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1. 发明申请

WO2010037778A1 STÜTZELEMENTE FÜR EIN OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：支持元件用于光学元件
公开(公告)号：WO2010037778A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/EP2009/062686
申请日：2009-09-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , WENGERT, Nicolai
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , WENGERT, Nicolai
IPC分类号： G02B7/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/003 , G02B7/02 , G03F7/70825
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Stützelement für ein optisches Element, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem Stützkörper, einem ersten Anschlusselement zum Anschluss des Stützkörpers an eine äußere Stützeinheit und einem zweiten Anschlusselement zum Anschluss des Stützkörpers an dem optischen Element. Das Stützelement ist dazu ausgebildet, mit weiteren Stützelementen nach Art einer Parallelkinematik zum Positionieren und Orientieren des optischen Elements bezüglich der äußeren Stützeinheit in sechs Freiheitsgraden zusammenzuwirken. Der Stützkörper umfasst eine Mehrzahl von ersten Biegegelenken, während das erste Anschlusselement und/oder das zweite Anschlusselement wenigstens ein zweites Biegegelenk aufweist, wobei jedes der ersten und zweiten Biegegelenke eine Biegeachse definiert. Über die Mehrzahl von ersten und zweiten Biegegelenken ist eine Bewegungseinschränkung des optischen Elements bezüglich der Stützeinheit in höchstens zwei Freiheitsgraden realisierbar. Jedes der ersten und zweiten Biegegelenke ist entlang der Biegeachse langgestreckt ausgebildet.
摘要翻译：本发明涉及一种支持元件用于光学元件，特别是用于微光刻，其包括支承体，该支承体连接到外部支撑单元和用于支承体连接到所述光学元件的第二连接元件的第一连接元件。所述支撑构件形成在用于定位和所述光学元件的定向的并联运动机构的方式进一步支撑元件相对于所述外部支撑单元在六个自由度的配合。所述支撑体包括：多个第一挠曲件，而所述第一连接元件和/或所述第二连接元件至少具有一第二弯曲接头，每个所述的确定一个弯曲轴的第一和第二挠曲件。在所述多个第一和第二弯曲的光学元件相对于所述支撑单元在多于两个自由度的移动限制被实现。所述第一和第二弯曲部中的每一个形成为沿着弯曲轴线伸长。

2. 发明申请

WO2006000352A1 POSITIONIEREINHEIT UND VORRICHTUNG ZUR JUSTAGE FÜR EIN OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：定位和装置调整的光学元件
公开(公告)号：WO2006000352A1
公开(公告)日：2006-01-05
申请号：PCT/EP2005/006583
申请日：2005-06-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEBER, Ulrich , KUGLER, Jens
发明人： WEBER, Ulrich , KUGLER, Jens
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G02B7/005 , G02B7/003 , G02B7/004 , G02B7/02 , G02B7/023 , G02B7/1822 , G03F7/7015 , G03F7/70258 , G03F7/70825
摘要： Eine Positioniereinheit für ein optisches Element in einer mikrolithhographischen Projektionsbelichtungsanlage ist mit einem ersten Verbindungsbereich (A, 22) zum Verbinden mit den optischen Elementen und einem zweiten Verbindungsbereich (B, 20) zum Verbinden mit einem Gegenstand in der Nähe des optischen Elements versehen. Wenigstens zwei Hebel sind über ihre jeweiligen Hebellager mit dem zweiten Verbindungsbereich und deren jeweiliger Lastarm mittels eines Gelenks über ein an diesen Gelenken angreifendes Zwischenelement (31, 33, 36) mit dem ersten Verbindungsbereich verbunden. An den jeweiligen Kraftarmen der Hebel sind Verstelleinrichtungen (28, 29) oder Aktuatoren angeordnet, wobei in einer ersten Stellung der erste Verbindungsbereich und der zweite Verbindungsbereich relativ zueinander so angeordnet sind, dass die Hebellager wenigstens zweier Hebel und die diesen Hebeln zugeordneten Gelenke etwa parallele Drehachsen aufweisen, die in der ersten Stellung etwa in einer Ebene liegen.
摘要翻译：一种用于在mikrolithhographischen投射曝光设备的光学元件的定位单元为与所述光学元件和用于与所述光学元件的附近的对象的连接的第二连接区域（B，20）连接设置有第一连接部（A，22）。至少两个杆绕其各自的杆轴承到第二连接区域，并且其相应的负载臂通过围绕在连接到所述第一连接部这些关节的中间元件（31，33，36）的联合攻击的手段。提供的调节装置上的控制杆（28，29）的各自的功率臂布置或致动器，其中，所述第一连接部和第二连接区域相对于彼此在第一位置绕旋转平行轴线布置，杠杆带有至少两个杆和相关联的这些杠杆关节其在于在一个平面中的第一位置近似。

