

WO2007094848A3 ANTIREFLECTIVE COATING MATERIAL 审中-公开
标题翻译：抗反射涂料
公开(公告)号：WO2007094848A3
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：PCT/US2006046810
申请日：2006-12-07
申请人： DOW CORNING , FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT
发明人： FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/0752 , Y10T428/31663
摘要： Antireflective coatings comprising (i) a silsesquioxane resin having the formula (PhSiO (3-x) /2 (OH) x) mHSiO (3-x) /2 (OH) x) n (MeSiO (3-x) /2 (OH) x) p where Ph is a phenyl group, Me is a methyl group, x has a value of 0, 1 or 2; m has a value of 0.01 to 0.99, n has a value of 0.01 to 0.99, p has a value of 0.01 to 0.99, and m + n + p = 1; (ii) a polyethylene oxide fluid; and (iii) a solvent; and a method of forming said antireflective coatings on an electronique device.
摘要翻译：抗反射涂层，其包含（i）具有式（PhSiO（3-x）/ 2（OH）x）mHSiO（3-x）/ 2（OH）x）n（MeSiO（3-x）/ 2 OH）x）p其中Ph是苯基，Me是甲基，x具有0,1或2的值; m的值为0.01〜0.99，n为0.01〜0.99，p为0.01〜0.99，m + n + p = 1。（ii）聚环氧乙烷流体; 和（iii）溶剂; 以及在电子器件上形成所述抗反射涂层的方法。

3. 发明申请

WO2007094849A2 ANTIREFLECTIVE COATING MATERIAL 审中-公开
标题翻译：抗反射涂料
公开(公告)号：WO2007094849A2
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/US2006046811
申请日：2006-12-07
申请人： DOW CORNING , FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT
发明人： FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT
CPC分类号： C09D183/06 , G03F7/0752 , G03F7/091
摘要： Silsesquioxane resins useful in forming the antireflective coating having the formula (PhSiO (3-x)/2 (OH) x ) m HSiO (3-x)/2 (OH) x ) n (MeSiO (3-x)/2 (OH) x ) p (RSiO (3-x) /2(OH) x ) q where Ph is a phenyl group, Me is a methyl group, R is a polyethylene oxide group, x has a value of 0, 1 or 2; m has a value of 0.01 to 0.99, n has a value of 0.01 to 0.99, p has a value of 0.01 to 0.99, q has a value of 0.01 to 0.50 and m + n + p + q ~ l.
摘要翻译：可用于形成具有式（PhSiO 3（3-x）/ 2（OH）x）的抗反射涂层的倍半硅氧烷树脂 >（3-x）/ 2 （OH）_{X ）_{名词（近远_{（3-x）/ 2 （OH ）_{X ）_{p （RSiO _{（3-x）的 / 2（OH）_{X ）_{q 其中Ph是苯基，Me是甲基，R是聚环氧乙烷基团，x的值是0,1或2; m的值为0.01〜0.99，n为0.01〜0.99，p为0.01〜0.99，q为0.01〜0.50，m + n + p + q〜l。}}}}}}}}

4. 发明申请

WO2012064633A3 NANOSCALE PHOTOLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：纳米级光刻
公开(公告)号：WO2012064633A3
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/US2011059532
申请日：2011-11-07
申请人： DOW CORNING , UNIV MICHIGAN , FU PENG-FEI , GUO LINGJIE JAY , MOYER ERIC SCOTT , PINA-HERNANDEZ CARLOS
发明人： FU PENG-FEI , GUO LINGJIE JAY , MOYER ERIC SCOTT , PINA-HERNANDEZ CARLOS
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/16 , G03F7/40
CPC分类号： B05D1/36 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/165 , G03F7/405 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612
摘要： A simple and practical method that can reduce the feature size of a patterned structure bearing surface hydroxyl groups is described. The patterned structure can be obtained by any patterning technologies, such as photo-lithography, e-beam lithography, nano-imprinting lithography. The method includes: (1) initially converting the hydroxyl or silanol-rich surface into an amine-rich surface with the treatment of an amine agent, preferably a cyclic compound; (2) coating an epoxy material on the top of the patterned structure; (3) forming an extra layer when applied heat via a surface-initiated polymerization; (4) applying an amine coupling agent to regenerate the amine-rich surface; (5) coating an epoxy material on the top of the patterned structure to form the next layer; (6) repeating step 4 and 5 to form multiple layers; This method allows the fabrication of feature sizes of various patterns and contact holes that are difficult to reach by conventional lithographic methods.
摘要翻译：描述了一种简单且实用的方法，其可以减小承载表面羟基的图案化结构的特征尺寸。图案化结构可以通过任何图案化技术获得，例如光刻，电子束光刻，纳米压印光刻。该方法包括：（1）通过处理胺试剂，优选环状化合物，将羟基或富含硅烷醇的表面初始转化成富胺表面; （2）在图案化结构的顶部涂布环氧树脂材料; （3）当通过表面引发的聚合反应加热时形成额外的层; （4）施加胺偶联剂以再生富胺表面; （5）在图案化结构的顶部涂布环氧材料以形成下一层; （6）重复步骤4和5以形成多个层; 该方法允许制造通过常规光刻方法难以达到的各种图案和接触孔的特征尺寸。

