专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2004019105A1 CATADIOPTRIC REDUCTION LENS HAVING A POLARIZATION BEAMSPLITTER 审中-公开
标题翻译：阴极减光透镜具有偏振光束
公开(公告)号：WO2004019105A1
公开(公告)日：2004-03-04
申请号：PCT/EP2002/011022
申请日：2002-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZACZEK, Christoph , MÜLDERS, Thomas
发明人： ZACZEK, Christoph , MÜLDERS, Thomas
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G02B27/283 , G03F7/70225
摘要： A catadioptric projection lens having a catadioptric lens section and a dioptric lens section is disclosed. Its catadioptric lens section comprises a concave mirror and a beam-deflecting device, which, in the case of one embodiment, comprises a physical beamsplitter having a polarization-beamsplitting surface, followed by a deflecting mirror. The reflectance curve of that beamsplitting surface for s-polarized light, and the reflectance of the deflecting mirror for lignt coming from the beamsplitter are adapted to suit one another such that large variations in that transmittance, T P BS , for incidence angles close to the beamsplitting coating's internal Brewster angle are compensated such that the total transmittance of the beam-deflecting device remains essentially constant over the entire utilized range of incidence angles. The resultant projection lens allows uniformly illuminating the image field, without incidence of apodization effects.
摘要翻译：公开了一种具有反射折射透镜部分和屈光透镜部分的反折射投影透镜。其反射折射透镜部分包括凹面镜和光束偏转装置，其在一个实施例的情况下包括具有偏振分束面的物理分束器，随后是偏转镜。用于s偏振光的分束表面的反射率曲线以及来自分束器的用于木质素的偏转镜的反射率适于彼此适应，使得该透射率的大变化T> P <θBS>用于入射补偿接近分束涂层内部布鲁斯特角的角度，使得光束偏转装置的总透射率在整个使用的入射角范围内保持基本恒定。所得到的投影透镜允许均匀地照射图像场，而不会影响变迹效果。

2. 发明申请

WO2006053705A1 VERFAHREN ZUM SCHUTZ EINES METALLSPIEGELS GEGEN DEGRADATION SOWIE METALLSPIEGEL 审中-公开
标题翻译：一种保护金属镜抗降解和金属镜
公开(公告)号：WO2006053705A1
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012197
申请日：2005-11-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜLLENDER, Angelika , HAIDL, Markus , FELDERMANN, Horst
发明人： ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜLLENDER, Angelika , HAIDL, Markus , FELDERMANN, Horst
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/11
CPC分类号： G02B5/283 , G02B1/111 , G02B5/0808
摘要： Bei einem Verfahren zum Schutz eines Metallspiegels für Ultraviolettstrahlung mit Wellenlängen zwischen ca. 120 nm und ca. 260 nm gegen Degradation von Reflexionseigenschaften durch Umwelteinflüsse wird ein Metallspiegel, der bei einer bevorzugten Ausführungsform eine Metallschicht aus Aluminium hat, mit einer Schutzschicht beschichtet, die bei einer bevorzugten Variante aus Chiolith (Na5AI3F14) besteht. Ein derartig dielektrisch geschützter Metallspiegel weist im Vergleich zu herkömmlichen dielektrisch geschützten Metallspiegeln eine geringere Degradation des Reflexionsvermögens bei Lagerung in Umgebungsatmosphäre auf. Auch die Beständigkeit gegen Degradation durch UV-Strahlung ist gegenüber herkömmlichen dielektrisch geschützten Metallspiegeln verbessert.
摘要翻译：在用于保护金属反射镜为约120nm至约260 nm至的反射特性由于环境影响降解之间的波长的紫外辐射的方法中，具有的铝金属层的金属镜，在一个优选实施例中，在涂有保护层锥冰晶石的优选的变体（Na5AI3F14）组成。这样的电介质保护层的金属反射镜，相对于传统的介质保护金属反射镜反射率的下降解当存储在环境大气中。另外，为了降解抗性通过UV辐射比常规的介电保护的金属反射镜提高。

