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1. 发明申请

WO2016184743A1 PUPIL FACET MIRROR 审中-公开
公开(公告)号：WO2016184743A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/EP2016/060535
申请日：2016-05-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FISCHER, Thomas
IPC分类号： G02B5/09 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/09 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： It is an object of the present invention to improve a pupil facet mirror for an illumination optical unit of a projection exposure apparatus. The essence of the invention is to form the pupil facet mirror (20) with pupil facets (29) of different sizes. The pupil facets (29) may in particular also have different forms. At least a subset of the pupil facets may have an irregular form. They have in particular side edges of different lengths. They may in particular have the form of an irregular polygon.
摘要翻译：本发明的目的是改进投影曝光装置的照明光学单元的光瞳面反射镜。本发明的本质是形成具有不同尺寸的光瞳面（29）的瞳孔面镜（20）。瞳孔面（29）也可以具有不同的形式。瞳孔面的至少一个子集可以具有不规则形式。它们特别是具有不同长度的侧边缘。它们可能具有不规则多边形的形式。

2. 发明申请

WO2016184708A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统的EUV投影光刻
公开(公告)号：WO2016184708A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/EP2016/060284
申请日：2016-05-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MÜLLER, Matthias , FISCHER, Thomas , SEITZ, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B19/0023 , G02B19/0095 , G02B26/0816 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70941 , G21K2201/065
摘要： Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie dient zur Beleuchtung eines Objektfeldes mit Beleuchtungslicht. Die Beleuchtungsoptik hat einen ersten Facettenspiegel mit einer Mehrzahl von ersten Facetten auf einem ersten Spiegelträger, die zwischen mehreren Kippstellungen umstellbar sind. Dem ersten Facettenspiegel nachgeordnet ist ein zweiter Facettenspiegel (10) mit einer Mehrzahl von zweiten Facetten (11), die auf einem zweiten Spiegelträger (10a) um ein Facetten-Anordnungszentrum (12) angeordnet sind. Teilbündel des Beleuchtungslichts werden jeweils über Ausleuchtungskanäle, zu denen eine der ersten Facetten und eine der zweiten Facetten (11) gehört, einander überlagernd in das Objektfeld geführt. Am zweiten Spiegelträger (10a) sind randseitig zweite Maximalwinkel-Facetten (11 M ) angeordnet. Letztere geben maximal von einer Hauptstrahl-Inzidenzauf dem Objektfeld abweichende, maximale Beleuchtungswinkel des Beleuchtungslichts vor. Der zweite Spiegelträger (10a) hat einen Beleuchtungslicht-Fallenabschnitt (29), dessen Abstand zum Facetten-Anordnungszentrum (12) größer ist als ein Abstand der zweiten Maximalwinkel-Facetten (11 M ) zum Facetten-Anordnungszentrum (12). Bei einem weiteren Aspekt ist der Abstand des Beleuchtungslicht-Fallenabschnitts zum Facetten-Anordnungszentrum (12) höchstens so groß wie ein Abstand der Maximalwinkel-Facetten (1 M ) zum Facetten-Anordnungszentrum (12) und der Beleuchtungslicht-Fallenabschnitt ist zum Abführen von Wärmeenergie thermisch an einen Fallen-Kühlkörper angekoppelt. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der eine Störlichtunterdrückung ohne unerwünschte thermische beziehungsweise optische Auswirkungen möglich ist.
摘要翻译：用于EUV投影光刻的照明光学部件，用于利用照明光照明物场。该照明光学部件具有上的第一反射镜支撑的多个第一小平面的，其具有多个倾斜位置之间可切换的第一面反射镜。第一面反射镜的下游是具有多个形成的第二反射镜支架（10A）上的第二小平面（11）的第二面反射镜（10）被布置成围绕一小平面阵列中心（12）。的照明光的子光束经由与所述第一面和第二面（11）中的一个属于照明通道，每个通道被引导，在物场彼此重叠。上的边缘侧的第二反射镜支架（10A）的第二最大角度刻面（11M）被布置。后者提供最大的主光束Inzidenzauf物场之前偏离的照明光的最大照明角度。第二反射镜座（10A）具有照明光情况下的部分（29），其距离与小面阵列中心（12）比所述第二最大角度刻面（11M），用于小面阵列中心（12）之间的距离大。在另一个方面，一种用于小面阵列中心（12）的照明光情况下的部分的距离至多为最大角度刻面（1M），用于小面阵列中心的距离（12）和照明光诱捕部分一样大是热为热能耗散到一个陷阱散热器耦合。结果是具有眩光校正的照明光学部件没有不希望的热或光的影响是可能的。

