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1. 发明申请

WO2012013751A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013751A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/063002
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light. The lens further comprises support means for passively or actively supporting at least one optical element which is controlled to a temperature by a first tempering means. The support means comprising a temperature sensitive element, wherein the temperature sensitive element is controlled to a constant or to a predefined temperature by a second tempering element which is arranged between the temperature sensitive element and the first tempering element.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV灯的曝光强度。透镜还包括用于被动或主动地支撑由第一回火装置控制到温度的至少一个光学元件的支撑装置。所述支撑装置包括温度敏感元件，其中所述温度敏感元件通过布置在所述温度敏感元件和所述第一回火元件之间的第二回火元件被控制到恒定或预定温度。

2. 发明申请

WO2014154229A1 MICROLITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF VARYING A LIGHT IRRADIANCE DISTRIBUTION 审中-公开
标题翻译：微光学设备和改变光线辐射分布的方法
公开(公告)号：WO2014154229A1
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：PCT/EP2013/000952
申请日：2013-03-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WALTER, Holger , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/58
CPC分类号： G03F7/70883 , G02B27/58 , G03F7/70091 , G03F7/70266 , G03F7/70308
摘要： A microlithographic apparatus (10) comprises an objective (20) that comprises a transmission filter (42) that is configured to variably modify a light irradiance distribution in a projection light path. The transmission filter (42) comprises a plurality of gas outlet apertures (44, 144) that are configured to emit gas flows (72, 172) that pass through a space (55) through which projection light (PL) propagates during operation of the microlithographic apparatus (10). The transmission filter (42) further comprises a control unit (48) which is configured to vary a number density of ozone molecules in the gas flows (72, 172) individually for each gas flow. In this manner it is possible to finally adjust the transmittance distribution (TD42) of the transmission filter (42).
摘要翻译：微光刻设备（10）包括物镜（20），其包括被配置为可变地修改投影光路中的光照度分布的透射滤光器（42）。传输过滤器（42）包括多个气体出口孔（44,144），其被配置成发射通过空间（55）的气流（72,172），在空间（55）中，投影光（PL）在操作期间传播通过该空间微光刻设备（10）。透射过滤器（42）还包括控制单元（48），其被配置为针对每个气体流量分别改变气体流（72,172）中的臭氧分子的数量密度。以这种方式，可以最终调整透射过滤器（42）的透射率分布（TD42）。

3. 发明申请

WO2017050565A1 OPTISCHE KORREKTURANORDNUNG, PROJEKTIONSOBJEKTIV MIT EINER SOLCHEN OPTISCHEN KORREKTURANORDNUNG SOWIE MIKROLITHOGRAFISCHE APPARATUR MIT EINEM SOLCHEN PROJEKTIONSOBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光学矫正安排，与该光学矫正布置和微光刻设备这样的投影镜头投影镜头
公开(公告)号：WO2017050565A1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：PCT/EP2016/070981
申请日：2016-09-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WALTER, Holger
IPC分类号： G02B26/06 , G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G02B26/0875 , G02B3/0081 , G02B3/04 , G02B26/06 , G02B27/0068 , G03F7/7015 , G03F7/70191 , G03F7/70308
摘要： Optische Korrekturanordnung, mit einer ersten und einer zweiten Korrekturkomponente (12, 13, 14), die entlang einer optischen Achse (16) hintereinander angeordnet sind, wobei die erste und die zweite Korrekturkomponente (12, 13, 14) mit asphärischen Oberflächenkonturen (18, 20) versehen sind, die sich in einer Nulllage der optischen Korrekturanordnung (10a, 10b, 10c) zumindest näherungsweise insgesamt zu null addieren, einem Manipulator zum Verfahren der ersten Korrekturkomponente (12) in einer ersten Richtung (22) mit einer ersten Geschwindigkeit und zum Verfahren der zweiten Korrekturkomponente (14) in einer zweiten Richtung (24) mit einer zweiten Geschwindigkeit, wobei die erste Geschwindigkeit höher als die zweite Geschwindigkeit ist.
摘要翻译：光学校正装置，包括沿光轴（16）设置在第一和第二校正部件（12，13，14）被布置成一个在另一个后面，其中所述第一和第二校正部件（12，13，14）（非球面轮廓18， 20）设置，其（在校正光学装置10A，10B，10C的零的位置），至少近似地以第一速度共添加到零，一个操纵器（在第一方向（22）的第一校正部件12）的方法和第二校正部件（14）的方法，其中，所述第一速度是在以第二速度的第二方向（24），比所述第二速度高。