3. 发明申请

WO2009143879A1 AN ELEMENT, IN PARTICULAR AN OPTICAL ELEMENT, FOR IMMERSION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：一个元素，特别是一个光学元素，用于倾斜图
公开(公告)号：WO2009143879A1
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：PCT/EP2008/010141
申请日：2008-11-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , SIX, Stephan , DÜSING, Rüdiger , FEDOSENKO, Gennady , VON PAPEN, Tilmann , ZACZEK, Christoph , HENSCHEL, Wolfgang
发明人： PAZIDIS, Alexandra , SIX, Stephan , DÜSING, Rüdiger , FEDOSENKO, Gennady , VON PAPEN, Tilmann , ZACZEK, Christoph , HENSCHEL, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20 , G02B1/10
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B3/06 , G02B13/143 , G02B17/0892 , G03F7/70341
摘要： The present invention relates to an optical element (1) having an optically free diameter, the optical element comprising: a material that is transparent to wavelengths in the ultraviolet region, at least one of an oleophobic coating (6, 7) outside of the optically free diameter and an oleophilic coating (9b, 9c) which is transparent to wavelengths in the UV region inside the optically free diameter, wherein at least one of the oleophobic coating (6, 7) and the oleophilic coating (9b, 9c) is at least one of microstructured and arranged on a microstructured surface (2, 4, 5) of the optical element (1). The present invention also relates to an element having at least one contact area that can be brought into contact with an immersion fluid, the contact area comprising a microstructure or nanostructure produced by material removal and/or comprising a coating stabilised with respect to UV irradiation.
摘要翻译：本发明涉及具有光学自由直径的光学元件（1），该光学元件包括：对紫外线区域的波长透明的材料，光学上外部的疏油涂层（6,7）中的至少一个自由直径和对光学自由直径内的UV区域中的波长透明的亲油性涂层（9b，9c），其中疏油涂层（6,7）和亲油涂层（9b，9c）中的至少一个处于至少一个微结构并布置在光学元件（1）的微结构化表面（2,4,5）上。本发明还涉及具有至少一个能够与浸没流体接触的接触区域的元件，所述接触区域包括通过材料去除产生的微结构或纳米结构和/或包括相对于UV照射而稳定的涂层。

4. 发明申请

WO2007065769A1 VERFAHREN ZUR BEARBEITUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTES SOWIE OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：方法处理的光学元件和ELEMENT
公开(公告)号：WO2007065769A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/EP2006/068319
申请日：2006-11-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , HIRNET, Alexander , FINK, Herbert , SCHMEREK, Dieter
发明人： PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , HIRNET, Alexander , FINK, Herbert , SCHMEREK, Dieter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bearbeitung eines optisches Elementes, welches ein Substrat (110) und ein auf diesem Substrat (110) aufgebrachtes Schichtsystem (120) aufweist, wobei das Schichtsystem (120) in einem Ausgangszustand eine Mehrzahl von Volumendefekten (130) aufweist, wobei das Verfahren den Schritt aufweist: Wenigstens teilweises Auffüllen wenigstens eines der Volumendefekte (130) mit einem Füllmaterial (140) . Die Erfindüng betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Elementes.
摘要翻译：本发明涉及包括处理包括衬底（110）的光学元件的方法和在所述衬底（110）施加的层系统（120），其中所述层系统（120）包括在初始状态的多个体积的缺陷（130）的，所述方法包括以下步骤：至少部分地填充体积的缺陷（130）与填充材料（140）中的至少一个。所述Erfindüng还涉及一种用于制造光学元件的方法。