3. 发明申请

WO2014075902A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于EUV投影算术的照明光学单元
公开(公告)号：WO2014075902A1
公开(公告)日：2014-05-22
申请号：PCT/EP2013/072496
申请日：2013-10-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FISCHER, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B19/0023 , G02B19/0095 , G02B26/0816 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： An illumination optical unit for EUV projection lithography has a first facet mirror and a second facet mirror, each with a plurality of reflecting facets on a support. The facets of the first facet mirror can be switched between various tilt positions.In each tilt position, the tiltable first facet is assigned to a second facet (11) of the second facet mirror (11) for deflecting EUV radiation in the direction of this second facet (11). Each of the first facets (7) is assigned to a set (AAA, aaa...) of second facets (11) by its tilt positions. The two facet mirrors are arranged in such a way that an arrangement distribution of second facets (11), impinged upon by means of the first facets (7), results in an illumination-angle distribution of an illumination of an illumination field. The second facets (11) belonging to each of the sets (YYYY) of second facets (11) lie within a circle (28) on the second facet mirror (10), the diameter of which circle is less than 70% of an overall diameter (GD) of an overall arrangement of all second facets (11) on the second facet mirror (10). This results in an illumination optical unit, in which a change between various prescribed illumination settings is possible with little outlay.
摘要翻译：用于EUV投影光刻的照明光学单元具有第一刻面镜和第二刻面镜，每个具有在支撑件上的多个反射刻面。第一分面反射镜的刻面可以在各种倾斜位置之间切换。在每个倾斜位置中，可倾斜的第一刻面被分配给第二分面反射镜（11）的第二刻面（11），用于沿着该方向偏转EUV辐射第二面（11）。通过其倾斜位置，将第一面（7）中的每一个分配给第二面（11）的组（AAA，aaa ...）。两个面反射镜被布置成使得通过第一小面（7）入射的第二面（11）的布置分布导致照明场的照明的照明角度分布。属于第二面（11）的各组（YYYY）的第二面（11）位于第二分面反射镜（10）上的圆（28）内，圆的直径小于整体的70％在第二面反射镜（10）上的所有第二面（11）的整体布置的直径（GD）。这导致照明光学单元，其中可以以很少的费用在各种规定的照明设置之间进行改变。

4. 发明申请

WO2022043226A1 PUPIL FACET MIRROR FOR AN ILLUMINATION OPTICAL UNIT OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022043226A1
公开(公告)日：2022-03-03
申请号：PCT/EP2021/073181
申请日：2021-08-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WINKLER, Alexander , ENDRES, Martin , PATRA, Michael , RAMOLLA, Michael , ISAAC, Annie , FISCHER, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
摘要： A pupil facet mirror is a constituent part of an illumination optical unit of a projection exposure apparatus which, in addition to the pupil facet mirror, comprises a field facet mirror with a plurality of switchable field facets (20). An illumination channel (25) is specified by way of one respective field facet (21) of the field facet mirror and one respective pupil facet (23) of the pupil facet mirror. Images (26) of the field facets (21) are imaged in overlaid fashion into an object field via the pupil facet (23). Tiltable pupil facets (23) interact with a tilt actuator system (27) of the pupil facet mirror. The latter has a coarse actuator system mode of operation (28) for specifying a coarse tilt angle and a fine actuator system mode of operation (29) for specifying a fine tilt angle of the tiltable pupil facet (23), which can be used for the illumination channel assignment and for specifying a relative position of the field facet image (26) of the illumination channel (25) of the tiltable pupil facet (23) relative to the object field. This results in a pupil facet mirror, the use of which in the illumination optical unit leads to increased flexibility of use thereof and, in particular, facilitates the observation of exacting illumination parameter specifications of the projection exposure apparatus.