3. 发明申请

WO2009024192A1 OPTICAL ELEMENT MODULE WITH MINIMIZED PARASITIC LOADS 审中-公开
标题翻译：具有最小化PARASIIC负载的光学元件模块
公开(公告)号：WO2009024192A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/EP2007/058787
申请日：2007-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , SCHAFFER, Dirk
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , SCHAFFER, Dirk
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/02 , G02B7/021 , G03F7/70825
摘要： There is provided an optical element module comprising an optical element unit comprising an optical element and a support structure, the support structure supporting the optical element unit and comprising a support device and a contact device mounted to the support device. The contact device exerts a resulting holding force onto the optical element unit in a first direction via a first contact surface of the contact device, the first contact surface contacting a second contact surface of the optical element unit. The contact device comprises a first linking section and a second linking section extending along a second direction running transverse to the first direction and being arranged kinematically in series between the first contact surface and the support device. The first linking section and the second linking section are elastically deformed in response to a bending moment resulting from the resulting holding force. The first linking section and the second linking section are arranged on opposite sides of a reference plane, the reference plane comprising the resulting holding force and running transverse to the second direction.
摘要翻译：提供了一种光学元件模块，其包括光学元件单元，该光学元件单元包括光学元件和支撑结构，支撑结构支撑光学元件单元并且包括支撑装置和安装到支撑装置的接触装置。接触装置经由接触装置的第一接触表面在第一方向上向光学元件单元施加所产生的保持力，第一接触表面接触光学元件单元的第二接触表面。接触装置包括第一连接部分和沿着横向于第一方向延伸的第二方向延伸的第二连接部分，并且在第一接触表面和支撑装置之间以运动方式串联布置。第一连接部分和第二连接部分响应于由所产生的夹持力产生的弯矩而弹性变形。第一连接部分和第二连接部分布置在参考平面的相对侧上，参考平面包括所产生的夹持力并横向于第二方向延伸。

4. 发明申请

WO2007112997A1 REFLECTING OPTICAL ELEMENT WITH ECCENTRIC OPTICAL PASSAGEWAY 审中-公开
标题翻译：用偏心光学通道反射光学元件
公开(公告)号：WO2007112997A1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/EP2007/002951
申请日：2007-04-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
发明人： SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70825
摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body (107.1, 108.1), a reflecting area (107.4, 108.4) and an optical passageway (107.6, 108.6). The optical element body defines an axis of rotational symmetry (107.3, 108.3). The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.
摘要翻译：提供了一种光学元件，包括光学元件主体（107.1,108.1），反射区域（107.4,108.4）和光学通道（107.6,108.6）。光学元件主体限定旋转对称轴（107.3,108.3）。反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

5. 发明申请

WO2005101131A1 SUPPORT DEVICE FOR POSITIONING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：用于定位光学元件的支撑装置
公开(公告)号：WO2005101131A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/EP2004/003920
申请日：2004-04-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , HAFENRICHTER, Sabine
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , HAFENRICHTER, Sabine
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023
摘要： Support device for positioning an optical element (2), in particular a lens, comprising a first frame unit (1.1) and a plurality of support units (1.2) for supporting said optical element (2), each of said support units (2) having a first end for fixedly engaging a part of said first frame unit (1.1) and a second end for supporting said optical element (2), said support units (1.2) being arranged for positioning said optical element (2) along a first direction, a second direction and a third direction in the manner of parallel kinematics, said first direction, said second direction and said third direction being translatory directions arranged mutually transverse to each other, wherein there are provided three support units (1.2) and wherein each of said support units (1.2) provides for restriction of a first degree of freedom and a second degree of freedom to support said optical element (2) in an isostatic manner.
摘要翻译：用于定位光学元件（2）的支撑装置，特别是透镜，包括用于支撑所述光学元件（2）的第一框架单元（1.1）和多个支撑单元（1.2），每个所述支撑单元（2）具有用于固定地接合所述第一框架单元（1.1）的一部分的第一端和用于支撑所述光学元件（2）的第二端，所述支撑单元（1.2）布置成用于沿着第一方向定位所述光学元件（2），平行运动学方式的第二方向和第三方向，所述第一方向，所述第二方向和所述第三方向是彼此相互横向布置的平移方向，其中设置有三个支撑单元（1.2），并且其中所述支撑单元（1.2）提供限制第一自由度和第二自由度以等静压方式支撑所述光学元件（2）。

