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1. 发明申请

WO1993012928A1 MAGNETIC RECORDING MEDIA EMPLOYING SOFT MAGNETIC MATERIAL 审中-公开
标题翻译：磁记录介质采用软磁材料
公开(公告)号：WO1993012928A1
公开(公告)日：1993-07-08
申请号：PCT/US1992010485
申请日：1992-12-07
申请人： CONNER PERIPHERALS, INC.
发明人： CONNER PERIPHERALS, INC. , REED, William, B. , HOLLARS, Dennis, R. , ZUBECK, Robert, B. , LEE, Hyung, J. , REYNEN, Frank, R. , WARD, Keith, A. , KLATT, Maureen, D. , POPE, Nancy A. , HARTMAN, Albert, L., W.
IPC分类号： B32B03/02
CPC分类号： G11B5/72 , G11B5/66 , G11B5/8408
摘要： A magnetic recording medium employing a thin layer of nonmagnetic material (22) separating a soft magnetic layer (18) and a relatively thicker magnetic recording layer (16) is disclosed. The magnetic recording medium may incorporate conventional magnetic recording materials with the thin nonmagnetic layer (22) being silicon, chromium or carbon. The magnetic recording medium may be prepared by sputtering or other vapor deposition methods. A method for preparing a magnetic recording medium according to the present invention deposits the magnetic recording layer (16) either directly on a substrate (12), or, optionally, on a nucleating layer (14). The thin nonmagnetic layer (22) separates the magnetic recording layer (16) from the soft magnetic layer (18). A protective layer (20) overlies the soft magnetic layer (18). The deposition is achieved under conditions that maintain integrity of the magnetic recording layer.
摘要翻译：公开了一种使用分离软磁性层（18）和相对较厚的磁记录层（16）的非磁性材料薄层（22）的磁记录介质。磁记录介质可以结合常规的磁记录材料，薄的非磁性层（22）是硅，铬或碳。磁记录介质可以通过溅射或其它气相沉积方法制备。根据本发明的制备磁记录介质的方法将磁记录层（16）直接沉积在基板（12）上，或任选地在成核层（14）上。薄非磁性层（22）将磁记录层（16）与软磁层（18）分离。保护层（20）覆盖软磁层（18）。在保持磁记录层的完整性的条件下实现沉积。

2. 发明申请

WO1992017621A1 APPARATUS AND METHOD FOR HIGH THROUGHPUT SPUTTERING 审中-公开
标题翻译：高速穿透飞溅的装置和方法
公开(公告)号：WO1992017621A1
公开(公告)日：1992-10-15
申请号：PCT/US1992000722
申请日：1992-01-29
申请人： CONNER PERIPHERALS, INC.
发明人： CONNER PERIPHERALS, INC. , HOLLARS, Dennis, R. , WALTRIP, Delbert, F. , BONIGUT, Josef , SMITH, Robert, M. , PAYNE, Gary, L. , ZUBECK, Robert, B.
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： H01L21/6776 , C23C14/02 , C23C14/028 , C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/352 , C23C14/50 , C23C14/54 , C23C14/541 , C23C14/568 , G05B19/052 , G05B19/4189 , G05B2219/31225 , G05B2219/31237 , G05B2219/32413 , G05B2219/34029 , G05B2219/34279 , G05B2219/34287 , G05B2219/34304 , G05B2219/50363 , G11B5/851 , H01J37/32733 , H01J37/3405 , H01L21/6715 , H01L21/67173 , H01L21/67207 , H01L21/67213 , H01L21/67236 , H01L21/67253 , H01L21/67259 , H01L21/67276 , H01L21/67712 , H01L21/67721 , Y02P80/114 , Y02P80/40 , Y02P90/18 , Y02P90/28
摘要： An apparatus provides a single or multi-layer coating to the surface of a plurality of substrates. The apparatus includes a plurality of buffer and sputtering chambers (12, 18, 20, 22A-E, 24A-C, 26 and 28-30), and an input end and an output end. The substrates are transported through said chambers (12, 18, 20, 22A-E, 24A-C, 26 and 28-30) at varying rates of speed. The apparatus may further include means for transporting a plurality of substrates through sputtering chambers (20, 26, 28) at variable velocities; means for reducing the ambient pressure within the sputtering chambers (20, 26, 28) to a vacuum level to enable sputtering operation; means for heating the substrates to a temperature conducive to sputtering coatings thereon providing a substantially uniform temperature profile over the surface of the substrates; and control means for providing control signals to and for receiving feedback input from, said sputtering chambers (20, 26, 28), means for transporting, means for reducing, and means for heating, the control means being programmable for allowing control over the means for sputtering, transporting, reducing and heating.
摘要翻译：一种装置向多个基板的表面提供单层或多层涂层。该装置包括多个缓冲和溅射室（12,18,20,22A-E，24A-C，26和28-30），以及输入端和输出端。基板以不同的速度传送通过所述腔室（12,18,20,22A-E，24A-C，26和28-30）。该装置还可以包括用于以可变速度输送多个基板通过溅射室（20,26,28）的装置; 用于将溅射室（20,26,28）内的环境压力降低到真空水平以实现溅射操作的装置; 用于将衬底加热到有助于溅射涂层的温度的装置，其在衬底的表面上提供基本均匀的温度分布; 以及控制装置，用于向所述溅射室（20,26,28）提供控制信号并从其接收反馈输入，用于传送装置，用于减小装置和加热装置，所述控制装置是可编程的，以允许控制装置用于溅射，运输，还原和加热。

