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1. 发明申请

WO2011006685A1 MIKROSPIEGELANORDNUNG MIT BESCHICHTUNG SOWIE VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：根据上述制造涂层和方法微镜片布置
公开(公告)号：WO2011006685A1
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：PCT/EP2010/054426
申请日：2010-04-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , LOERCHER, Roland , PAZIDIS, Alexandra
发明人： WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , LOERCHER, Roland , PAZIDIS, Alexandra
IPC分类号： G02B5/22 , G02B26/08 , G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G03F7/70291 , G03F7/70316 , G03F7/70941 , G03F7/70958
摘要： Die Erfindung betrifft eine Mikrospiegelanordnung (1), umfassend: mindestens einen Mikrospiegel (3) mit einer reflektierenden Oberfläche (11), die an einem Spiegelsubstrat (2) gebildet ist, sowie eine Anti-Reflexbeschichtung (7), die an dem Spiegelsubstrat (2) außerhalb der reflektierenden Oberfläche (11) gebildet ist. Eine reflektierende Beschichtung (8) ist innerhalb der reflektierenden Oberfläche (11) gebildet und weist wenigstens zwei Schichtteilsysteme auf, wobei das erste Schichtteilsystem Schichten (8e, 8f) aus einer periodischen Abfolge alternierender hoch und niedrig brechender Schichten aus einem nicht-metallischen Material aufweist und bezüglich einer Nutzwellenlänge der Mikrospiegelanordnung im Hinblick auf die Reflektivität optimiert ist und wobei das zweite Schichtteilsystem bezüglich einer von der Nutzwellenlänge abweichenden Messwellenlänge der Mikrospiegelanordnung im Hinblick auf die Reflektivität optimiert ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung, wobei die Beschichtung eine reflektierende Beschichtung (8) und eine Anti-Reflexbeschichtung (7) umfasst. Die Anti-Reflexbeschichtung (7) kann hierbei insbesondere zur Kompensation der Schichtspannung einer reflektierenden Beschichtung (8) dienen.
摘要翻译：本发明涉及一种微镜装置（1），包括：（3）具有形成在镜基板（2）上的反射表面（11）的至少一个微反射镜形成，且抗反射涂层（7），该（到镜基板2 ）的所述反射表面（11外侧形成）。反射涂层（8）的反射表面（11）的内部形成，并且具有至少两个层部分系统，其中，所述第一层子系统（8F 8E）具有交替的由非金属材料制成的高和低折射率层的周期序列的层，并且相对于优化的微反射镜装置的使用波长相对于反射率，并且其中所述第二层子系统相对于从微反射镜装置的相对于该反射率的测定波长不同的使用的波长进行优化。本发明还涉及一种用于制备涂层，其中该涂层包括一反射涂层（8）和抗反射涂层（7）的方法。抗反射涂层（7），在这里特别被用于补偿的反射涂层（8）的膜应力。

2. 发明申请

WO2016086983A1 OPTISCHE ANORDNUNG MIT EINEM WÄRMELEITENDEN BAUELEMENT 审中-公开
标题翻译：与热传导部件光学装置
公开(公告)号：WO2016086983A1
公开(公告)日：2016-06-09
申请号：PCT/EP2014/076366
申请日：2014-12-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KALLER, Julian , SORG, Franz , WINTER, Ralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B7/028 , G02B7/181 , G02B7/1815 , G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, umfassend: ein für Strahlung bei einer Nutzwellenlänge transmissives oder reflektives optisches Element (1) mit einem optisch genutzten Bereich (4), sowie ein wärmeleitendes Bauelement (6), welches außerhalb des optisch genutzten Bereichs (4) des optischen Elements (1) angeordnet ist, wobei das wärmeleitende Bauelement (6) ein Material mit einer Wärmeleitfähigkeit von mehr als 500 W m -1 K -1 aufweist und/oder wobei für das Produkt aus der Dicke (D) des wärmeleitenden Bauelements (6) in Millimetern und der Wärmeleitfähigkeit (λ) des Materials des wärmeleitenden Bauelements (6) gilt: D λ > 1 W mm m -1 K -1 , bevorzugt D λ > 10 W mm m -1 K -1 , insbesondere D λ > 50 W mm m -1 K -1 . Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung mit einer Einrichtung zur Positionierung eines lichtempfindlichen Substrats, wobei das wärmeleitende Bauelement (6) an der Einrichtung, insbesondere an einer Oberseite der Einrichtung, angebracht ist.
摘要翻译：本发明涉及一种光学装置，特别是投射曝光系统用于微光刻的，包括：用于辐射透射或反射在使用波长的光学元件（1）具有光学使用区域（4），和热传导部件（6），其光学地外的使用区域（4）的光学元件（1）布置，其中，所述导热部件（6）包括具有导热性的材料的大于500瓦M-1 K-1和/或其中，所述厚度的乘积（D ）的热传导装置的材料的导热部件（6）（在毫米且热导率λ）的（6）适用：Dλ> 1宽mm M-1 K-1和优选D-λ> 10宽mm米-1·K 如图1所示，特别是D-λ> 50瓦间1毫米K-1。本发明还涉及一种包括用于定位感光性基板装置的光学布置，所述导热部件（6）被附连到该装置，特别是在装置的上表面上。

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