5. 发明申请

WO2004025370A1 OPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM, INSBESONDERE KATADIOPTRISCHES REDUKTIONSOBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光影像系统，尤其是反折射缩小透镜
公开(公告)号：WO2004025370A1
公开(公告)日：2004-03-25
申请号：PCT/EP2003/009253
申请日：2003-08-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZACZEK, Christoph , MECKING, Birgit , ULLMANN, Jens , WAGNER, Christian
发明人： ZACZEK, Christoph , MECKING, Birgit , ULLMANN, Jens , WAGNER, Christian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70308 , G03F7/70566
摘要： Ein optisches Abbildungssystem, das beispielsweise als katadioptrisches Projektionsobjektiv ausgebildet sein kann, hat eine optische Achse, einen ersten Umlenkspiegel, der gegenüber der optischen Achse um einen ersten Kippwinkel gekippt ist und einen zweiten Umlenkspiegel, der gegenüber der optischen Achse um einen zweiten Kippwinkel gekippt ist. Bei einem der Umlenkspiegel ist ein Verhältnis Rsp zwischen dem Reflexionsgrad Rs für s-polarisiertes Licht und dem Reflexionsgrad Rp für p-polarisiertes Licht in einem den Kippwinkel umfassenden Inzidenzwinkelbereich größer als eins, während das entsprechende Verhältnis beim anderen Umlenkspiegel kleiner als eins ist. Dadurch kann eine polarisationsanhängige Beeinflussung des durchtretenden Lichtes durch die Umlenkspiegel gering gehalten werden.
摘要翻译：其可以例如为具有一个光轴的反射折射投影物镜形成的成像光学系统中，第一偏转镜，其由第一倾斜角和第二反射镜，其由一个第二倾斜角相对于光轴倾斜相对于光学轴线倾斜。在偏转镜中的一个是所述反射率R S为s偏振光和在入射角范围大于一的一个综合的倾斜角的反射率卢比为p偏振光之间的比率RSP，而在另一个偏转反射镜的相应比例是小于一。此可以保持低偏振未决通过反射镜影响透射光。

6. 发明申请

WO2002093209A3 OBJEKTIV MIT FLUORID-KRISTALL-LINSEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2002093209A3
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/005050
申请日：2002-05-08
申请人： CARL ZEISS , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
发明人： KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , ULRICH, Wilhelm , ENKISCH, Birgit , GERHARD, Michael , BRUNOTTE, Martin , WAGNER, Christian , KAISER, Winfried , MAUL, Manfred , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B1/02
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den{100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der (100)-Kristallrichtung auch in die (111)-oder in die (110)-Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung.

7. 发明申请

WO2010118928A1 MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：用于EUV波长范围的镜像，包含这种镜子的微型计算机的投影目标和包含这种投影目标的微观计算的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2010118928A1
公开(公告)日：2010-10-21
申请号：PCT/EP2010/053633
申请日：2010-03-19
申请人： Carl Zeiss SMT AG , PAUL, Hans-Jochen , BRAUN, Gerhard , MIGURA, Sascha , DODOC, Aurelian , ZACZEK, Christoph
发明人： PAUL, Hans-Jochen , BRAUN, Gerhard , MIGURA, Sascha , DODOC, Aurelian , ZACZEK, Christoph
IPC分类号： G02B5/08 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0875 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a mirror for the EUV wavelength range comprising a layer arrangement applied on a substrate, wherein the layer arrangement comprises a plurality of layer subsystems (P", P''') each consisting of a periodic sequence of at least one period (P 2 , P 3 ) of individual layers, wherein the periods (P 2 , P 3 ) comprise two individual layers composed of different material for a high refractive index layer (H'', H''') and a low refractive index layer (L'', L''') and have within each layer subsystem (P'', P''') a constant thickness (d 2 , d 3 ) that deviates from a thickness of the periods of an adjacent layer subsystem. The mirror is characterized in that the layer subsystem (P''') that is most distant from the substrate has a number (N 3 ) of periods (P 3 ) that is greater than the number (N 2 ) of periods (P 2 ) for the layer subsystem (P'') that is second most distant from the substrate and/or the layer subsystem (P''') that is most distant from the substrate has a thickness of the high refractive index layer (H''') that deviates by more than 0.1 nm from the thickness of the high refractive index layer (H'') of the layer subsystem (P'') that is second most distant from the substrate. The invention furthermore relates to a projection objective for rnicrolithography comprising such a mirror, and to a projection exposure apparatus comprising such a projection objective.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜，其包括施加在基板上的层布置，其中该层布置包括多个层子系统（P“，P”'），每个子系统由至少一个周期（P2，P3），其中周期（P2，P3）包括由用于高折射率层（H“，H”“）和低折射率层（L'）的不同材料组成的两个单独层， '，L“'），并且在每个层子系统（P”，P“”）内具有偏离相邻层子系统的周期的厚度的恒定厚度（d2，d3）。距离衬底最远的层子系统（P“”）具有比层子系统（P“”）的周期（P2）的数量（N 2）大的周期（P3）的数量（N3））距衬底最远的层和/或最远离衬底的层子系统（P“”）的厚度为 h的折射率层（H“）偏离距离衬底第二远的层子系统（P”）的高折射率层（H“）的厚度大于0.1nm。本发明还涉及一种用于微光刻的投影物镜，包括这种反射镜，以及包括这种投影物镜的投射曝光设备。