5. 发明申请

WO2009111121A3 SILSESQUIOXANE RESINS 审中-公开
标题翻译： SILSESQUIOXANE树脂
公开(公告)号：WO2009111121A3
公开(公告)日：2009-11-12
申请号：PCT/US2009032906
申请日：2009-02-03
申请人： DOW CORNING , FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT
发明人： FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT
IPC分类号： C08G77/38 , C08G77/04 , C08G77/08 , C08G77/18 , C08G77/20 , C08L83/04 , C08L83/06 , C09D183/04 , C09D183/06 , H01L21/027
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/04 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08G77/70 , G02B1/111 , G03F7/0752 , G03F7/091
摘要： This invention pertains to silsesquioxane resins useful in antireflective coatings wherein the silsesquioxane resin is comprised of the units (Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m (HSiO(3-x)/2(OR')x)n (MeSiO(3-x)/2(OR')x)o (RSiO(3-x)/2(OR')x)p (R1SiO(3-x)/2(OR')x)q where Ph is a phenyl group, Me is a methyl group; R' is hydrogen atom or a hydrocarbon group having from 1 to 4 carbon atoms; R is selected from a hydroxyl producing group; and R1 is selected from substituted phenyl groups, ester groups, polyether groups; mercapto groups, and reactive or curable organic functional groups; and r has a value of 0, 1, 2, 3, or 4; x has a value of 0, 1 or 2; wherein in the resin m has a value of 0 to 0.95; n has a value of 0.05 to 0.95; o has a value of 0.05 to 0.95; p has a value of 0.05 to 0.5; q has a value of 0 to 0.5; and m + n + o + p + q ~ 1.
摘要翻译：本发明涉及可用于抗反射涂料的倍半硅氧烷树脂，其中倍半硅氧烷树脂由单元（Ph（CH 2）r SiO（3-x）/ 2（OR'）x）m（HSiO（3-x）/ 2 '（x'）x（x）n（MeSiO（3-x）/ 2（OR'）x）o（RSiO（3-x）/ 2 其中Ph是苯基，Me是甲基; R'是氢原子或具有1至4个碳原子的烃基; R选自羟基生成基团; 并且R 1选自取代的苯基，酯基，聚醚基团; 巯基和反应性或可固化的有机官能团; 并且r的值为0,1,2,3或4; x的值为0,1或2; 其中，所述树脂m的值为0〜0.95; n的值为0.05〜0.95; o的值为0.05〜0.95; p的值为0.05〜0.5; q的值为0〜0.5; 和m + n + o + p + q〜1。