5. 发明申请

WO2016188810A1 PUPIL FACET MIRROR 审中-公开
公开(公告)号：WO2016188810A1
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：PCT/EP2016/061092
申请日：2016-05-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： GEHRKE, Ralf , FISCHER, Thomas , ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B5/09 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/702
摘要： A pupil facet mirror (10) comprises facets (11) having different radii of curvature.
摘要翻译：瞳孔面反射镜（10）包括具有不同曲率半径的小平面（11）。

6. 发明申请

WO2016177599A1 FACETTENSPIEGEL FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE SOWIE BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM DERARTIGEN FACETTENSPIEGEL 审中-公开
标题翻译：面反射镜的用于EUV投影光刻和照明光学系统这样的镜面
公开(公告)号：WO2016177599A1
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：PCT/EP2016/059219
申请日：2016-04-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FISCHER, Thomas , WUNDERLICH, Sarina
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08 , G02B5/08 , G02B5/09
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70116 , G03F7/70825 , G03F7/70833
摘要： Ein Facettenspiegel für die EUV-Projektionslithografie hat eine Mehrzahl von Facetten (25) zur Reflexion von EUV-Beleuchtungslicht. Mindestens einige der Facetten (25) sind als Ausricht-Facetten ausgeführt und haben eine Reflexionsfläche (32), deren Randkontur (33) längs zweier Ausrichtungskoordinaten (x, y) einer Facetten-Gesamtanordnung ausgerichtet ist. Die Reflexionsfläche (32) mindestens einer der Ausricht-Facetten (25) hat eine Flächenform,die unterschiedliche Krümmungen längs zweier Krümmungsachsen (x', y') aufweist, wobei diese Krümmungsachsen (x', y') gegenüber den Ausrichtungskoordinaten (x, y) der Facetten-Gesamtanordnung um einen endlichen Achsen-Kippwinkel (α, β) verkippt sind. Es resultiert ein Facettenspiegel, dessen EUV-Durchsatz insbesondere bei einem längeren Betrieb einer hiermit ausgerüsteten Projektionsbelichtungsanlage erhöht ist.
摘要翻译：甲分面镜具有反射EUV照明光的多个刻面（25）EUV投影光刻。至少一些所述刻面（25）被设计成对准刻面和反射面（32）的，边缘轮廓（33）沿一个面整体组件的两个方向坐标（x，y）被排列。反射表面（32）的对准面中的至少一个（25）具有一个表面的形状，沿着两个曲率轴线不同的曲率（X“ Y‘），所述弯曲轴线（X’，Y”）相对于所述取向坐标（X，Y 小面布局（由有限轴倾斜角度αβ的），）倾斜。其结果是一个分面镜，所述EUV吞吐量与其配的投射曝光设备的长时间运行特别是增加的。