6. 发明申请

WO2008064859A2 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：光学系统具有可交换的可操作的校正装置，用于减少图像抖动
公开(公告)号：WO2008064859A2
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010286
申请日：2007-11-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置，包括至少一个用于减小图像像差的操纵器（14），其中所述操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），所述至少一个光学元件可通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

7. 发明申请

WO2005054953A2 HOLDING DEVICE FOR AN OPTICAL ELEMENT IN AN OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：目标中的光学元件的保持装置
公开(公告)号：WO2005054953A2
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：PCT/EP2004/013228
申请日：2004-11-22
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , ASML NETHERLANDS B.V. , GELLRICH, Bernhard , WURMBRAND, Andreas , KUGLER, Jens , SCHOEPPACH, Armin , ZENGERLING, Christian , BRUYNOOGHE, Stephane
发明人： GELLRICH, Bernhard , WURMBRAND, Andreas , KUGLER, Jens , SCHOEPPACH, Armin , ZENGERLING, Christian , BRUYNOOGHE, Stephane
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： A holding device (6) for an optical element (5) in an objective (1) has a mount (4) that is connected to the objective (1) , on the one hand, and at least indirectly to the optical element (5), on the other hand. Arranged between the mount (4) and the optical element (5) is a reinforcing element (8) whose coefficient of thermal expansion corresponds substantially to the coefficient of thermal expansion of the optical element (5).
摘要翻译：一种用于物镜（1）中的光学元件（5）的保持装置（6）具有安装件（4），一方面连接到物镜（1），并且至少间接地连接到光学元件（5）），另一方面。安装件（4）和光学元件（5）之间的布置是其热膨胀系数基本上对应于光学元件（5）的热膨胀系数的增强元件（8）。

8. 发明申请

WO2009043573A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是投影目标的微观算法
公开(公告)号：WO2009043573A1
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/EP2008/008288
申请日：2008-09-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , SCHWERTNER, Tilman
发明人： KUGLER, Jens , SCHWERTNER, Tilman
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02 , G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B7/1822 , G03F7/70816
摘要： An optical system comprising at least one optical element (8, 80) is provided with adjusting elements. The optical element (8, 80) is connected to a rotatable carrying ring (12) via at least one connecting member (13) arranged on the carrying ring (12) directly or via one or a plurality of intermediate elements (14, 15) to the optical element (8). The rotatable carrying ring (12) is borne in a manner freely rotatable about an axis (z) relative to a fixed outer mount (9) or the optical element (8, 80) by means of a rotating device (16) wherein the outer mount (9), the rotatable carrying ring (12) and the connecting members (13) are constructed as rotatable kinematics in the form of parallel kinematics.
摘要翻译：包括至少一个光学元件（8,80）的光学系统设置有调节元件。光学元件（8,80）通过直接或经由一个或多个中间元件（14,15）布置在承载环（12）上的至少一个连接构件（13）连接到可旋转的承载环（12）到光学元件（8）。可旋转的承载环（12）以相对于固定的外部安装件（9）或光学元件（8,80）的轴线（z）可旋转的装置（16）承载，其中外部安装件（9），可旋转承载环（12）和连接构件（13）构造为平行运动学形式的可旋转运动学。