4. 发明申请

WO2012041744A1 ARRANGEMENT FOR MIRROR TEMPERATURE MEASUREMENT AND/OR THERMAL ACTUATION OF A MIRROR IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：在微波投影曝光装置中的镜子的温度测量和/或热致动装置的布置
公开(公告)号：WO2012041744A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/066415
申请日：2011-09-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HAUF, Markus , BAER, Norman , WALTER, Holger , HARTJES, Joachim
发明人： HAUF, Markus , BAER, Norman , WALTER, Holger , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
CPC分类号： G03F7/70058 , G01J5/02 , G02B7/181 , G02B7/1815 , G03F7/70266 , G03F7/70891
摘要： The invention concerns an arrangement for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the mirror (101, 301, 401, 701, 801, 901) has an optical effective surface (101a, 301a, 401a, 701a, 801a, 901a) and at least one access passage (110, 310, 410, 710, 711, 712, 810, 811, 812, 910) extending from a surface of the mirror, that does not correspond to the optical effective surface, in the direction of said effective surface, wherein the arrangement is designed for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of the mirror (101, 301, 401, 701, 801, 901) by means of electromagnetic radiation which is propagated along the access passage (110, 310, 410, 710, 711, 712, 810, 811, 812, 910, 910'), and wherein the electromagnetic radiation is reflected a plurality of times within the access passage (110, 310, 410, 710, 711, 712, 810, 811, 812, 910)
摘要翻译：本发明涉及一种用于在微光刻投影曝光装置中的反射镜的镜温度测量和/或热致动的装置，其中反射镜（101,301,401,701,801,901）具有光学有效表面（101a，301a， 401a，701a，801a，901a）以及从反射镜的表面延伸的至少一个进入通道（110,310,410,710,711,712,810,811,812,910），其不对应于光学在所述有效表面的方向上的有效表面，其中所述布置被设计用于通过沿着所述有效表面传播的电磁辐射来镜像反射镜（101,301,401,701,801,901）的反射镜温度测量和/或热致动所述通道（110,310,410,710,711,712,810,811,812,910,910'），并且其中所述电磁辐射在所述通路 710,711,712,810,811,812,910）

5. 发明申请

WO2012013748A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013748A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062997
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein at least one reflective optical element comprises a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature, and wherein the body of the optical element is semitransparent to IR radiation. Further, the body comprises a coating on or on almost its entire surface, wherein the coating reflects IR radiation inside the body.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV光的曝光功率，其中至少一个反射光学元件包括在零交叉温度下具有温度依赖的热膨胀系数为零的材料，并且其中所述光学元件的主体与IR辐射半透明。此外，主体包括在其整个表面上或之上的涂层，其中涂层反射体内的IR辐射。

6. 发明申请

WO2013113336A1 METHOD OF OPERATING A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND PROJECTION OBJECTIVE OF SUCH AN APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的操作方法和这种装置的投影目的
公开(公告)号：WO2013113336A1
公开(公告)日：2013-08-08
申请号：PCT/EP2012/000508
申请日：2012-02-04
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WALTER, Holger , BITTNER, Boris
发明人： WALTER, Holger , BITTNER, Boris
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B7/028 , G02B27/0068 , G03F7/70266 , G03F7/70308
摘要： A projection objective of a microlithographic projection ex- posure apparatus (10) has a wavefront correction device (42) comprising a first refractive optical element (44) and a sec¬ ond refractive optical element (54). The first refractive op- tical element comprises a first optical material having, for an operating wavelength of the apparatus, an index of refrac- tion that decreases with increasing temperature. The second refractive optical element comprises a second optical mate¬ rial having, for an operating wavelength of the apparatus, an index of refraction that increases with increasing tempera- ture. In a correction mode of the correction device (42), a first heating device (46; 146) produces a non-uniform and variable first temperature distribution in the first optical material, and a second heating device (56; 156) produces a non-uniform and variable second temperature distribution in the second optical material.
摘要翻译：微光刻投影实现装置（10）的投影物镜具有包括第一折射光学元件（44）和第二折射光学元件（54）的波前校正装置（42）。第一折射光学元件包括第一光学材料，对于装置的工作波长，具有随着温度升高而降低的反射指数的第一光学材料。第二折射光学元件包括第二光学材料，对于设备的工作波长，其随着温度升高而增加的折射率。在校正装置（42）的校正模式中，第一加热装置（46; 146）在第一光学材料中产生不均匀且可变的第一温度分布，第二加热装置（56; 156）在第二光学材料中均匀且可变的第二温度分布。