8. 发明申请

WO2009062665A2 OPTICAL ELEMENT FOR THE REFLECTION OF UV RADIATION, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING THE SAME 审中-公开
标题翻译：用于反射紫外线辐射的光学元件，其制造方法和包括其的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009062665A2
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：PCT/EP2008/009512
申请日：2008-11-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , FELDERMANN, Horst , HUBER, Peter
发明人： PAZIDIS, Alexandra , ZACZEK, Christoph , FELDERMANN, Horst , HUBER, Peter
IPC分类号： G02B5/08 , G02B17/08
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B5/0833 , G03F7/70316 , G03F7/70958
摘要： The invention relates to an optical element (1a, 1b) for the reflection of UV radiation at an operating wavelength below 250 nm, preferably at 193 nm, comprising: a substrate (2a, 2b), a reflective layer (3a, 3b) made of aluminum superimposed on the substrate (2a, 2b), the reflective aluminum layer (3a, 3b) not being transparent to UV radiation. The reflective aluminum layer (3a, 3b) is (111)-plane oriented, and the reflective optical element (1a, 1b) has a reflectivity of more than 85 %, preferably of more than 88 %, more preferably of more than 92 %, in at least a range of incident angles of 10°, preferably of 15°, at the operating wavelength. The invention also relates to an optical element having a reflective layer made from a material having a higher melting point than aluminum, to methods for producing such optical elements, and to optical arrangements comprising such optical elements.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在工作波长低于250nm，优选193nm下反射UV辐射的光学元件（1a，1b），包括：基底（2a，2b），制成的反射层（3a，3b）的铝叠加在基板（2a，2b）上，反射铝层（3a，3b）对UV辐射不透明。反射铝层（3a，3b）为（111）面取向，反射光学元件（1a，1b）的反射率大于85％，优选大于88％，更优选大于92％在工作波长的入射角至少为10°，优选为15°的范围内。本发明还涉及具有由具有比铝更高的熔点的材料制成的反射层的光学元件，以及用于制造这种光学元件的方法以及包括这种光学元件的光学装置。

9. 发明申请

WO2006133884A3 OPTICAL ELEMENT WITH AN ANTIREFLECTION COATING, PROJECTION OBJECTIVE, AND EXPOSURE APPARATUS COMPRISING SUCH AN ELEMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2006133884A3
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/EP2006/005630
申请日：2006-06-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra
发明人： ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra
IPC分类号： G02B1/11 , G02B1/02 , G03F7/20
摘要： An optical element (14) transparent for radiation with a wavelength λ in the ultraviolet wavelength range below 250 nm, in particular at 193 nm, comprises a substrate (17) with a refractive index ns larger than 1.6, and an antireflection coating (16) formed on at least part of the surface of the substrate (17) between the substrate (17) and an ambient medium with a refractive index n A, preferably with n A =1.0. The antireflection coating (16) consists of a single layer of a material with a refractive index n L of about n L = √n A n S , in particular n L > 1.3, and the optical thickness d L of the single layer is about λ/4. The optical element (14) is preferably part of a projection objective (5) in a microlithography projection exposure apparatus (1) and located adjacent to a light-sensitive substrate (10).

10. 发明申请

WO2003077007A3 OBJEKTIV MIT KRISTALL-LINSEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003077007A3
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2003/002549
申请日：2003-03-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GOEHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra , MECKING, Birgit , ZACZEK, Christoph , KRAEHMER, Daniel
发明人： GOEHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra , MECKING, Birgit , ZACZEK, Christoph , KRAEHMER, Daniel
IPC分类号： G02B1/02
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Redu-zierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den {100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der -Kristallrichtung auch in die - oder in die -Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung. In einem Ausführungsform wird die örtlichen Doppelbrechungverteilung der Beschichtung nach Abschluss des Beschichtungsvorganges durch lokal begrenzten Energieeintrag verändert.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式