9. 发明申请

WO2007031413A2 OPTICAL ELEMENT UNIT FOR EXPOSURE PROCESSES 审中-公开
标题翻译：用于暴露过程的光学元件单元
公开(公告)号：WO2007031413A2
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/065892
申请日：2006-08-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , SCHWERTNER, Tilmann , BINGEL, Ulrich , LIMBACH, Guido , KALLER, Julian , SCHAFFER, Dirk , SCHERLE, Hans-Jürgen , GELLRICH, Bernhard
发明人： KUGLER, Jens , SCHWERTNER, Tilmann , BINGEL, Ulrich , LIMBACH, Guido , KALLER, Julian , SCHAFFER, Dirk , SCHERLE, Hans-Jürgen , GELLRICH, Bernhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B27/0006 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70883 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , Y10T29/49
摘要： There is provided an optical element unit comprising at least a first optical element module and a sealing arrangement: The first optical element module occupies a first module space and comprises a first module component of a first component type and an associated second module component of a second component type, the first component type being optical elements and the second component type being different from the first component type. The sealing arrangement separates the first module space into a first space and a second space and substantially prevents, at least in a first direction, the intrusion of substances from one of the first space and the second space into the other one of the first space and the second space. The first module component at least partially contacts the first space and, at least in its area optically used, not contacting the second space. The second module component at least partially contacts the second space.
摘要翻译：提供了一种光学元件单元，其至少包括第一光学元件模块和密封装置：第一光学元件模块占据第一模块空间并且包括第一部件类型的第一模块部件和第二组件类型的相关联的第二模块组件，第一组件类型是光学元件，并且第二组件类型不同于第一组件类型。密封装置将第一模块空间分隔成第一空间和第二空间，并且基本上至少在第一方向上防止物质从第一空间和第二空间中的一个空间侵入第一空间中的另一个中，以及第二个空间。第一模块组件至少部分地接触第一空间并且至少在其光学使用的区域中不接触第二空间。第二模块部件至少部分地接触第二空间。

10. 发明申请

WO2005116773A1 OPTIKMODUL FÜR EIN OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光学模块的透镜
公开(公告)号：WO2005116773A1
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：PCT/EP2005/005600
申请日：2005-05-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , SORG, Franz
发明人： KUGLER, Jens , SORG, Franz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B19/0023 , G02B7/00 , G02B7/021 , G02B7/023 , G02B7/026 , G02B7/182 , G02B17/0605 , G02B17/0615 , G03F7/70825
摘要： Optikmodul für ein Objektiv, insbesondere für eine Mikrolithographieeinrichtung, umfassend eine erste Halteeinrichtung (2) mit einem inneren Umfang (2.1), der sich in einer ersten Umfangsrichtung (2.2) erstreckt, und wenigstens eine an dem inneren Umfang (2.1) der ersten Halteeinrichtung (2) befestigte erste Stützeinrichtung (3.1) zum Stützen eines ersten optischen Elements (5.1), wobei durch einmalig umlaufende Verschiebung der ersten Stützeinrichtung (3.1) entlang der ersten Umfangsrichtung (2.2) ein ringartig umlaufender erster Bauraum (3.18) definiert ist, und wobei wenigstens eine an dem inneren Umfang (2.1) der ersten Halteeinrichtung (2) befestigte zweite Stützeinrichtung (3.2) zum Stützen eines zwei ten optischen Elements (5.2) vorgesehen ist, durch einmalig umlaufende Verschiebung der zweiten Stützeinrichtung (3.2) entlang der ersten Umfangsrichtung (2.2) ein ringartig umlaufender zweiter Bauraum (3.28) definiert ist, und der erste Bauraum (3.18) den zweiten Bauraum (3.28) schneidet.
摘要翻译：用于透镜的光学模块，特别是用于微光刻设备包括具有内周（2.1），其延伸在第一周向（2.2）的第一保持装置（2），和至少一个在所述第一保持装置的内周面（2.1）（ 2）安装于用于支承第一光学元件（5.1），其中，通过沿所述第一周向的第一支撑装置（3.1）的独特周向位移（2.2）的环形周向第一空间（3.18）第一支承装置（3.1）的定义，并且其中至少固定有（2）上的第二支撑装置（3.2）设有用于支撑两个光学元件（5.2），通过沿着第一圆周方向上的第二支撑装置（3.2）的独特周向位移的第一保持装置的内周（2.1）（2.2）的环形圆周的第二空间（28.3）被定义，并且第一空间（3.18）第二巴 uraum（3.28），相交。

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