7. 发明申请

WO2012013747A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013747A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062996
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system with at least two reflective optical elements each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein the bodies of at least two reflective optical elements comprise a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at respective zero cross temperatures, and wherein the absolute value of the difference between the zero cross temperatures is more than 6K.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，其具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件均包括主体和反射表面，用于在掩模版上将物场投射到基板上的图像场上，如果投影透镜曝光 EUV光的功率，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在相应的零交叉温度下为零，并且其中零交叉温度之间的差的绝对值更多超过6K。

8. 发明申请

WO2012013746A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013746A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062995
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A mirror comprising a body and a reflective surface, the body comprising a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature T 0k- Further, at least a part of the surface of the body comprises a wire grid for electrically resistive heating of the body and the mirror is adapted for a projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light.
摘要翻译：一种包括主体和反射表面的反射镜，所述主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在零交叉温度T0k为零。此外，主体的表面的至少一部分包括用于本体和反射镜的电阻加热适用于EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，用于将掩模版上的物场投影到基板上的图像场上，如果投影透镜以曝光量曝光 EUV灯。

9. 发明申请

WO2011116792A1 OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND WAVERFRONT CORRECTION METHOD 审中-公开
标题翻译：光学系统，曝光装置和水平校正方法
公开(公告)号：WO2011116792A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：PCT/EP2010/001900
申请日：2010-03-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , EXLER, Matthias , LÖRING, Ulrich , GRUNER, Toralf , WALTER, Holger
发明人： EXLER, Matthias , LÖRING, Ulrich , GRUNER, Toralf , WALTER, Holger
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70266 , G03F7/70341
摘要： An optical system (20) of a microlithographic projection exposure apparatus includes a wavefront correction device (26) which has a plurality of fluid outlet apertures (44). The apertures are arranged such that fluid flows (48, 50) emerging from the outlet apertures (44) enter a space through which projection light propagates during operation of the apparatus (10). A temperature controller (60) sets the temperature of the fluid flows (48, 50) individually for each fluid flow. The temperature distribution is determined such that optical path length differences caused by the temperature distribution correct wavefront deformations.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置的光学系统（20）包括具有多个流体出口孔（44）的波前校正装置（26）。这些孔布置成使得从出口孔44出来的流体流动（48,50）进入投影光在装置（10）的操作期间传播的空间。温度控制器（60）针对每个流体流分别设定流体流（48,50）的温度。确定温度分布，使得由温度分布导致的光程长度差校正波前变形。

10. 发明公开

EP2329321A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH OPTIMIZED ADJUSTMENT POSSIBILITY 有权
标题翻译：麻省理工学院麻省理工学院优质学士JUSTIERUNG PROJEKTIONSBELICHTUNGSVORRICHTUNG MIT DERMÖGLICHKEITOPTIMIERTER JUSTIERUNG
公开(公告)号：EP2329321A1
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：EP09783195.2
申请日：2009-09-18
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： BITTNER, Boris , WALTER, Holger , RÖSCH, Matthias
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： A projection apparatus for microlithography for imaging an object field includes an objective, one or a plurality of manipulators for manipulating one or a plurality of optical elements of the objective, a control unit for regulating or controlling the one or the plurality of manipulators, a determining device for determining at least one or a plurality of image aberrations of the objective, a memory comprising upper bounds for one or a plurality of specifications of the objective, including upper bounds for image aberrations and/or movements for the manipulators, wherein when determining an overshooting of one of the upper bounds by one of the image aberrations and/or an overshooting of one of the upper bounds by one of the manipulator movements by regulation or control of at least one manipulator within at most 30000 ms, or 10000 ms, or 5000 ms, or 1000 ms, or 200 ms, or 20 ms, or 5 ms, or 1 ms, an undershooting of the upper bounds can be effected.
摘要翻译：用于对物场进行成像的微光刻投影装置包括物镜，用于操纵物镜的一个或多个光学元件的一个或多个操纵器，用于调节或控制一个或多个操纵器的控制单元，用于确定所述物镜的至少一个或多个像差的装置，包括所述物镜的一个或多个规格的上限的存储器，包括用于所述机械手的图像像差和/或移动的上限，其中当确定或者通过在至少30000ms或10000ms内对至少一个操纵器进行调节或控制，通过其中一个操纵器移动来超图像中的一个图像像差中的一个上限和/或上限之一，或 5000ms或1000ms，或200ms，或20ms，或5ms或1ms，可以实现上限的下冲。

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