6. 发明申请

WO2006083284A3 A MATERIAL COMPOSITION FOR NANO- AND MICRO-LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：一种用于纳米和微米光刻的材料组合物
公开(公告)号：WO2006083284A3
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：PCT/US2005019340
申请日：2005-06-01
申请人： DOW CORNING , UNIV MICHIGAN , FU PENG-FEI , GUO LINGJIE JAY , CHENG XING
发明人： FU PENG-FEI , GUO LINGJIE JAY , CHENG XING
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/038 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0382 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/038 , G03F7/0755 , Y10T428/31612
摘要： A material composition, which is used as a liquid resist, includes a first component comprising a monomer portion and at least one cationically polymerizable functional group, and a crosslinker reactive with the first component and comprising at least three cationically polymerizable functional groups. The material composition also includes a cationic photoinitiator. Upon exposure to UV light, the material composition crosslinks via cure to form a cured resist film that is the reaction product of the first component, the crosslinker, and the cationic photoinitiator. An article includes a substrate layer and a resist layer formed on the substrate layer from the material composition.
摘要翻译：用作液体抗蚀剂的材料组合物包括包含单体部分和至少一种阳离子可聚合官能团的第一组分和与第一组分反应并包含至少三个可阳离子聚合的官能团的交联剂。该材料组合物还包括阳离子光引发剂。在暴露于紫外光下时，材料组合物通过固化交联以形成固化的抗蚀剂膜，其是第一组分，交联剂和阳离子光引发剂的反应产物。一种制品包括从该材料组合物形成在基底层上的基底层和抗蚀剂层。

7. 发明申请

WO2011011140A3 METHOD AND MATERIALS FOR DOUBLE PATTERNING 审中-公开
标题翻译：双重方式的方法和材料
公开(公告)号：WO2011011140A3
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：PCT/US2010039411
申请日：2010-06-22
申请人： DOW CORNING , FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT , SUHR JASON D
发明人： FU PENG-FEI , MOYER ERIC SCOTT , SUHR JASON D
IPC分类号： G03F7/20 , C09D183/06 , G03F7/075 , G03F7/36 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/3122 , C08G77/12 , C08G77/14 , C09D183/06 , G03F7/405 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/0337
摘要： A silsesquioxane resin is applied over the patterned photo-resist and cured at the pattern surface to produce a cured silsesquioxane resin on the pattern surface. The uncured silsesquioxane resin layer is then removed leaving the cured silsesquioxane resin on the pattern surface. The cured silsesquioxane resin on horizontal surfaces is removed to expose the underlying photo-resist. This photo-resist is removed leaving a pattern of cured silsesquioxane. Optionally, the new pattern can be transferred into the underlying layer(s).
摘要翻译：在图案化的光刻胶上施加倍半硅氧烷树脂，并在图案表面固化，在图案表面上产生固化的倍半硅氧烷树脂。然后除去未固化的倍半硅氧烷树脂层，留下固化的倍半硅氧烷树脂在图案表面上。去除水平表面上固化的倍半硅氧烷树脂以暴露下面的光致抗蚀剂。去除该光致抗蚀剂留下固化的倍半硅氧烷的图案。可选地，新图案可以被转移到下层中。

8. 发明申请

WO2006132672A3 A METHOD OF NANOPATTERNING, A CURED RESIST FILM USE THEREIN, AND AN ARTICLE INCLUDING THE RESIST FILM 审中-公开
标题翻译：纳米材料的方法，其固化膜的使用方法和包括耐腐蚀膜的文章
公开(公告)号：WO2006132672A3
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：PCT/US2005043278
申请日：2005-11-30
申请人： DOW CORNING , UNIV MICHIGAN , FU PENG-FEI , GUO LINGJIE JAY
发明人： FU PENG-FEI , GUO LINGJIE JAY
IPC分类号： G03F7/00 , C09D183/04 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0755 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0045 , G03F7/0757 , Y10T428/24802 , Y10T428/31663
摘要： A method of nanopatterning includes the steps of providing the resist film (12) and forming the pattern in the resist film (12). The resist film (12) includes an organosilicone compound having at least two vinyl groups, an organosilicone crosslinker different from the organosilicone compound, a catalyst, and a catalyst inhibitor. The cured resist film (12) includes the reaction product of the organosilicone compound having at least two vinyl groups and the organosilicone crosslinker different from the organosilicone compound, in the presence of the catalyst and the catalyst inhibitor. The article (10) includes a substrate (14), and the cured resist film (12) is disposed on the substrate (14). Due to the presence of the catalyst inhibitor in the resist film (12), the resist film (12) may be manipulated for hours at room temperature without curing. At the same time, the resist film (12) cures in a sufficiently short period of time to be commercially valuable.
摘要翻译：纳米图案的方法包括提供抗蚀剂膜（12）并在抗蚀剂膜（12）中形成图案的步骤。抗蚀膜（12）包括具有至少两个乙烯基的有机硅化合物，不同于有机硅酮化合物的有机硅氧烷交联剂，催化剂和催化剂抑制剂。固化的抗蚀剂膜（12）包括在催化剂和催化剂抑制剂的存在下，具有至少两个乙烯基的有机硅氧烷化合物和不同于有机硅氧烷化合物的有机硅氧烷交联剂的反应产物。制品（10）包括基板（14），并且固化的抗蚀剂膜（12）设置在基板（14）上。由于抗蚀剂膜（12）中存在催化剂抑制剂，所以抗蚀剂膜（12）可以在室温下操作数小时而不固化。同时，抗蚀剂膜（12）在足够短的时间内固化成商业价值。