7. 发明申请

WO2016128253A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAFIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统的EUV投影光刻
公开(公告)号：WO2016128253A1
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：PCT/EP2016/052168
申请日：2016-02-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WINKLER, Alexander , LENZ, Daniel , FISCHER, Thomas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70166 , G02B19/0023 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G21K1/067
摘要： Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie hat einen Feldfacettenspiegel und einen Pupillenfacettenspiegel. Über jeweils einen Ausleuchtungskanal ist ein jeweiliges Nutz-Beleuchtungslicht-Teilbündel (16i) zwischen einer Lichtquelle und einem Objektfeld über genau eine Feldfacette und genau eine Pupillenfacette (29) geführt. Zumindest einige Pupillenfacetten (29), die als Korrektur-Pupillenfacetten einsetzbar sind, sind so im Strahlengang des sie beaufschlagenden Beleuchtungslicht-Teilbündels (16 i ) angeordnet, dass ein Bild der Lichtquelle an einem Bildort entsteht, der längs des Ausleuchtungskanals (16 i ) beabstandet zur Pupillenfacette (29) liegt. Eine Korrektur-Steuerungseinrichtung (32) zur gesteuerten Verlagerung zumindest einiger als Korrektur-Feldfacetten einsetzbarer Feldfacetten, die mit der Verlagerungs-Aktoren (31) in Signalverbindung stehen, ist so ausgeführt, dass ein Korrektur-Verlagerungsweg für die Korrektur-Feldfacetten so groß ist, dass ein jeweiliger Korrektur-Ausleuchtungskanal (16 i ) randseitig von der Korrektur-Pupillenfacette (29) so beschnitten ist, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel (16 i ) nicht vollständig von der Korrektur-Pupillenfacette (29) in das Objektfeld überführt wird. Mit der Beleuchtungsoptik ist ein Verfahren zum Vorgeben einer minimalen Beleuchtungsintensität von Beleuchtungslicht (16) über eine Querfeldkoordinate (x) eines Objektfeldes der Beleuchtungsoptik (4) durchführbar.
摘要翻译：用于EUV投影光刻的照明光学部件具有场分面镜和光瞳分面镜。经由通过场分完全是一个光源和物场之间的相应的照明通道的相应的有用的照明光子束（16I）和正好一个光瞳（29）中被引导。至少一些光瞳面，其可以被用作校正光瞳面（29）是如此之在它们的路径时的照明光的子光束（16I），其作用使得形成在图像位置处的光源的图象，其沿所述照明通道（16I）从瞳孔间隔开（29）所在的位置。对于至少一些可用的受控位移，与在信号连接所述位移致动器（31）相关联的校正场面场分的校正控制装置（32）被配置为使得用于场面的校正的校正位移路径是如此之大照明光子束（16I）是没有完全从校正光瞳（29）被转移到物场，关于校正瞳孔的边缘侧的相应的校正照明通道（16I）以这样的方式（29）切断。与照明光学系统，用于经由Querfeldkoordinate设定照明光（16）的最小照明强度的方法（x）的照明光学部件的物场（4）是可行的。

8. 发明申请

WO2019096654A1 PUPILLENFACETTENSPIEGEL, OPTISCHES SYSTEM UND BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019096654A1
公开(公告)日：2019-05-23
申请号：PCT/EP2018/080492
申请日：2018-11-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BIELING, Stig , ENDRES, Martin , FISCHER, Thomas
IPC分类号： G02B5/08 , G02B5/09 , G03F7/20
摘要： Bei einer Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer anamorphotisch abbildenden Projektionsoptik (7) mit nicht zugänglicher Eintrittspupille können unterschiedliche Anpassungen des Pupillenfacettenspiegels (14) und/oder dessen Pupillenfacetten (14a) und/oder dessen Abbildung mittels einer Übertragungsoptik (15) vorteilhaft sein.

9. 发明公开

EP3292441A1 FACETTENSPIEGEL FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE SOWIE BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM DERARTIGEN FACETTENSPIEGEL 有权
标题翻译：用于EUV投影光刻和照明光学设备的FACET MIRRORS
公开(公告)号：EP3292441A1
公开(公告)日：2018-03-14
申请号：EP16718368.0
申请日：2016-04-26
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： FISCHER, Thomas , WUNDERLICH, Sarina
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08 , G02B5/08 , G02B5/09
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70116 , G03F7/70825 , G03F7/70833
摘要： A faceted mirror for EUV projection lithography has a plurality of facets (25) for reflecting EUV illumination light. At least some of the facets (25) are produced as orientation facets and have a reflection surface (32), the edge contour (33) of which is oriented along two orientation coordinates (x, y) of a facet overall arrangement. The reflection surface (32) of at least one of the orientation facets (25) has a surface shape which has different curvatures along two axes of curvature (x', y'), wherein said axes of curvature (x', y') are tilted about an end axis tilt angle (α, β) in relation to the orientation coordinates (x, y) of the facet overall arrangement. A faceted mirror is achieved, the EUV performance of which is increased in particular when a projection illumination system fitted with said faceted mirror is operated for longer.

10. 发明公开

EP4204902A1 PUPIL FACET MIRROR FOR AN ILLUMINATION OPTICAL UNIT OF A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-实审
公开(公告)号：EP4204902A1
公开(公告)日：2023-07-05
申请号：EP21766454.9
申请日：2021-08-20
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： WINKLER, Alexander , ENDRES, Martin , PATRA, Michael , RAMOLLA, Michael , ISAAC, Annie , FISCHER, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08

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