3. 发明公开

EP0619776A1 MAGNETIC RECORDING MEDIA EMPLOYING SOFT MAGNETIC MATERIAL 失效
标题翻译：采用软磁材料的磁记录介质
公开(公告)号：EP0619776A1
公开(公告)日：1994-10-19
申请号：EP93900873.0
申请日：1992-12-07
申请人： CONNER PERIPHERALS, INC.
发明人： REED, William, B. , HOLLARS, Dennis, R. , ZUBECK, Robert, B. , LEE, Hyung, J. , REYNEN, Frank, R. , WARD, Keith, A. , KLATT, Maureen, D. , POPE, Nancy A. , HARTMAN, Albert, L., W.
IPC分类号： C23C14 , C22C19 , G11B5 , H01F1 , H01F10
CPC分类号： G11B5/72 , G11B5/66 , G11B5/8408
摘要： On décrit un support d'enregistrement magnétique comportant une couche mince de matériau non magnétique (22) séparant une couche magnétique douce (18) et une couche d'enregistrement magnétique relativement plus épaisse (16). Le support d'enregistrement magnétique peut comporter des matériaux d'enregistrement magnétiques conventionnels associés à la couche mince non magnétique (22) en silicium, chrome ou carbone. Le support d'enregistrement magnétique peut être préparé par pulvérisation cathodique ou autres procédés de dépôt en phase vapeur. Un procédé de préparation d'un support d'enregistrement magnétique, selon la présente invention, propose de déposer la couche (16) d'enregistrement magnétique soit directement sur un substrat (12), soit, éventuellement, sur une couche de nucléation (16). La couche non magnétique mince (22) sépare la couche d'enregistrement magnétique (16) de la couche magnétique douce (18). Le dépôt est réalisé dans des conditions qui maintiennent l'intégrité de la couche d'enregistrement magnétique.
摘要翻译：公开了一种具有分离软磁层（18）和相对较厚的磁记录层（16）的非磁性材料薄层（22）的磁记录介质。磁记录介质可以包括与硅，铬或碳的非磁性薄膜（22）相关联的常规磁记录材料。磁记录介质可以通过溅射或其他气相沉积方法来制备。根据本发明制备磁记录介质的方法提出将磁记录层（16）直接沉积在基底（12）上或者任选地沉积在成核层（16）上。）。薄的非磁性层（22）将磁记录层（16）与软磁层（18）分开。在维持磁记录层的完整性的条件下进行沉积。

4. 发明公开

EP0577766A1 APPARATUS AND METHOD FOR HIGH THROUGHPUT SPUTTERING 失效
标题翻译：方法和装置溅射在高速。
公开(公告)号：EP0577766A1
公开(公告)日：1994-01-12
申请号：EP92910849.0
申请日：1992-01-29
申请人： CONNER PERIPHERALS, INC.
发明人： HOLLARS, Dennis, R. , WALTRIP, Delbert, F. , BONIGUT, Josef , SMITH, Robert, M. , PAYNE, Gary, L. , ZUBECK, Robert, B.
IPC分类号： C23C14 , G05B19 , G11B5 , H01L21
CPC分类号： H01L21/6776 , C23C14/02 , C23C14/028 , C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/352 , C23C14/50 , C23C14/54 , C23C14/541 , C23C14/568 , G05B19/052 , G05B19/4189 , G05B2219/31225 , G05B2219/31237 , G05B2219/32413 , G05B2219/34029 , G05B2219/34279 , G05B2219/34287 , G05B2219/34304 , G05B2219/50363 , G11B5/851 , H01J37/32733 , H01J37/3405 , H01L21/6715 , H01L21/67173 , H01L21/67207 , H01L21/67213 , H01L21/67236 , H01L21/67253 , H01L21/67259 , H01L21/67276 , H01L21/67712 , H01L21/67721 , Y02P80/114 , Y02P80/40 , Y02P90/18 , Y02P90/28
摘要： Un appareil permet d'effectuer un revêtement mono- ou multi-couche sur la surface d'une pluralité de susbstrats. Cet appareil comporte une pluralité de chambres intermédiaires et de pulvérisations (12, 18, 20, 22A-E, 24A-C, 26 et 28-30), ainsi qu'une extrémité d'entrée et une extrémité de sortie. Les substrats sont transportés à travers lesdites chambres (12, 18, 20, 22A-E, 24A-C, 26 et 28-30) à des vitesses variables. L'appareil peut également comporter des moyens pour transporter une pluralité de substrats à travers des chambres de pulvérisation (20, 26, 28) à des vitesses variables; des moyens pour réduire la pression ambiante à l'intérieur des chambres de pulvérisation (20, 26, 28) à un niveau de vide permettant l'opération de pulvérisation cathodique; des moyens pour chauffer les substrats à une température permettant la pulvérisation du revêtement sur ceux-ci, assurant une courbe de température sensiblement uniforme sur la surface des susbstrats; et des moyens de commande pour fournir des signaux de commande à destination de et pour recevoir des signaux d'entrée en retour en provenance desdites chambres de pulvérisation (20, 26, 28), desdits moyens de transport, desdits moyens de réduction et desdits moyens de chauffage, ces moyens de commande étant programmables pour permettre la commande des moyens de pulvérisation, transport, réduction et chauffage.

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