9. 发明专利

BR112013018574A2 método para produção de poliolefinas funcionalizadas por silila e poliolefinas funcionalizadas por silila com incorporação de monômero de silila 未知
公开(公告)号：BR112013018574A2
公开(公告)日：2016-09-27
申请号：BR112013018574
申请日：2012-01-17
申请人： DOW CORNING , UNIV NORTHWESTERN
发明人： BUYL FRANÇOIS DE , BURNS GARY , FU PENG-FEI , MARKS TOBIN J , SMITS VALERIE
IPC分类号： C08F210/00 , C08F4/6592 , C08F210/02 , C08F210/06 , C08F230/08 , C08J5/12 , C08J9/04 , C09J5/02
摘要： método para produção de poliolefinas funcionalizadas por silila e poliolefinas funcionalizadas por silila com incorporação de monômero de silila a presente invenção refere-se a métodos para a produção de um poliolefina funcionalizada por silila com incorporação de monômero de silila. o método inclui reagir uma olefina contendo silício com uma -olefina, na presença de uma quantidade catalítica de um catalisador de grupo iv durante tempo suficiente para a produção de uma poliolefina funcionalizada por silila.

10. 发明专利

JP2014209241A ダブルパターニング方法及び材料审中-公开
标题翻译：双重方式的方法和材料
公开(公告)号：JP2014209241A
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：JP2014105978
申请日：2014-05-22
申请人：ダウコーニングコーポレーションDowcorning Corporation , Dow Corning Corp , ダウコーニングコーポレーションDow Corning Corporation
发明人： FU PENG-FEI , ERIC SCOTT MOYER , JASON D SUHR
IPC分类号： G03F7/40 , C08G77/20 , C08G77/38 , C08G77/46 , C08L83/10 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/3122 , C08G77/12 , C08G77/14 , C09D183/06 , G03F7/405 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/0337
摘要：【課題】シルセスキオキサン樹脂を含むコーティング組成物を用いた電子デバイス上のパターン形成方法の提供。【解決手段】(I)コーティング組成物を熱酸発生剤、光酸発生剤又はアミン架橋剤から選択される活性剤を含有する第1パターン形成材料の上に塗布するステップであって、コーティング組成物が、特定のシルセスキオキサン樹脂を含む、ステップと、(II)コーティング組成物を硬化機構に露光し、第1パターン材料の表面上に硬化コーティングを生成するステップと、(III)いずれの未硬化コーティング組成物も除去するステップと、(IV)硬化コーティングをいずれの水平表面からも除去し、第1パターン材料の側壁上に硬化コーティングをもたらすステップと、(V)第1パターン材料を除去し、これにより基板上に硬化コーティング組成物からなる第2パターンを生成するステップとを具える、基板上にパターンを形成する方法。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过使用含有倍半硅氧烷树脂的涂料组合物在电子设备上形成图案的方法。解决方案：在基材上形成图案的方法包括：施加涂料组合物的步骤（I）含有特定的倍半硅氧烷树脂到含有选自热酸产生剂，光酸产生剂和胺交联剂的活化剂的第一图案材料上; 将涂布组合物暴露于固化机构以在第一图案材料的表面上形成固化涂层的步骤（II）; 除去未固化的涂料组合物的步骤（III）; 从任何水平表面去除固化的涂层的步骤（IV），以使第一图案材料的侧壁上的固化涂层单独留下; 以及去除所述第一图案材料使得在所述基板上形成包含所述涂料组合物的第二图案的步骤（V）。

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